JPS6346380A - 複式ガス雰囲気熱処理炉設備の操業方法 - Google Patents
複式ガス雰囲気熱処理炉設備の操業方法Info
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- JPS6346380A JPS6346380A JP18914686A JP18914686A JPS6346380A JP S6346380 A JPS6346380 A JP S6346380A JP 18914686 A JP18914686 A JP 18914686A JP 18914686 A JP18914686 A JP 18914686A JP S6346380 A JPS6346380 A JP S6346380A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 41
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- 239000007789 gas Substances 0.000 description 43
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 32
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000011017 operating method Methods 0.000 description 3
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Landscapes
- Tunnel Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、炉内に高圧の雰囲気ガスを注入して所定の熱
処理を行なう形式のガス雰囲気熱処理炉を複数配備した
設備における操業方法に関するものである。
処理を行なう形式のガス雰囲気熱処理炉を複数配備した
設備における操業方法に関するものである。
第3図は従来の熱処理炉およびそれに付随する装置の一
例を示す図である。図中符号1は密封可能な構造であっ
てかつ内部にヒータ等の加熱手段を有する熱処理炉を示
す。熱処理炉1にはバルブ2aが介装された配管2を介
して真空ポンプ3が接続され、かつ、バルブ4aが介装
された配管4を介して雰囲気ガス供給源5が接続されて
いる。
例を示す図である。図中符号1は密封可能な構造であっ
てかつ内部にヒータ等の加熱手段を有する熱処理炉を示
す。熱処理炉1にはバルブ2aが介装された配管2を介
して真空ポンプ3が接続され、かつ、バルブ4aが介装
された配管4を介して雰囲気ガス供給源5が接続されて
いる。
さらに、熱処理炉1はバルブ6aが介装された配管6を
介して大気に開放されるようになっている。
介して大気に開放されるようになっている。
上記装置の一般的な使用方法について第4図を参照しな
がら説明する。
がら説明する。
Sl :炉蓋を開き、熱処理炉1内に被処理物をセット
した後、炉蓋を閉じる。
した後、炉蓋を閉じる。
Sl :バルブ2aを開き、真空ポンプ3を駆動させて
炉内を頁空引きする。
炉内を頁空引きする。
S3 :バルブ4aを開き雰囲気ガス供給源5から炉内
にガスを供給する。
にガスを供給する。
S4 :炉内を加熱手段によって加熱昇温する。
S5 :炉内を一定温度に保つ。
S6 :加熱を停止する。
S7 :炉内を雰囲気ガス環境下で冷却する。
S8 二上記冷却が終わった時点で熱処理が完了する。
S9 :バルブ6aを間き配管6を介して炉外にガスを
排出し、炉内を大気圧に戻す。
排出し、炉内を大気圧に戻す。
S+o:その後炉蓋を開いて被処理物を取り出す。
以上が第3図に示す熱処理炉の一般的な操業サイクルで
ある。実際の操業では該サイクルが繰り返される。
ある。実際の操業では該サイクルが繰り返される。
ところで、最近、セラミックスの開発が著しいが、それ
らセラミックスを高温熱処理炉で焼結させる場合、製品
の品質向上のため、従来10Kg/m程度であった炉内
の雰囲気ガス圧を、100〜300に9 / ciとい
った11圧まで高めて処理する傾向にある。このように
高圧の雰囲気ガス下で熱処理する場合には、前述したよ
うな、炉内のガスを大気に排出する従来の操業方法であ
るとガス消費量が著しく増加することとなり、しかも。
らセラミックスを高温熱処理炉で焼結させる場合、製品
の品質向上のため、従来10Kg/m程度であった炉内
の雰囲気ガス圧を、100〜300に9 / ciとい
った11圧まで高めて処理する傾向にある。このように
高圧の雰囲気ガス下で熱処理する場合には、前述したよ
うな、炉内のガスを大気に排出する従来の操業方法であ
るとガス消費量が著しく増加することとなり、しかも。
それら使用する雰囲気ガスは、N2 、Ar 、82な
どの高価な高純度のガスであるため、コスト高を招くこ
ととなる。
どの高価な高純度のガスであるため、コスト高を招くこ
ととなる。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、雰囲気ガス
の消費量を少なくすることができ、コスト低減が図れ、
かつ、熱回収も図れる複式ガス雰囲気熱処理炉設備の操
業方法を提供することを目的とする。
の消費量を少なくすることができ、コスト低減が図れ、
かつ、熱回収も図れる複式ガス雰囲気熱処理炉設備の操
業方法を提供することを目的とする。
本発明では、熱処理炉の1サイクルでの炉内の圧力変化
に着目し、熱処理炉を複数配備するとともに、それら炉
同士を連絡パイプにより互いにガスの流通が可能なよう
に接続し、前記炉のうち少なくとも1つが高圧状態のと
き他の1つが低圧状態となるよう8炉の操業サイクルを
設定し、高圧状態と低圧状態が入れ替わる炉の間で、前
記連絡パイプにより高圧側の炉から低圧側の炉にガスを
自然流入させるように構成した。
に着目し、熱処理炉を複数配備するとともに、それら炉
同士を連絡パイプにより互いにガスの流通が可能なよう
に接続し、前記炉のうち少なくとも1つが高圧状態のと
き他の1つが低圧状態となるよう8炉の操業サイクルを
設定し、高圧状態と低圧状態が入れ替わる炉の間で、前
記連絡パイプにより高圧側の炉から低圧側の炉にガスを
自然流入させるように構成した。
複数の熱処理炉のうちの1つで行う高温高圧下での熱処
理工程が完了した時点で、残る他の熱処理炉内での高温
高圧下での熱処理工程が始まる。
理工程が完了した時点で、残る他の熱処理炉内での高温
高圧下での熱処理工程が始まる。
このとき、バルブ調整により両者をつないでいる連結パ
イプが開放され、高圧側の炉から低圧側の炉に雰囲気ガ
スが自然流入する。
イプが開放され、高圧側の炉から低圧側の炉に雰囲気ガ
スが自然流入する。
すなわち、−の熱処理炉の内部を高圧条件下に保ってい
た雰囲気ガスは、他側の熱処理炉内に流れ込んで、同他
側の熱処理炉内を高圧条件下に保つのに供される。この
ように従来の操業方法において、排出していた雰囲気ガ
スを有効に回収することができ、雰囲気ガスの消費量を
減じ得るばかりか、該雰囲気ガスが持つ熱エネルギーの
回収も図れることとなる。
た雰囲気ガスは、他側の熱処理炉内に流れ込んで、同他
側の熱処理炉内を高圧条件下に保つのに供される。この
ように従来の操業方法において、排出していた雰囲気ガ
スを有効に回収することができ、雰囲気ガスの消費量を
減じ得るばかりか、該雰囲気ガスが持つ熱エネルギーの
回収も図れることとなる。
以下、本発明の一実施例を第1図および第2図を参照し
て説明する。
て説明する。
第1図は本発明を実施するのに好適な複式ガス雰囲気熱
処理炉設備を示す図である。
処理炉設備を示す図である。
本発明方法を説明する前に、この熱処理炉設備について
説明する。
説明する。
第1図において、符号11は第1の焼結炉、12は第2
の焼結炉である。これらの炉は共に同一構成とされたも
のであり、セラミックス焼結用として供されるものであ
る。また、これらの炉11゜12は密封可能であってか
つ内部にヒータ等の加熱手段を有する構造となっている
。さらに、それらの炉11.12には図示せぬ定圧装置
および温度制御装置が付設され、炉内が例えばN2雰囲
気ガス下において2,200℃、 9.5Kff /
cdの高温高圧環境下に保たれる構造となっている。
の焼結炉である。これらの炉は共に同一構成とされたも
のであり、セラミックス焼結用として供されるものであ
る。また、これらの炉11゜12は密封可能であってか
つ内部にヒータ等の加熱手段を有する構造となっている
。さらに、それらの炉11.12には図示せぬ定圧装置
および温度制御装置が付設され、炉内が例えばN2雰囲
気ガス下において2,200℃、 9.5Kff /
cdの高温高圧環境下に保たれる構造となっている。
内炉11.12間には互いの炉内を連通ずる連結パイプ
13が設けられ、該連結パイプ13には開閉バルブ13
aが介装されている。
13が設けられ、該連結パイプ13には開閉バルブ13
aが介装されている。
また、雨戸11.12は各単独に真空引き、雰囲気ガス
供給および大気開放が行える構造となっている。
供給および大気開放が行える構造となっている。
すなわち、熱処理炉11.12はそれぞれバルブ14a
、15aが介装された配管14.15を介して真空ポン
プ16に並列的に接続され、また、バルブ17a、18
aが介装された配管17,18を介して高圧ガス発生源
19に並列的に接続されている。
、15aが介装された配管14.15を介して真空ポン
プ16に並列的に接続され、また、バルブ17a、18
aが介装された配管17,18を介して高圧ガス発生源
19に並列的に接続されている。
また、熱処理炉11は一端が大気に開放された配管20
に接続され、該配管20にはバルブ20aが介装されて
いる。他方、熱処理炉12も一端が大気に開放された配
管21に接続され、該配管21にはバルブ21aが介装
されている。
に接続され、該配管20にはバルブ20aが介装されて
いる。他方、熱処理炉12も一端が大気に開放された配
管21に接続され、該配管21にはバルブ21aが介装
されている。
次に、上記装置を用いた本発明方法の実施について第2
図(a)、(b)を参照しながら説明する。
図(a)、(b)を参照しながら説明する。
第2図(a)は第1の焼結炉の操業パターン、第2図(
b、)は第2の焼結炉の操業パターンである。双方の炉
の操業パターンは共に略同じであり、一方の炉内が高圧
状態のとき他方の炉内が低圧状態となるよう、スタート
時間がずらされていることのみ異なる。
b、)は第2の焼結炉の操業パターンである。双方の炉
の操業パターンは共に略同じであり、一方の炉内が高圧
状態のとき他方の炉内が低圧状態となるよう、スタート
時間がずらされていることのみ異なる。
まず、第1の焼結炉11において炉内に被処理物をセッ
トする(時間to)。
トする(時間to)。
第1の焼結炉11に通じる配管に介装されたバルブ14
aを開くとともに、第2の焼結炉側のバルブ15aを閉
じ、この状態で、真空ポンプ16を駆動させて第1の焼
結炉11内を真空引きする(時間1+)。
aを開くとともに、第2の焼結炉側のバルブ15aを閉
じ、この状態で、真空ポンプ16を駆動させて第1の焼
結炉11内を真空引きする(時間1+)。
バルブ14a、18aを開じるとともにバルブ17aを
開き、高圧ガス供給源19から高圧ガスを導入して第1
の焼結炉11内を所定圧まで高める(時間t2)。
開き、高圧ガス供給源19から高圧ガスを導入して第1
の焼結炉11内を所定圧まで高める(時間t2)。
加熱手段を作動させて第1の焼結炉11内を加熱昇温す
る。
る。
炉内に組み込んだ定圧装置を作動させ、炉内の圧力を一
定に保つ(時間t3)。
定に保つ(時間t3)。
炉内に組み込んだ温度制alt装置により、炉内の温度
を一定に保つ(時間j4)。
を一定に保つ(時間j4)。
加熱を停止する。このとき、第2の焼結炉にも被処理物
をセットし、予め炉内を真空引きしておく(時間ts)
。
をセットし、予め炉内を真空引きしておく(時間ts)
。
バルブ13aを開き、雨戸内の圧力差を利用し連結パイ
プ13を通じて第1の焼結炉11内の雰囲気ガスを第1
の焼結炉12へ、双方の圧力がバランスするまで移動さ
せる(時間is)。
プ13を通じて第1の焼結炉11内の雰囲気ガスを第1
の焼結炉12へ、双方の圧力がバランスするまで移動さ
せる(時間is)。
ガス移動が完了した時点でバルブ13aを閉じ、第1の
焼結炉11内を密閉状態に保ったまま、炉内を冷却させ
る(時間t1)。
焼結炉11内を密閉状態に保ったまま、炉内を冷却させ
る(時間t1)。
上記冷却が完了すると、バルブ20aを開き配管20を
通して第1の焼結rii内を大気に開放させ、炉内を大
気圧まで下げる(時間ts)。
通して第1の焼結rii内を大気に開放させ、炉内を大
気圧まで下げる(時間ts)。
炉蓋を開き被熱処理物を取り出すとともに、新たな被熱
処理物を類11内にセットする(時間t9)。
処理物を類11内にセットする(時間t9)。
以上が第1の焼結炉11の操業パターンの1サイクルで
ある。
ある。
一方、第1の焼結炉12においては、第1の焼結炉11
から雰囲気ガスが尋人される際、そのガス量だけでは不
足するので、該ガス導入が完了した時点で、昇温時にお
いて炉内が所定の圧力が保てる程度のガス量を、ガス供
給源19から補給する(時間t6)。
から雰囲気ガスが尋人される際、そのガス量だけでは不
足するので、該ガス導入が完了した時点で、昇温時にお
いて炉内が所定の圧力が保てる程度のガス量を、ガス供
給源19から補給する(時間t6)。
第2の焼結炉12に対しても第1の焼結炉11と同様な
操業パターンを行わせる。このとき、第2の焼結炉12
内でのtbm高圧下での熱処理が完了した時点で、前述
とは逆に第2の焼結炉12内の雰囲気ガスを、バルブ1
3aを開き連結パイプ13を通じて、予めこの時間に合
わせて真空引きした第1の焼結炉11内に導入する(時
間L+o)。
操業パターンを行わせる。このとき、第2の焼結炉12
内でのtbm高圧下での熱処理が完了した時点で、前述
とは逆に第2の焼結炉12内の雰囲気ガスを、バルブ1
3aを開き連結パイプ13を通じて、予めこの時間に合
わせて真空引きした第1の焼結炉11内に導入する(時
間L+o)。
以下、前述の如く、双方の炉11.12の間で雰囲気ガ
スの回収を交互に行いながら、連続運転する。
スの回収を交互に行いながら、連続運転する。
なお、上記実施例では、熱処理炉が2個の場合を例にと
って説明したが、熱処理炉が3個以上ある場合にも勿論
本発明方法は適用できる。
って説明したが、熱処理炉が3個以上ある場合にも勿論
本発明方法は適用できる。
以上説明したように本発明によれば、複数配備した熱処
理炉間をバルブを備えた連絡パイプにより互いにガスの
流通が可能なように接続し、前記類のうち少なくとも1
つが高圧状態のとき他の1つが低圧状態となるよう8炉
の操業サイクルを設定し、高圧状態と低圧状態が入れ替
わる炉の間で前記連絡パイプにより高圧側の炉から低圧
側の炉にガスを自然流入させるようにしたから、従来の
操業方法において、排出していた雰囲気ガスを有効に回
収することができ、雰囲気ガスの消費間を減じ得るばか
りか、該雰囲気ガスが持つ熱エネルギーの回収も図れる
こととなった。
理炉間をバルブを備えた連絡パイプにより互いにガスの
流通が可能なように接続し、前記類のうち少なくとも1
つが高圧状態のとき他の1つが低圧状態となるよう8炉
の操業サイクルを設定し、高圧状態と低圧状態が入れ替
わる炉の間で前記連絡パイプにより高圧側の炉から低圧
側の炉にガスを自然流入させるようにしたから、従来の
操業方法において、排出していた雰囲気ガスを有効に回
収することができ、雰囲気ガスの消費間を減じ得るばか
りか、該雰囲気ガスが持つ熱エネルギーの回収も図れる
こととなった。
第1図は本発明を実施するのに好適な装dの一例を示す
概略構成図、第2図(a)、(b)は本発明方法による
操業パターンを示す図、第3図は従来の熱処理炉および
その付属装置の構造を示す図、第4図は同熱処理炉の操
業を説明するフローチty−ト図である。 11・・・・・・第1の焼結炉、12・・・・・・第2
の焼結炉、13・・・・・・連結パイプ、 13a・・
・・・・バルブ、16・・・・・・真空ポンプ、 19
・・・・・・高圧ガス供給源。 出願人 石川島播磨重工業株式会社 ゛にミニーソ 第2図 第8図 ス
概略構成図、第2図(a)、(b)は本発明方法による
操業パターンを示す図、第3図は従来の熱処理炉および
その付属装置の構造を示す図、第4図は同熱処理炉の操
業を説明するフローチty−ト図である。 11・・・・・・第1の焼結炉、12・・・・・・第2
の焼結炉、13・・・・・・連結パイプ、 13a・・
・・・・バルブ、16・・・・・・真空ポンプ、 19
・・・・・・高圧ガス供給源。 出願人 石川島播磨重工業株式会社 ゛にミニーソ 第2図 第8図 ス
Claims (1)
- 炉内に高圧の雰囲気ガスを注入して所定の熱処理を行な
う形式のガス雰囲気炉を複数配備した設備において、各
熱処理炉間をバルブを備えた連絡パイプにより互いにガ
スの流通が可能なように接続し、前記炉のうち少なくと
も1つが高圧状態のとき他の1つが低圧状態となるよう
各炉の操業サイクルを設定し、高圧状態と低圧状態が入
れ替わる炉の間で前記連絡パイプにより高圧側の炉から
低圧側の炉にガスを自然流入させることを特徴とする複
式ガス雰囲気熱処理炉設備の操業方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18914686A JPS6346380A (ja) | 1986-08-12 | 1986-08-12 | 複式ガス雰囲気熱処理炉設備の操業方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18914686A JPS6346380A (ja) | 1986-08-12 | 1986-08-12 | 複式ガス雰囲気熱処理炉設備の操業方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6346380A true JPS6346380A (ja) | 1988-02-27 |
Family
ID=16236190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18914686A Pending JPS6346380A (ja) | 1986-08-12 | 1986-08-12 | 複式ガス雰囲気熱処理炉設備の操業方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6346380A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003051505A (ja) * | 2001-06-01 | 2003-02-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 熱処理装置及び熱処理方法 |
US7879693B2 (en) | 2001-06-01 | 2011-02-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thermal treatment equipment and method for heat-treating |
US7974524B2 (en) | 2001-03-16 | 2011-07-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Heat treatment apparatus and heat treatment method |
-
1986
- 1986-08-12 JP JP18914686A patent/JPS6346380A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7974524B2 (en) | 2001-03-16 | 2011-07-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Heat treatment apparatus and heat treatment method |
US9666458B2 (en) | 2001-03-16 | 2017-05-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Heat treatment apparatus and heat treatment method |
JP2003051505A (ja) * | 2001-06-01 | 2003-02-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 熱処理装置及び熱処理方法 |
US7879693B2 (en) | 2001-06-01 | 2011-02-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thermal treatment equipment and method for heat-treating |
US7923352B2 (en) | 2001-06-01 | 2011-04-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thermal treatment equipment and method for heat-treating |
US8318567B2 (en) | 2001-06-01 | 2012-11-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Thermal treatment equipment and method for heat-treating |
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