JPS6343387B2 - - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式
で表わされるピロリジン−2−オン類<>及び
式 で表わされる対応のピロリジン類<>に係わ
る。但し、R1=水素、アルキル、置換アルキル、
アリール、置換アリール、アシルまたはアロイ
ル;R3=水素、アルキル、置換アルキル、アリ
ールまたは置換アリール;R4=アリール、置換
アリール、アルキルまたは置換アルキル;R5=
水素、アルキル、置換アルキル、アリールまたは
置換アリール、及びR5′=水素、アルキルまたは
置換アルキルであり、上記化合物には興味深い
CNS作用(中枢神経系作用)を呈する各種の公
知化合物が含まれている〔アルキウム・イムノロ
ギアエ・エト・テラピアエ・エクスペリメンタリ
ス(Archivum Immunologiae et Terapiae
Experimentalis:臨床及び実験免疫学誌)、1975
年、第23号、第733頁〜第751頁〕。式<>の化
合物の多くはプロスタグランジン類似の作用を呈
する(ドイツ公開公報第2527989号)。
式 で表わされる対応のピロリジン類<>に係わ
る。但し、R1=水素、アルキル、置換アルキル、
アリール、置換アリール、アシルまたはアロイ
ル;R3=水素、アルキル、置換アルキル、アリ
ールまたは置換アリール;R4=アリール、置換
アリール、アルキルまたは置換アルキル;R5=
水素、アルキル、置換アルキル、アリールまたは
置換アリール、及びR5′=水素、アルキルまたは
置換アルキルであり、上記化合物には興味深い
CNS作用(中枢神経系作用)を呈する各種の公
知化合物が含まれている〔アルキウム・イムノロ
ギアエ・エト・テラピアエ・エクスペリメンタリ
ス(Archivum Immunologiae et Terapiae
Experimentalis:臨床及び実験免疫学誌)、1975
年、第23号、第733頁〜第751頁〕。式<>の化
合物の多くはプロスタグランジン類似の作用を呈
する(ドイツ公開公報第2527989号)。
従来、ピロリジン−2−オン類<>は対応の
4−アミノ酪酸または式 で表わされるエステル<>及び4−ハロゲノ−
ブチルアミドの閉環、ラクトンとアミンとの反
応、または2−イミノ−ピロリジンの加水分解に
より調製されて来た(英国特許第1350582号及び
米国特許第4012495号)。
4−アミノ酪酸または式 で表わされるエステル<>及び4−ハロゲノ−
ブチルアミドの閉環、ラクトンとアミンとの反
応、または2−イミノ−ピロリジンの加水分解に
より調製されて来た(英国特許第1350582号及び
米国特許第4012495号)。
式<>及び<>で表わされる化合物の上記
公知製法はその収率、種々の位置に於ける置換分
の種類に制約があり、純粋な立体異性体及び光学
異性体を生成するのが困難であつた。
公知製法はその収率、種々の位置に於ける置換分
の種類に制約があり、純粋な立体異性体及び光学
異性体を生成するのが困難であつた。
本発明ではR1、R3、R4、R5及びR5′が上記内容
を表わすとして式 で表わされる3−ピロリン−2−オン類<>
を、適当な、随意ではあるが光学活性を有する触
媒〔アンゲヴアンテ・ケミー(Angew.Chem.;
応用化学)第83号、第956頁、1971年〕または<
>のC−5の非対称中心を利用しながら水素添
加することにより、式<>、即ち、 で表わされ、異性化後なら で表わされる3−4−シス−置換ピロリジン−2
−オン類、また随意にその光学活性体を調製す
る。
を表わすとして式 で表わされる3−ピロリン−2−オン類<>
を、適当な、随意ではあるが光学活性を有する触
媒〔アンゲヴアンテ・ケミー(Angew.Chem.;
応用化学)第83号、第956頁、1971年〕または<
>のC−5の非対称中心を利用しながら水素添
加することにより、式<>、即ち、 で表わされ、異性化後なら で表わされる3−4−シス−置換ピロリジン−2
−オン類、また随意にその光学活性体を調製す
る。
3−ピロリン−2−オン類<>の水素添加に
よるピロリジン−2−オン類<>の調製に伴な
う大きな困難点の1つは3−ピロリン−2−オン
類<>自体を調製することの難しさにある。
よるピロリジン−2−オン類<>の調製に伴な
う大きな困難点の1つは3−ピロリン−2−オン
類<>自体を調製することの難しさにある。
従つて本発明は式<>で表わされる化合物の
一般的製法にも係わり、本発明ではこれを式 で表わされるN−アロイルメチルアセトアミド類
<>を閉環して、これと対応の式<>で表わ
される化合物を形成することによつて達成する。
本発明に於て、前記閉環反応は塩基性条件下で行
なわれる。例えばt−ブタノールに溶かしたカリ
ウム−t−ブトキシドを塩基として用いて窒素雰
囲気下で閉環反応をした後、例えばHClのような
無機酸で酸性化し、水で薄めるか、あるいは式 で表わされる対応の臭化燐<>を塩基性媒質
中で閉環して上記式<>で表わされる対応の化
合物を得る。
一般的製法にも係わり、本発明ではこれを式 で表わされるN−アロイルメチルアセトアミド類
<>を閉環して、これと対応の式<>で表わ
される化合物を形成することによつて達成する。
本発明に於て、前記閉環反応は塩基性条件下で行
なわれる。例えばt−ブタノールに溶かしたカリ
ウム−t−ブトキシドを塩基として用いて窒素雰
囲気下で閉環反応をした後、例えばHClのような
無機酸で酸性化し、水で薄めるか、あるいは式 で表わされる対応の臭化燐<>を塩基性媒質
中で閉環して上記式<>で表わされる対応の化
合物を得る。
尚、この明細書に於ける用語の定義は下記の通
りである。
りである。
アロイル=アリール−CO−;
アシル=アルキル(マイナス1C)−CO−;
アリール=フエニル、ピリジル、フリル、チエニ
ル、N−アルキルピロリルまたはN−アリール
ピロリル、及び対応のベンゾ誘導体、即ち、ナ
フチル、キノリルなど; アルキル=C1〜C16の炭化水素; 置換分(5個またはそれ以下の同一または混合置
換分)=アルキル、ハロアルキル(例えばF3C
−)、O−アルキル、N−ジアルキル(同種ま
たは異種)、S−アルキル、ハロゲン、O−ベ
ンジル、N−ジベンジル、N−アルキル/ベン
ジル、S−ベンジル、O−アリール、S−アリ
ール、N−ジアリール、N−アルキル/ベンジ
ル/アリール、OH、NH2、SH(最後の3つは
塩基性環形成時に保護される)。
ル、N−アルキルピロリルまたはN−アリール
ピロリル、及び対応のベンゾ誘導体、即ち、ナ
フチル、キノリルなど; アルキル=C1〜C16の炭化水素; 置換分(5個またはそれ以下の同一または混合置
換分)=アルキル、ハロアルキル(例えばF3C
−)、O−アルキル、N−ジアルキル(同種ま
たは異種)、S−アルキル、ハロゲン、O−ベ
ンジル、N−ジベンジル、N−アルキル/ベン
ジル、S−ベンジル、O−アリール、S−アリ
ール、N−ジアリール、N−アルキル/ベンジ
ル/アリール、OH、NH2、SH(最後の3つは
塩基性環形成時に保護される)。
米国特許第3272842号はいくつかの3−ピリロ
リン−2−オン類<>を下記シーケンスに従つ
て調製することを開示している。
リン−2−オン類<>を下記シーケンスに従つ
て調製することを開示している。
但しR5及びR5′は水素ではなく、R4は常にS−
CH2−(S=置換分)である。米国特許第3272842
号の実施例に従つてR4=アリールまたは置換ア
リール、R5及び/またはR5′=水素で<>の環
形成を試みても、置換分が異なるため環形成が進
行しないか、または黄色化合物(二量体であると
考えられる)が生成するから、本発明に係わる化
合物に応用できなかつた。
CH2−(S=置換分)である。米国特許第3272842
号の実施例に従つてR4=アリールまたは置換ア
リール、R5及び/またはR5′=水素で<>の環
形成を試みても、置換分が異なるため環形成が進
行しないか、または黄色化合物(二量体であると
考えられる)が生成するから、本発明に係わる化
合物に応用できなかつた。
3−ピロリン−2−オン類<>は従来下記の
反応シーケンスに従つて調製されて来た〔ジー・
ストーク(G.Stork)及びアール・マシユーズ
(R.Matthews)、ケミカルコミユニケーシヨン
(Chemical Communication)1970年号、第445
頁〜第446頁〕 しかし、アミノケトン誘導体<>を不安定な
ホスホノ酢酸<>と縮合するのにジシクロヘキ
シルカルボジイミド(DCC)を使用するのは大
量合成には不適当である。しかもDCCの価格は
極めて高く、N,N′−ジシクロヘキシルウレア
は除去し難い副生物であり、このことがプロセス
をさらに一層非経済的なものにする。
反応シーケンスに従つて調製されて来た〔ジー・
ストーク(G.Stork)及びアール・マシユーズ
(R.Matthews)、ケミカルコミユニケーシヨン
(Chemical Communication)1970年号、第445
頁〜第446頁〕 しかし、アミノケトン誘導体<>を不安定な
ホスホノ酢酸<>と縮合するのにジシクロヘキ
シルカルボジイミド(DCC)を使用するのは大
量合成には不適当である。しかもDCCの価格は
極めて高く、N,N′−ジシクロヘキシルウレア
は除去し難い副生物であり、このことがプロセス
をさらに一層非経済的なものにする。
下記のような同様の環化反応が既に提案されて
いる〔スイス化学会誌(Helv.Chim.Acta.)第60
巻、第334頁〜第339頁(1977年)に掲載されたテ
イー.ダブリユー.グンテルト等(T.W.Guntert
et al.)の論文〕。
いる〔スイス化学会誌(Helv.Chim.Acta.)第60
巻、第334頁〜第339頁(1977年)に掲載されたテ
イー.ダブリユー.グンテルト等(T.W.Guntert
et al.)の論文〕。
但しこのプロセスではR4=17β−ステロイジル
の3−ピロリン−2−オン<>を収率10%で分
離するためにクロマトグラフイー分離を反復しな
ければならないから大量合成には不適当であり、
またグンテルト等は<>の親化合物に相当する
ブロモ化合物を調製できなかつた(このブロモ化
合物は本発明の<XII>に該当する。
の3−ピロリン−2−オン<>を収率10%で分
離するためにクロマトグラフイー分離を反復しな
ければならないから大量合成には不適当であり、
またグンテルト等は<>の親化合物に相当する
ブロモ化合物を調製できなかつた(このブロモ化
合物は本発明の<XII>に該当する。
本発明では置換3−ピロリン−2−オン類<
>の合成に際しても、<>の置換分R1及びR3が
下記の2条件を満たすなら式<>で表わされる
化合物の直接的な閉環を極めて有効に行うことが
できる。(1)R1≠H、即ち、R1=アルキル、置換
アルキル、アリール、置換アリール、アシルまた
はアロイルであるか、または(2)R1=HならR3が
C−3に於ける陰イオンを安定させ、且つ塩基に
対して安定な基、即ち、アリール、置換アリー
ル、カルボニルなどであり、アルキルまたは水素
ではない。
>の合成に際しても、<>の置換分R1及びR3が
下記の2条件を満たすなら式<>で表わされる
化合物の直接的な閉環を極めて有効に行うことが
できる。(1)R1≠H、即ち、R1=アルキル、置換
アルキル、アリール、置換アリール、アシルまた
はアロイルであるか、または(2)R1=HならR3が
C−3に於ける陰イオンを安定させ、且つ塩基に
対して安定な基、即ち、アリール、置換アリー
ル、カルボニルなどであり、アルキルまたは水素
ではない。
R1=水素、R3=水素、アルキルまたは置換ア
ルキルの場合、環形成によつて式<>の化合物
を調製するには、経験に照らして下記の反応シー
ケンスに従つて反応を進めるのが最善である。即
ち、R4=アリール、置換アリール、R5=水素、
アルキルまたは置換アルキル、R5′=水素、アル
キルまたは置換アルキルなら、式 で表わされる2−アミノ−アセトフエノン及びそ
の誘導体<XI>を塩化または臭化2−ブロモ−ア
シルと反応させて式 で表わされる対応のブロモ化合物<XII>を殆んど
定量的収率で形成することができる。クロロ化合
物<>と異なり、ブロモ化合物<XII>は室温か
ら50℃までの温度に於いて例えばベンゼンまたは
クロロベンゼン溶液中でトリフエニルホスフイン
と反応し、分解を伴なうことなく式 で表わされる対応の臭化ホスホニウム<>を
形成する。この化合物は上記<>式の対応化合
物になる為に、例えばNaOHの2N溶液によつて
環形成反応を行なうのに必要なアルコール及び水
に対する可溶性を呈する。
ルキルの場合、環形成によつて式<>の化合物
を調製するには、経験に照らして下記の反応シー
ケンスに従つて反応を進めるのが最善である。即
ち、R4=アリール、置換アリール、R5=水素、
アルキルまたは置換アルキル、R5′=水素、アル
キルまたは置換アルキルなら、式 で表わされる2−アミノ−アセトフエノン及びそ
の誘導体<XI>を塩化または臭化2−ブロモ−ア
シルと反応させて式 で表わされる対応のブロモ化合物<XII>を殆んど
定量的収率で形成することができる。クロロ化合
物<>と異なり、ブロモ化合物<XII>は室温か
ら50℃までの温度に於いて例えばベンゼンまたは
クロロベンゼン溶液中でトリフエニルホスフイン
と反応し、分解を伴なうことなく式 で表わされる対応の臭化ホスホニウム<>を
形成する。この化合物は上記<>式の対応化合
物になる為に、例えばNaOHの2N溶液によつて
環形成反応を行なうのに必要なアルコール及び水
に対する可溶性を呈する。
この方法に従えば、R4=アリール、置換アリ
ール、アルキルまたは置換アルキル、R5=水素、
アルキルまたは置換アルキル、R5′=水素または
アルキルの初発アミノケトン<XI>は入手し易い
化合物であり、例えば水/エーテル混合物に炭酸
水素ナトリウムを溶かして得た弱塩基性媒質中に
於いて塩化または臭化2−ブロモアシルでアシル
化することにより殆んど定量的収率で対応のN−
(2−ブロモアシル)−アミノケトン<XII>を形成
することができる。但し、R3=水素、アリール、
置換アリール、アルキルまたは置換アルキル。
ール、アルキルまたは置換アルキル、R5=水素、
アルキルまたは置換アルキル、R5′=水素または
アルキルの初発アミノケトン<XI>は入手し易い
化合物であり、例えば水/エーテル混合物に炭酸
水素ナトリウムを溶かして得た弱塩基性媒質中に
於いて塩化または臭化2−ブロモアシルでアシル
化することにより殆んど定量的収率で対応のN−
(2−ブロモアシル)−アミノケトン<XII>を形成
することができる。但し、R3=水素、アリール、
置換アリール、アルキルまたは置換アルキル。
上記<XII>のケトンは室温に於いて例えばベン
ゼン溶液中でトリフエニルホスフインと反応して
対応の臭化ホスホニウム<>を形成する。こ
れは沈澱し、簡単な濾過で回収できる。<>
をアルコール(例ましくはメタノール)または水
に溶かし、室温に於いて1当量よりも大きい当量
の塩基(好ましくはNaOHの2N溶液)で処理す
ると、所望の3−ピロリン−2−オン<>及び
トリフエニルホスフインオキシドが迅速に形成さ
れ、殆んど定量的な収率で溶液から沈澱する。水
で薄め、アルコールを蒸発させた後、混合物を回
収し、トリフエニルホスフインオキシドを除去す
る為に、例えば塩化メチレンによる抽出で分離す
る。
ゼン溶液中でトリフエニルホスフインと反応して
対応の臭化ホスホニウム<>を形成する。こ
れは沈澱し、簡単な濾過で回収できる。<>
をアルコール(例ましくはメタノール)または水
に溶かし、室温に於いて1当量よりも大きい当量
の塩基(好ましくはNaOHの2N溶液)で処理す
ると、所望の3−ピロリン−2−オン<>及び
トリフエニルホスフインオキシドが迅速に形成さ
れ、殆んど定量的な収率で溶液から沈澱する。水
で薄め、アルコールを蒸発させた後、混合物を回
収し、トリフエニルホスフインオキシドを除去す
る為に、例えば塩化メチレンによる抽出で分離す
る。
上述した態様のうち、どの態様で生成した3−
ピロリン−2−オン<>もアルコール(好まし
くはメタノール)溶液中で例えばPd/C、Pt、
またはキラル−ロジウム錯体(chiral rhodium
complex)を触媒として容易に水素添加でき、
CNS活性置換ピロリジン−2−オン<−シス
>を得ることができる。この反応シーケンスに
は、R3及びR4がシス置換分としてのみ形成され
る誘導体が得られると云う利点がある。<−シ
ス>化合物は塩基処理または酸処理によつて対応
の<−トランス>化合物に変換できる。
ピロリン−2−オン<>もアルコール(好まし
くはメタノール)溶液中で例えばPd/C、Pt、
またはキラル−ロジウム錯体(chiral rhodium
complex)を触媒として容易に水素添加でき、
CNS活性置換ピロリジン−2−オン<−シス
>を得ることができる。この反応シーケンスに
は、R3及びR4がシス置換分としてのみ形成され
る誘導体が得られると云う利点がある。<−シ
ス>化合物は塩基処理または酸処理によつて対応
の<−トランス>化合物に変換できる。
ピロリジン−2−オン<>を強酸または強塩
基処理によつて加水分解すればR3置換分の部分
的異性化を伴なつた対応の4−アミノ−酪酸誘導
体が得られ、従つて塩(例えばHClまたはナトリ
ウム及びマグネシウムなど)または遊離アミノ酸
として分離できるジアステレオマー混合物が形成
されることになる。R1=アルキルで加水分解し
ても、<>及び<>(これは抽出によつて分離
できる)間に平衡が形成されるから不完全であ
る。
基処理によつて加水分解すればR3置換分の部分
的異性化を伴なつた対応の4−アミノ−酪酸誘導
体が得られ、従つて塩(例えばHClまたはナトリ
ウム及びマグネシウムなど)または遊離アミノ酸
として分離できるジアステレオマー混合物が形成
されることになる。R1=アルキルで加水分解し
ても、<>及び<>(これは抽出によつて分離
できる)間に平衡が形成されるから不完全であ
る。
本発明の他の長所は、例えばB2H6または
LiAlH4で新規のピロリジン−2−オン<>を
還元することにより、初発材料に応じて新規のピ
ロリジン〔−シス(R3及びR4シス)または
−トランス(R3及びR4トランス)〕を形成できる
ことにある。
LiAlH4で新規のピロリジン−2−オン<>を
還元することにより、初発材料に応じて新規のピ
ロリジン〔−シス(R3及びR4シス)または
−トランス(R3及びR4トランス)〕を形成できる
ことにある。
<>に於けるC=C二重結合の還元は水素、
及び木炭に約5%乃至15%、好ましくは約10%の
パラジウムを添加した触媒によつて容易に達成で
きる。キラル−ロジウム触媒により不斉水素添加
が得られる〔例えば米国化学学会誌(J.Am.
Chem.Soc.)1977年、第99号、第5946頁〜第5952
頁〕。濾過と、好ましくはメタノールのような溶
媒を蒸発させることにより、定量的収率で所望の
ラクタム<−シス>が直接得られる。<>式
に於いてR1=ベンジルである場合、水添分解で
R1=水素の<−シス>が得られる。即ち、R3
=水素、アルキルまたは置換アルキルである場
合、N−ベンジル基は保護基として作用する。
及び木炭に約5%乃至15%、好ましくは約10%の
パラジウムを添加した触媒によつて容易に達成で
きる。キラル−ロジウム触媒により不斉水素添加
が得られる〔例えば米国化学学会誌(J.Am.
Chem.Soc.)1977年、第99号、第5946頁〜第5952
頁〕。濾過と、好ましくはメタノールのような溶
媒を蒸発させることにより、定量的収率で所望の
ラクタム<−シス>が直接得られる。<>式
に於いてR1=ベンジルである場合、水添分解で
R1=水素の<−シス>が得られる。即ち、R3
=水素、アルキルまたは置換アルキルである場
合、N−ベンジル基は保護基として作用する。
濃縮(15〜35%)された還流無機酸(例えば
HCl)中で<>を加水分解してから蒸発させれ
ば、HClの場合なら<>式で表わされる対応の
4−アミノ−酪酸塩酸塩が形成される。硫酸の場
合には、水酸化バリウムで硫化物を除去すること
で<>式の遊離アミノ酸が得られ、これを臨床
的に許容される酸で所望のカルボン酸塩(例えば
マグネシウム)またはアンモニウム塩に変換すれ
ばよい。他方、塩基で加水分解すれば対応のカル
ボン酸塩(例えばナトリウム、カリウム)が得ら
れる。
HCl)中で<>を加水分解してから蒸発させれ
ば、HClの場合なら<>式で表わされる対応の
4−アミノ−酪酸塩酸塩が形成される。硫酸の場
合には、水酸化バリウムで硫化物を除去すること
で<>式の遊離アミノ酸が得られ、これを臨床
的に許容される酸で所望のカルボン酸塩(例えば
マグネシウム)またはアンモニウム塩に変換すれ
ばよい。他方、塩基で加水分解すれば対応のカル
ボン酸塩(例えばナトリウム、カリウム)が得ら
れる。
<>式のラクタム中のカルボニルを例えばリ
チウムアルミニウムハイドライドまたはリチウム
ボロハイドライドで還元すれば<>式の対応ピ
ロリジンが形成され、これを臨床的に許容される
酸でアンモニウム塩に変換すればよい。
チウムアルミニウムハイドライドまたはリチウム
ボロハイドライドで還元すれば<>式の対応ピ
ロリジンが形成され、これを臨床的に許容される
酸でアンモニウム塩に変換すればよい。
以下に挙げる実施例は本発明の理解を容易にす
るのがその目的であり、本発明の範囲がこれら実
施例の具体的なデータに制限されるものではな
い。
るのがその目的であり、本発明の範囲がこれら実
施例の具体的なデータに制限されるものではな
い。
実施例 1
3,4−ジフエニル−3−ピロリン−2−オン
<a> 200mlのt−ブタノールに12.6g(50mモル)
の2−フエニルアセトアミド−アセトフエノンを
溶かした溶液を、6.5gのカリウム(166mモル)
及び200mlのt−ブタノールから得られたカリウ
ム・t−ブトキシドの還流溶液に窒素雰囲気下で
添加する。40分間の還流後、溶液を40℃に冷却
し、PHが6〜5のHCl2N溶液(約120ml)で酸性
化する。形成された懸濁液を3の氷水に注入す
る。沈澱物を回収し、水洗する。乾燥後、融点が
183〜190℃の<a>9.85g(84.1%)が得られ
る。クロロホルムで水を抽出した結果、さらに
1.3g(11.1%)の<a>が得られた。ベンゼ
ンから再結晶させた試料では融点が177〜179℃で
あつた。同様にして下記のような構造式<>の
化合物を得た。
<a> 200mlのt−ブタノールに12.6g(50mモル)
の2−フエニルアセトアミド−アセトフエノンを
溶かした溶液を、6.5gのカリウム(166mモル)
及び200mlのt−ブタノールから得られたカリウ
ム・t−ブトキシドの還流溶液に窒素雰囲気下で
添加する。40分間の還流後、溶液を40℃に冷却
し、PHが6〜5のHCl2N溶液(約120ml)で酸性
化する。形成された懸濁液を3の氷水に注入す
る。沈澱物を回収し、水洗する。乾燥後、融点が
183〜190℃の<a>9.85g(84.1%)が得られ
る。クロロホルムで水を抽出した結果、さらに
1.3g(11.1%)の<a>が得られた。ベンゼ
ンから再結晶させた試料では融点が177〜179℃で
あつた。同様にして下記のような構造式<>の
化合物を得た。
3−フエニル−4−(4′−クロロフエニル)−3
−ピロリン−2−オン<b> 融点204〜210℃ 3−(2′−カルボキシフエニル)−4−フエニル
−3−ピロリン−2−オン<c> 融点238〜241℃ 3−フエニル−4−(4′−フルオロフエニル)−
3−ピロリン−2−オン<d> 融点200〜202℃ 3−(4′−フルオロフエニル)−4−フエニル−
3−ピロリン−2−オン<e> 融点199〜209℃ 3−フエニル−4−(4′−メチルフエニル)−3
−ピロリン−2−オン<f> 融点210〜220℃ 3−フエニル−4−(4′−トリフルオロメチル
フエニル)−3−ピロリン−2−オン<g> 融点195〜198℃ 3−(2′−フルオロフエニル)−4−(4′−トリ
フルオロメチルフエニル)−3−ピロリン−2−
オン<h> 融点165〜166℃ 1,3,5−トリメチル−4−フエニル−3−
ピロリン−2−オン<i> 融点79〜81℃ 1−ベシジル−4−(4′−トリフルオロメチル
フエニル)−3−ピロリン−2−オン<k> ゴム 1−ベンジル−3−メチル−4−(4′−トリフ
ルオロメチルフエニル)−3−ピロリン−2−オ
ン<l> ゴム 1,5−ジメチル−3,4−ジフエニル−3−
ピロリン−2−オン<m> 融点95〜103℃ 1,5−ジメチル−4−フエニル−3−ピロリ
ン−2−オン<n> 融点130〜135℃ 1−メチル−3−フエニル−4−(4′−メチル
フエニル)−3−ピロリン−2−オン<o> 融点123〜124℃ 3−フエニル−4−(4′−メトキシフエニル)−
3−ピロリン−2−オン<p> 融点179〜181℃ 3−フエニル−4−(3′,4′−ジメトキシフエ
ニル)−3−ピロリン−2−オン<q> 融点202〜204℃ 3−(4′−フルオロフエニル)−4−(4′−トリ
フルオロメチルフエニル)−3−ピロリン−2−
オン<u> 融点212〜213℃ 実施例 2 シス−3,4−ジフエニル−ピロリジン−2−
オン<シス−a> 200mlのメタノールに9.00gの3,4−ジフエ
ニル−3−ピロリン−2−オン<a>を溶かし
た溶液を、木炭にパラジウム10%を添加した触媒
0.9gと共に500mlの水素添化フラスコ内に注入
し、室温で16時間に亘つて水素添加する。触媒を
濾過で除き、真空中でメタノールを蒸発させる。
1:1のベンゼン/石油エーテル混合溶媒から結
晶させて融点154〜155℃の結晶を得た。同様にし
て下記の化合物を得た。
−ピロリン−2−オン<b> 融点204〜210℃ 3−(2′−カルボキシフエニル)−4−フエニル
−3−ピロリン−2−オン<c> 融点238〜241℃ 3−フエニル−4−(4′−フルオロフエニル)−
3−ピロリン−2−オン<d> 融点200〜202℃ 3−(4′−フルオロフエニル)−4−フエニル−
3−ピロリン−2−オン<e> 融点199〜209℃ 3−フエニル−4−(4′−メチルフエニル)−3
−ピロリン−2−オン<f> 融点210〜220℃ 3−フエニル−4−(4′−トリフルオロメチル
フエニル)−3−ピロリン−2−オン<g> 融点195〜198℃ 3−(2′−フルオロフエニル)−4−(4′−トリ
フルオロメチルフエニル)−3−ピロリン−2−
オン<h> 融点165〜166℃ 1,3,5−トリメチル−4−フエニル−3−
ピロリン−2−オン<i> 融点79〜81℃ 1−ベシジル−4−(4′−トリフルオロメチル
フエニル)−3−ピロリン−2−オン<k> ゴム 1−ベンジル−3−メチル−4−(4′−トリフ
ルオロメチルフエニル)−3−ピロリン−2−オ
ン<l> ゴム 1,5−ジメチル−3,4−ジフエニル−3−
ピロリン−2−オン<m> 融点95〜103℃ 1,5−ジメチル−4−フエニル−3−ピロリ
ン−2−オン<n> 融点130〜135℃ 1−メチル−3−フエニル−4−(4′−メチル
フエニル)−3−ピロリン−2−オン<o> 融点123〜124℃ 3−フエニル−4−(4′−メトキシフエニル)−
3−ピロリン−2−オン<p> 融点179〜181℃ 3−フエニル−4−(3′,4′−ジメトキシフエ
ニル)−3−ピロリン−2−オン<q> 融点202〜204℃ 3−(4′−フルオロフエニル)−4−(4′−トリ
フルオロメチルフエニル)−3−ピロリン−2−
オン<u> 融点212〜213℃ 実施例 2 シス−3,4−ジフエニル−ピロリジン−2−
オン<シス−a> 200mlのメタノールに9.00gの3,4−ジフエ
ニル−3−ピロリン−2−オン<a>を溶かし
た溶液を、木炭にパラジウム10%を添加した触媒
0.9gと共に500mlの水素添化フラスコ内に注入
し、室温で16時間に亘つて水素添加する。触媒を
濾過で除き、真空中でメタノールを蒸発させる。
1:1のベンゼン/石油エーテル混合溶媒から結
晶させて融点154〜155℃の結晶を得た。同様にし
て下記の化合物を得た。
3−フエニル−4−(4′−フルオロフエニル)−
ピロリジン−2−オン<シス−d> 融点198〜200℃ 3−(4′−フルオロフエニル)−4−フエニル−
ピロリジン−2−オン<シス−e> 融点167〜168℃ 3−フエニル−4−(4′−メチルフエニル)−ピ
ロリジン−2−オン<シス−f> 融点190〜191℃ 3−フエニル−4−(4′−トリフルオロメチル
フエニル)−ピロリジン−2−オン<シス−g
> 融点149〜151℃ 3−(2′−フルオロフエニル)−4−(4′−トリ
フルオロメチルフエニル)−ピロリジン−2−オ
ン<シス−h> 融点154〜156℃ 1,3,5−トリメチル−4−フエニル−ピロ
リジン−2−オン<シス−i> ゴム 4−(4′−トリフルオロメチルフエニル)−ピロ
リジン−2−オン<k> 融点121〜122℃ 3−メチル−4−(4′−トリフルオロメチルフ
エニル)−ピロリジン−2−オン<シス−l> 1,5−ジメチル−4−フエニル−ピロリジン
−2−オン<n> ゴム 1−メチル−3−フエニル−4−(4′−メチル
フエニル)−ピロリジン−2−オン<シス−o
> 融点113〜114℃ 3−フエニル−4−(4′−メトキシフエニル)−
ピロリジン−2−オン<シス−p> 融点156〜159℃ 3−フエニル−4−(3′,4′−ジメトキシフエ
ニル)−ピロリジン−2−オン<シス−q> 融点144〜146℃ 3−(4′−フルオロフエニル)−4−(4′−トリ
フルオロメチルフエニル)−ピロリジン−2−オ
ン<シス−u> 融点203〜204℃ 実施例 3 1,5−ジメチル−4−(4′−ニトロフエニル)
−ピロリジン−2−オン<r> −5〜0℃に於いて30mlの発煙硝酸に4.32gの
<n>を少量ずつ添加する。−10℃で1時間放
置した後溶液を300mlの水に注入した。酢酸エチ
ルで抽出し、重炭酸塩溶液及び水で洗滌し、溶媒
を蒸発させて4.89g(91.6%)の<r>を得
た。1:3のアセトン/エーテル混合溶媒から結
晶させて融点が94〜95℃の結晶を得た。
ピロリジン−2−オン<シス−d> 融点198〜200℃ 3−(4′−フルオロフエニル)−4−フエニル−
ピロリジン−2−オン<シス−e> 融点167〜168℃ 3−フエニル−4−(4′−メチルフエニル)−ピ
ロリジン−2−オン<シス−f> 融点190〜191℃ 3−フエニル−4−(4′−トリフルオロメチル
フエニル)−ピロリジン−2−オン<シス−g
> 融点149〜151℃ 3−(2′−フルオロフエニル)−4−(4′−トリ
フルオロメチルフエニル)−ピロリジン−2−オ
ン<シス−h> 融点154〜156℃ 1,3,5−トリメチル−4−フエニル−ピロ
リジン−2−オン<シス−i> ゴム 4−(4′−トリフルオロメチルフエニル)−ピロ
リジン−2−オン<k> 融点121〜122℃ 3−メチル−4−(4′−トリフルオロメチルフ
エニル)−ピロリジン−2−オン<シス−l> 1,5−ジメチル−4−フエニル−ピロリジン
−2−オン<n> ゴム 1−メチル−3−フエニル−4−(4′−メチル
フエニル)−ピロリジン−2−オン<シス−o
> 融点113〜114℃ 3−フエニル−4−(4′−メトキシフエニル)−
ピロリジン−2−オン<シス−p> 融点156〜159℃ 3−フエニル−4−(3′,4′−ジメトキシフエ
ニル)−ピロリジン−2−オン<シス−q> 融点144〜146℃ 3−(4′−フルオロフエニル)−4−(4′−トリ
フルオロメチルフエニル)−ピロリジン−2−オ
ン<シス−u> 融点203〜204℃ 実施例 3 1,5−ジメチル−4−(4′−ニトロフエニル)
−ピロリジン−2−オン<r> −5〜0℃に於いて30mlの発煙硝酸に4.32gの
<n>を少量ずつ添加する。−10℃で1時間放
置した後溶液を300mlの水に注入した。酢酸エチ
ルで抽出し、重炭酸塩溶液及び水で洗滌し、溶媒
を蒸発させて4.89g(91.6%)の<r>を得
た。1:3のアセトン/エーテル混合溶媒から結
晶させて融点が94〜95℃の結晶を得た。
実施例 4
1,5−ジメチル−4−(4′−クロロフエニル)
−ピロリジン−2−オン<t> 50mlのメタノールに4.89g(20.9mモル)の<
r>を溶かした溶液を、木炭にパラジウム10%
を添加した触媒0.49gと共に250ml水素添加用フ
ラスコに注入し、室温で30時間に亘つて水素添加
する。濾過によつて触媒を除き、真空中でメタノ
ールを蒸発させる。100%の収率で分離された1,
5−ジメチル−4−(4′−アミノフエニル)−ピロ
リジン−2−オン<s>を250mlビーカ中で12
mlの18%塩酸に溶かし、0〜5℃に於いて亜硝酸
ナトリウムの4N溶液5.23mlを滴下して処理する。
0℃の温度で5分間放置した後、余剰の亜硝酸ナ
トリウムを尿素で破壊した。0〜5℃の温度で10
分間放置した後、0℃の37%塩酸8mlにCuCl
(20.9mモル)を溶かした新鮮な溶液にこのジア
ゾニウム溶液を滴下した。形成された褐色の沈澱
を1時間に亘り60℃に加熱する。クロロホルムに
よる抽出と水洗で、蒸発後4.30gの反応粗生成物
を得た。130gのシリカゲルで濾過した結果、
3.80g(81%)のゴム状の<t>を得た。
−ピロリジン−2−オン<t> 50mlのメタノールに4.89g(20.9mモル)の<
r>を溶かした溶液を、木炭にパラジウム10%
を添加した触媒0.49gと共に250ml水素添加用フ
ラスコに注入し、室温で30時間に亘つて水素添加
する。濾過によつて触媒を除き、真空中でメタノ
ールを蒸発させる。100%の収率で分離された1,
5−ジメチル−4−(4′−アミノフエニル)−ピロ
リジン−2−オン<s>を250mlビーカ中で12
mlの18%塩酸に溶かし、0〜5℃に於いて亜硝酸
ナトリウムの4N溶液5.23mlを滴下して処理する。
0℃の温度で5分間放置した後、余剰の亜硝酸ナ
トリウムを尿素で破壊した。0〜5℃の温度で10
分間放置した後、0℃の37%塩酸8mlにCuCl
(20.9mモル)を溶かした新鮮な溶液にこのジア
ゾニウム溶液を滴下した。形成された褐色の沈澱
を1時間に亘り60℃に加熱する。クロロホルムに
よる抽出と水洗で、蒸発後4.30gの反応粗生成物
を得た。130gのシリカゲルで濾過した結果、
3.80g(81%)のゴム状の<t>を得た。
実施例 5
4−アミノ−2−フエニル−3−(4′−トリフ
ルオロメチルフエニル)−酪酸ハイドロクロラ
イド<g−HCl> 500mlフラスコ中で300mlの25%HCl溶液に9.15
gの<シス−g>を懸濁させ、13時間還流させ
る。300mlの水で薄め、真空中で蒸発乾燥させた
結果得られた結晶性白色残留物を一晩の間エーテ
ル中に懸濁させてラクタムを除去した。濾過とエ
ーテル洗滌により、融点が182〜183℃の<g−
HCl>9.65g(89.4%)を得た。
ルオロメチルフエニル)−酪酸ハイドロクロラ
イド<g−HCl> 500mlフラスコ中で300mlの25%HCl溶液に9.15
gの<シス−g>を懸濁させ、13時間還流させ
る。300mlの水で薄め、真空中で蒸発乾燥させた
結果得られた結晶性白色残留物を一晩の間エーテ
ル中に懸濁させてラクタムを除去した。濾過とエ
ーテル洗滌により、融点が182〜183℃の<g−
HCl>9.65g(89.4%)を得た。
C17H17ClF3NO2−0.5H2O(368.8)に関する分
析結果は下記の通りである。
析結果は下記の通りである。
実測値 C55.84% H4.96% N3.79%
計算値 C55.37% H4.85% N3.80%
同様にして下記の酸性塩酸塩を得た。
4−アミノ−2,3−ジフエニル−酪酸−HCl
<a−HCl> 融点210〜222℃ 4−アミノ−3−(4′−フルオロフエニル)−2
−フエニル−酪酸−HCl<d−HCl> 融点190〜195℃ 4−アミノ−2−(4′−フルオロフエニル)−3
−フエニル−酪酸−HCl<e−HCl> 融点170〜175℃ 4−アミノ−3−(4′−メチルフエニル)−2−
フエニル−酪酸−HCl<f−HCl> 融点210〜216℃ 4−アミノ−2−(2′−フルオロフエニル)−3
−(4′−トリフルオロメチルフエニル)−酪酸−
HCl<h−HCl> 融点182〜185℃ 4−アミノ−2−(4′−フルオロフエニル)−3
−(4′−トリフルオロメチルフエニル)−酪酸−
HCl<u−HCl> 融点200〜203℃ 4−アミノ−3−(4′−トリフルオロメチルフ
エニル)−酪酸−HCl<k−HCl> 融点175〜177℃ 4−アミノ−2−メチル−3−(4′−トリフル
オロメチルフエニル)−酪酸−HCl<l−HCl
> 4−メチルアミノ−4−メチル−3−フエニル
−酪酸−HCl<n−HCl> 融点165〜175℃ 4−アミノ−3−(4′−メトキシフエニル−2
−フエニル−酪酸−HCl<p−HCl> 融点190〜210℃ 4−アミノ−3−(3′,4′−ジメトキシフエニ
ル)−2−フエニル−酪酸−HCl<q−HCl> 融点230〜233℃ 実施例 6 3,4−ジフエニル−ピロリジン<a> 30mlのテトラヒドロフラン(THF)に1.185g
のシス−3,4−ジフエニル−ピロリジン−2−
オン<a>を溶かした溶液を0.950gのリチウ
ムアルミニウムハイドライド(LAH)懸濁液に
ゆつくりと添加し、7時間に亘つて還流させる。
冷却後、5mlのエチルアセテートを添加して余剰
のLAHを破壊し、7mlの水で水酸化物を形成す
る。懸濁液を濾過し、THFで洗滌する。真空中
でTHFを除去し、残留物をクロロホルム中へ移
し、50mlの2N硫酸で2度抽出する。水相を
NaOHの2N溶液で処理してアルカリ性にし、ク
ロロホルムで抽出する。エチレンクロライドから
残留物を結晶させて融点が169〜172℃の結晶を得
た。3mlのメタノールに0.100gの<a>を溶
かした溶液にHClの37%溶液0.05mlを添加し、蒸
発させ、エーテル中に懸濁させて融点74〜84℃の
<a−HCl>0.111gを得た。
<a−HCl> 融点210〜222℃ 4−アミノ−3−(4′−フルオロフエニル)−2
−フエニル−酪酸−HCl<d−HCl> 融点190〜195℃ 4−アミノ−2−(4′−フルオロフエニル)−3
−フエニル−酪酸−HCl<e−HCl> 融点170〜175℃ 4−アミノ−3−(4′−メチルフエニル)−2−
フエニル−酪酸−HCl<f−HCl> 融点210〜216℃ 4−アミノ−2−(2′−フルオロフエニル)−3
−(4′−トリフルオロメチルフエニル)−酪酸−
HCl<h−HCl> 融点182〜185℃ 4−アミノ−2−(4′−フルオロフエニル)−3
−(4′−トリフルオロメチルフエニル)−酪酸−
HCl<u−HCl> 融点200〜203℃ 4−アミノ−3−(4′−トリフルオロメチルフ
エニル)−酪酸−HCl<k−HCl> 融点175〜177℃ 4−アミノ−2−メチル−3−(4′−トリフル
オロメチルフエニル)−酪酸−HCl<l−HCl
> 4−メチルアミノ−4−メチル−3−フエニル
−酪酸−HCl<n−HCl> 融点165〜175℃ 4−アミノ−3−(4′−メトキシフエニル−2
−フエニル−酪酸−HCl<p−HCl> 融点190〜210℃ 4−アミノ−3−(3′,4′−ジメトキシフエニ
ル)−2−フエニル−酪酸−HCl<q−HCl> 融点230〜233℃ 実施例 6 3,4−ジフエニル−ピロリジン<a> 30mlのテトラヒドロフラン(THF)に1.185g
のシス−3,4−ジフエニル−ピロリジン−2−
オン<a>を溶かした溶液を0.950gのリチウ
ムアルミニウムハイドライド(LAH)懸濁液に
ゆつくりと添加し、7時間に亘つて還流させる。
冷却後、5mlのエチルアセテートを添加して余剰
のLAHを破壊し、7mlの水で水酸化物を形成す
る。懸濁液を濾過し、THFで洗滌する。真空中
でTHFを除去し、残留物をクロロホルム中へ移
し、50mlの2N硫酸で2度抽出する。水相を
NaOHの2N溶液で処理してアルカリ性にし、ク
ロロホルムで抽出する。エチレンクロライドから
残留物を結晶させて融点が169〜172℃の結晶を得
た。3mlのメタノールに0.100gの<a>を溶
かした溶液にHClの37%溶液0.05mlを添加し、蒸
発させ、エーテル中に懸濁させて融点74〜84℃の
<a−HCl>0.111gを得た。
実施例 7
N−〔(4′−トリフルオロメチルベンゾイル)メ
チル〕−2−ブロモアセトアミド<XIIk> 550mlの水に51.16g(0.609モル)の重炭酸ナ
トリウムを溶かした溶液を0〜10℃の窒素雰囲気
下で、250mlの水及び250mlのエーテルに48.5g
(0.203モル)の2−アミノ−4′−トリフルオロメ
チルアセトフエノン・ヒドロクロライド<XIk>
を溶かして得た2相溶液に添加する。200mlのド
ライエーテルに18.41ml(0.223モル)のブロモア
セチルクロライドを溶かした第2溶液を上記撹拌
顕濁液へ15分間以内に0〜5℃の温度で添加す
る。当初濃厚であつた懸濁液が薄くなる。2時間
の撹拌後、透明な2相溶液が得られるまでエチル
アセテートを添加する。水を分離し、エチルアセ
テート/エーテル溶液を中性になるまで水洗す
る。真空中で蒸発させて62.3g(95%)の<XIIk
>を得た。再結晶試料の融点は201〜211℃であつ
た。
チル〕−2−ブロモアセトアミド<XIIk> 550mlの水に51.16g(0.609モル)の重炭酸ナ
トリウムを溶かした溶液を0〜10℃の窒素雰囲気
下で、250mlの水及び250mlのエーテルに48.5g
(0.203モル)の2−アミノ−4′−トリフルオロメ
チルアセトフエノン・ヒドロクロライド<XIk>
を溶かして得た2相溶液に添加する。200mlのド
ライエーテルに18.41ml(0.223モル)のブロモア
セチルクロライドを溶かした第2溶液を上記撹拌
顕濁液へ15分間以内に0〜5℃の温度で添加す
る。当初濃厚であつた懸濁液が薄くなる。2時間
の撹拌後、透明な2相溶液が得られるまでエチル
アセテートを添加する。水を分離し、エチルアセ
テート/エーテル溶液を中性になるまで水洗す
る。真空中で蒸発させて62.3g(95%)の<XIIk
>を得た。再結晶試料の融点は201〜211℃であつ
た。
実施例 8
N−〔4′−トリフルオロメチルベンゾイル)メ
チル〕−2−(トリフエニルホスホニウム・ブロ
マイド)−アセトアミド<k> 600mlのベンゼンに62.36g(0.192モル)の<
XIIk>を懸濁させたものに70.5g(0.269モル)
のトリフエニルホスフインを添加する。室温で4
日間撹拌した後、固形物を回収し、250mlのアセ
トン中に3時間懸濁させる。濾過して、融点250
〜251℃の<k>77.66g(69%)を得た。
チル〕−2−(トリフエニルホスホニウム・ブロ
マイド)−アセトアミド<k> 600mlのベンゼンに62.36g(0.192モル)の<
XIIk>を懸濁させたものに70.5g(0.269モル)
のトリフエニルホスフインを添加する。室温で4
日間撹拌した後、固形物を回収し、250mlのアセ
トン中に3時間懸濁させる。濾過して、融点250
〜251℃の<k>77.66g(69%)を得た。
実施例 9
4−(4′−トリフルオロメチルフエニル)−3−
ピロリン−2−オン<k> 780mlのメタノールに77.6g(0.132モル)の<
k>を溶かした溶液に窒素雰囲気下で72.5ml
のNaOHの2N溶液をゆつくりと添加して温度を
40℃以下に維持する。1時間撹拌してからHClの
2N溶液15mlを添加してPHを約6.5にする。真空中
でメタノールの一部を蒸発させ、200mlの水を添
加してからメタノールを完全に除去する。沈澱物
を回収し、水洗する。残留物を乾燥させた後、
67.2gを2時間に亘つて200mlのメチレンクロラ
イド中に懸濁させる。濾過して、融点208〜220℃
(分解)の<k>27.3g(91%)を得た。
ピロリン−2−オン<k> 780mlのメタノールに77.6g(0.132モル)の<
k>を溶かした溶液に窒素雰囲気下で72.5ml
のNaOHの2N溶液をゆつくりと添加して温度を
40℃以下に維持する。1時間撹拌してからHClの
2N溶液15mlを添加してPHを約6.5にする。真空中
でメタノールの一部を蒸発させ、200mlの水を添
加してからメタノールを完全に除去する。沈澱物
を回収し、水洗する。残留物を乾燥させた後、
67.2gを2時間に亘つて200mlのメチレンクロラ
イド中に懸濁させる。濾過して、融点208〜220℃
(分解)の<k>27.3g(91%)を得た。
実施例 10
4−(4−トリフルオロメチルフエニル)−ピロ
リジン−2−オン<k> 500mlのメタノールに27.2g(0.12モル)の<
k>を溶かした溶液(一部懸濁)を木炭に10%
のPdを添加した触媒4.1gで10時間に亘つて水素
添加処理する。濾過及び真空蒸発で27.5g(100
%)の<k>を得た。1:2のアセトン/エー
テル混合溶媒から再結晶させた試料の融点は121
〜122℃であつた。
リジン−2−オン<k> 500mlのメタノールに27.2g(0.12モル)の<
k>を溶かした溶液(一部懸濁)を木炭に10%
のPdを添加した触媒4.1gで10時間に亘つて水素
添加処理する。濾過及び真空蒸発で27.5g(100
%)の<k>を得た。1:2のアセトン/エー
テル混合溶媒から再結晶させた試料の融点は121
〜122℃であつた。
(C11H10F3NO)に関する分析結果は下記の通
りである。
りである。
計算値 C57.64% H4.40% N6.11%
実測値 C57.65% H4.38% N6.35%
実施例 11
4−アミノ−3−(4′−トリフルオロメチルフ
エニル)−酪酸−HCl<k−HCl> 11.45g(50mモル)の<k>を15時間に亘
り、100mlの25%HCl溶液中に還流させ、水で薄
め、エーテルで抽出した後、水相を真空蒸発させ
た。残留物を少量のエーテル中に懸濁させ、回収
して、融点が175〜177℃の<k−HCl>13.45
g(95%)を得た。
エニル)−酪酸−HCl<k−HCl> 11.45g(50mモル)の<k>を15時間に亘
り、100mlの25%HCl溶液中に還流させ、水で薄
め、エーテルで抽出した後、水相を真空蒸発させ
た。残留物を少量のエーテル中に懸濁させ、回収
して、融点が175〜177℃の<k−HCl>13.45
g(95%)を得た。
(C11H13ClF3NO2)に関する分析値は下記の
通りである。
通りである。
計算値 C46.57% H4.62% N4.94%
実測値 C46.44% H4.67% N5.06%
以上、特定手段による特定化合物の製造に関し
て本発明を説明したが、種々の改変を加え得るこ
とは云うまでもない。
て本発明を説明したが、種々の改変を加え得るこ
とは云うまでもない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 R1が水素、低級アルキル、フエニル、低級
アルキル置換フエニル、アシル、またはアロイル
であり、R3が水素、低級アルキル、フエニル、
ハロゲン置換フエニル、カルボキシル置換フエニ
ル、低級アルキル置換フエニル、ハロ低級アルキ
ル置換フエニル、または低級アルコキシ置換フエ
ニルであり、R4が低級アルキル、フエニル、ハ
ロゲン置換フエニル、カルボキシル置換フエニ
ル、低級アルキル置換フエニル、ハロ低級アルキ
ル置換フエニル、または低級アルコキシ置換フエ
ニルであり、R5が水素、低級アルキル、フエニ
ル、ハロゲン置換フエニル、カルボキシル置換フ
エニル、低級アルキル置換フエニル、ハロ低級ア
ルキル置換フエニル、または低級アルコキシ置換
フエニルであり、R5′が水素または低級アルキル
であり、置換分R5及びR5′の1つが水素であると
して式 で表わされる化合物を塩基性条件下で環化して式 で表わされる3−ピロリン−2−オンを製造し、
これを水素添加処理することを特徴とする式 で表わされるピロリジン−2−オンの製法。 2 前記ピロリジン−2−オンの3,4−シス異
性体を形成する触媒を使用して前記水素添加を行
うことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載
の製法。 3 前記触媒として、パラジウム/カーボン、プ
ラチナまたはロジウムを随意に前記シス−ピロリ
ジン−2−オンの光学活性異性体を生成する光学
活性錯体の形で使用することを特徴とする特許請
求の範囲第2項に記載の製法。 4 前記シス異性体を酸または塩基処理によつて
対応のトランス異性体に変換することを特徴とす
る特許請求の範囲第3項に記載の製法。 5 R1が水素、低級アルキル、フエニル、低級
アルキル置換フエニル、アシル、またはアロイル
であり、R3が水素、低級アルキル、フエニル、
ハロゲン置換フエニル、カルボキシル置換フエニ
ル、低級アルキル置換フエニル、ハロ低級アルキ
ル置換フエニル、または低級アルコキシ置換フエ
ニルであり、R4が低級アルキル、フエニル、ハ
ロゲン置換フエニル、カルボキシル置換フエニ
ル、低級アルキル置換フエニル、ハロ低級アルキ
ル置換フエニル、または低級アルコキシ置換フエ
ニルであり、R5が水素、低級アルキル、フエニ
ル、ハロゲン置換フエニル、カルボキシル置換フ
エニル、低級アルキル置換フエニル、ハロ低級ア
ルキル置換フエニル、または低級アルコキシ置換
フエニルであり、R5′が水素または低級アルキル
であり、置換分R5及びR5′の1つが水素であると
して式 で表わされる化合物を塩基性条件下で環化するこ
とを特徴とする式 で表わされる3−ピロリン−2−オンの製法。 6 t−ブタノールに溶かしたカリウム−t−ブ
トキシドで前記環化反応を行うことを特徴とする
特許請求の範囲第5項に記載の製法。 7 前記環化反応の後、反応媒を酸性化し、水で
薄めることを特徴とする特許請求の範囲第6項に
記載の製法。 8 R1、R3、R4、R5及びR5′が上記内容を表わす
として式 で表わされる臭化燐を塩基性媒体中で環化するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第5項に記載の製
法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US91468278A | 1978-06-12 | 1978-06-12 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS54163568A JPS54163568A (en) | 1979-12-26 |
JPS6343387B2 true JPS6343387B2 (ja) | 1988-08-30 |
Family
ID=25434663
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6508279A Granted JPS54163568A (en) | 1978-06-12 | 1979-05-28 | Manufacture of pyrrolidinee22one from 33pyrrolinee22one and manufacture of 33pyrrolinee22one |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS54163568A (ja) |
BE (1) | BE876900A (ja) |
ZA (1) | ZA792895B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0366188U (ja) * | 1989-10-31 | 1991-06-27 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2003031414A1 (ja) * | 2001-10-03 | 2005-01-20 | 日本曹達株式会社 | 新規なヘテロ環化合物および抗炎症薬 |
-
1979
- 1979-05-28 JP JP6508279A patent/JPS54163568A/ja active Granted
- 1979-06-11 BE BE0/195678A patent/BE876900A/fr not_active IP Right Cessation
- 1979-06-12 ZA ZA792895A patent/ZA792895B/xx unknown
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0366188U (ja) * | 1989-10-31 | 1991-06-27 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE876900A (fr) | 1979-10-01 |
ZA792895B (en) | 1982-11-24 |
JPS54163568A (en) | 1979-12-26 |
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