JPS6342508A - ダイクロイクアンテナ構造を製造する方法 - Google Patents
ダイクロイクアンテナ構造を製造する方法Info
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- JPS6342508A JPS6342508A JP62186788A JP18678887A JPS6342508A JP S6342508 A JPS6342508 A JP S6342508A JP 62186788 A JP62186788 A JP 62186788A JP 18678887 A JP18678887 A JP 18678887A JP S6342508 A JPS6342508 A JP S6342508A
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B25—HAND TOOLS; PORTABLE POWER-DRIVEN TOOLS; MANIPULATORS
- B25J—MANIPULATORS; CHAMBERS PROVIDED WITH MANIPULATION DEVICES
- B25J19/00—Accessories fitted to manipulators, e.g. for monitoring, for viewing; Safety devices combined with or specially adapted for use in connection with manipulators
- B25J19/02—Sensing devices
- B25J19/021—Optical sensing devices
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01Q—ANTENNAS, i.e. RADIO AERIALS
- H01Q15/00—Devices for reflection, refraction, diffraction or polarisation of waves radiated from an antenna, e.g. quasi-optical devices
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- H01Q15/14—Reflecting surfaces; Equivalent structures
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- H01Q15/142—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing reflecting surfaces using insulating material for supporting the reflecting surface
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はマイクロウェーブ領域に属する電磁輻射に用り
る無線通信機器に関し、より特別には、グイクロイクア
ンテナ構造ｔ−Ｓ造する方法に関する。
る無線通信機器に関し、より特別には、グイクロイクア
ンテナ構造ｔ−Ｓ造する方法に関する。
従来技術の説明
周知の如く、ダイクロイクアンテナ構造は成る周波数の
輻射及び偏波における伝送特性及び他の輻射に関する反
射特性を提供する表面より成立する。
輻射及び偏波における伝送特性及び他の輻射に関する反
射特性を提供する表面より成立する。
前記表面に関する最も広く用いられている形状は円形パ
ラボラや二重曲面楕円ちるいは円状楕円体等である。；
一般的にその形状はマイクロウェーブアンテナ系の反射
器または副反射器に利用するのに適したものである。こ
の表面は良好な機械的特性を有する絶縁材料より作られ
、導電性グリッドは選択性アンテナの多数よりなって配
置される。このグリッドは一般的にリング状、十字形状
、ストリップ状の形状のエレメントで構築される。
ラボラや二重曲面楕円ちるいは円状楕円体等である。；
一般的にその形状はマイクロウェーブアンテナ系の反射
器または副反射器に利用するのに適したものである。こ
の表面は良好な機械的特性を有する絶縁材料より作られ
、導電性グリッドは選択性アンテナの多数よりなって配
置される。このグリッドは一般的にリング状、十字形状
、ストリップ状の形状のエレメントで構築される。
エレメントの寸法は一般的に動作電磁輻射の波長及び必
要とされる裕度により、寸法とエレメント間（内部軸）
の距離の両者は反射された電磁界のむ十分の−に等しい
；例として２０ ＧＨｚではその確度要求は＋ま几は一
７００μｍである。従って希望確度で履行する上で、遭
遇する困難は必要とされるアンテナエレメントの多数で
あって、さらにそれらは曲面上に配置されることである
。
要とされる裕度により、寸法とエレメント間（内部軸）
の距離の両者は反射された電磁界のむ十分の−に等しい
；例として２０ ＧＨｚではその確度要求は＋ま几は一
７００μｍである。従って希望確度で履行する上で、遭
遇する困難は必要とされるアンテナエレメントの多数で
あって、さらにそれらは曲面上に配置されることである
。
上述のエレメントは写真的マスキング及び超過部分の化
学的エツチングを用いたグリント配線回路を製造するの
に使用される方法に従って一般的に製造される。しかし
、本方法の実行は困難なくしては達成出来ない。何故な
らば、マスクは平坦表面上のみに得られ、一方において
は、それが投射される支持は既に述べ友形式の曲面を提
供するからである。
学的エツチングを用いたグリント配線回路を製造するの
に使用される方法に従って一般的に製造される。しかし
、本方法の実行は困難なくしては達成出来ない。何故な
らば、マスクは平坦表面上のみに得られ、一方において
は、それが投射される支持は既に述べ友形式の曲面を提
供するからである。
この問題の多数の解決は従来技術として周知であって、
即ち、１２７９年７月発行のｌ１ＪＥ報告書のアンテナ
及び伝播に関する第ＡＰ ２７巻、μ号におけるビシワ
ニ デイ−、アグラワル（ＶｉｓｈｗａａｉＤ、 Ａｇ
ｒａｖａｌ ）等によるダイクロイク カセグレイｙ
（Ｄｌｃｈｒｏｌｃ Ｃａｓｓｅｇｒａｉｎ ）副反射
器の設計と題し九紙面に記述されている。十字形ダイＩ
−ルよりなるダイクロイク表面は平坦なケプラー（Ｋ＊
ｖｌａｒ ）表面上の写真エツチング技術に従って製造
される。これは後に希望形状のアルミニウム型具で設定
され、保護材料層で俊われ、かつ、真空の袋の中の型具
に付して圧せられる。咳層のシリーズは最後に高温のオ
ゾン内で焼き固められる。
即ち、１２７９年７月発行のｌ１ＪＥ報告書のアンテナ
及び伝播に関する第ＡＰ ２７巻、μ号におけるビシワ
ニ デイ−、アグラワル（ＶｉｓｈｗａａｉＤ、 Ａｇ
ｒａｖａｌ ）等によるダイクロイク カセグレイｙ
（Ｄｌｃｈｒｏｌｃ Ｃａｓｓｅｇｒａｉｎ ）副反射
器の設計と題し九紙面に記述されている。十字形ダイＩ
−ルよりなるダイクロイク表面は平坦なケプラー（Ｋ＊
ｖｌａｒ ）表面上の写真エツチング技術に従って製造
される。これは後に希望形状のアルミニウム型具で設定
され、保護材料層で俊われ、かつ、真空の袋の中の型具
に付して圧せられる。咳層のシリーズは最後に高温のオ
ゾン内で焼き固められる。
この方法で得られる確度はそれ程高くない、なぜならば
曲面の型に対して圧せられる場合の平坦なグイクロイク
表面によって生ずる歪曲は制御出来ないからである。実
際上、これらの歪曲は例えばグイクロイク表面の一定の
厚みや加圧の均−性等に対する制御が困難な多数の要因
による。
曲面の型に対して圧せられる場合の平坦なグイクロイク
表面によって生ずる歪曲は制御出来ないからである。実
際上、これらの歪曲は例えばグイクロイク表面の一定の
厚みや加圧の均−性等に対する制御が困難な多数の要因
による。
別の解決は米国特許第’Ａ ００ ／、？３６号に開示
されている。仁の発明によると、グイクロイク構造ＩＩ
ｉ側面対向状に配列され、都合良く歪曲したストリップ
状のマスクを作る最終湾曲構造で直接輿遺される。この
方法はそれ程元分なものではない。
されている。仁の発明によると、グイクロイク構造ＩＩ
ｉ側面対向状に配列され、都合良く歪曲したストリップ
状のマスクを作る最終湾曲構造で直接輿遺される。この
方法はそれ程元分なものではない。
何故ならば、ストリップは手動で配置されねばならず、
又、時間がかかるからである。その上さらにその方法は
ノ譬うダラ状表面に関してのみ有効なのである。
又、時間がかかるからである。その上さらにその方法は
ノ譬うダラ状表面に関してのみ有効なのである。
発明の目的及び効果
上記の不利益は本発明によって提供される方法によって
克服され、本発明の方法は完全自動法を使用し、如何な
る寸法や位置に関しても高確度で、かつ、如何なる形状
のエレメントでも、任意の湾曲表面上に直接、グイクロ
イクアンテナ構造が作られように許容する。
克服され、本発明の方法は完全自動法を使用し、如何な
る寸法や位置に関しても高確度で、かつ、如何なる形状
のエレメントでも、任意の湾曲表面上に直接、グイクロ
イクアンテナ構造が作られように許容する。
発明の′ｇ４成及び実施例
本発明は導電性選択性アンテナエレメントを有する単一
まｔは両表面の少く共、単一絶縁層よりなるダイクロイ
クアンテナ構造ｆｔ製造する方法を提供し、特に次の工
程よりなることを特徴とする：対向表面の希望の形状を
有する絶縁層の構造と、単一まｔは両対向表面の金属化
と、 各々の金属化層上の写真的エマルジョンの均一層の配置
と、 コンピュータコントロールされた機械の移動アーム上に
塔載されＬｆグロノエフターよる前記写真エマルジョン
上への前記選択性アンテナエレメントの形状の投射と、 前記写真的エマルジョンの現實と、 超過している導電部分の化学的エツチング等である。
まｔは両表面の少く共、単一絶縁層よりなるダイクロイ
クアンテナ構造ｆｔ製造する方法を提供し、特に次の工
程よりなることを特徴とする：対向表面の希望の形状を
有する絶縁層の構造と、単一まｔは両対向表面の金属化
と、 各々の金属化層上の写真的エマルジョンの均一層の配置
と、 コンピュータコントロールされた機械の移動アーム上に
塔載されＬｆグロノエフターよる前記写真エマルジョン
上への前記選択性アンテナエレメントの形状の投射と、 前記写真的エマルジョンの現實と、 超過している導電部分の化学的エツチング等である。
これら及び他の特性に関しては、本発明は望ましい実誇
例に関する次の説明によってより明かになされるであろ
う。そこに示された例及び附属され九図面は本発明を制
限するものではない・次に述べる脱甲は１９ｇｊ年１２
月発行のＣ５ＥＬＴ技術報告書、第１３巻７号中の一一
、ピエリ（Ｐ。
例に関する次の説明によってより明かになされるであろ
う。そこに示された例及び附属され九図面は本発明を制
限するものではない・次に述べる脱甲は１９ｇｊ年１２
月発行のＣ５ＥＬＴ技術報告書、第１３巻７号中の一一
、ピエリ（Ｐ。
Ｂｉｅｌｌｌ ）等による、多周波アンテナ用ダイクロ
イク副反射器と題された紙面中に詳述され九タイグのグ
イクロイクアンテナ構造を製造する方法に関する。
イク副反射器と題された紙面中に詳述され九タイグのグ
イクロイクアンテナ構造を製造する方法に関する。
より特別には該報告記事はグイクロイク副反射器を形成
する絶縁及び導電層の複合シリーズ及び成る種の形式の
選択性アンテナエレメントを図解している。
する絶縁及び導電層の複合シリーズ及び成る種の形式の
選択性アンテナエレメントを図解している。
より良き参照として、後者は第１０中に記載されている
。参照記号ａＩ、ＣＤ、ＳＬ、ＪＣはリング、十字形グ
イポール、四角形ルー！及びいわゆるエルサレム十字形
を形成するエレメント全指定する。
。参照記号ａＩ、ＣＤ、ＳＬ、ＪＣはリング、十字形グ
イポール、四角形ルー！及びいわゆるエルサレム十字形
を形成するエレメント全指定する。
本発明の方法によれば、アンテナエレメントのグリッド
を支持するように働く絶縁材料で作られ几榊造が先ず最
初ＶＣ製造される。この構造は、カッターヘッドを具イ
１し念コンピュータコントロールされた機械による機械
加工で製造可能であり、または同様な方法でそれを成形
型具によっても製造可能である。その表面は、平面まｔ
は曲面いずれでもあり得て、かつ、凹ま九は凸状曲面形
状でもあり得て、さらに／グリッドｔｅは２グリツドの
希望に応じて、１表面ま交は両表面の均一厚みのメタリ
ック層で覆われる。
を支持するように働く絶縁材料で作られ几榊造が先ず最
初ＶＣ製造される。この構造は、カッターヘッドを具イ
１し念コンピュータコントロールされた機械による機械
加工で製造可能であり、または同様な方法でそれを成形
型具によっても製造可能である。その表面は、平面まｔ
は曲面いずれでもあり得て、かつ、凹ま九は凸状曲面形
状でもあり得て、さらに／グリッドｔｅは２グリツドの
希望に応じて、１表面ま交は両表面の均一厚みのメタリ
ック層で覆われる。
適当なる写真的エマル２１７層がそれからメタリック層
上に配置され、化学的浴槽によるエツチングのなｈ部分
金保饅する。この層の製造は可能なる限り均一な厚みｔ
−得る几めに特別な注意ｔ−要する。これはアンテナエ
レメントをより正確にし、投射工程のマスクにおｈて生
ずるコリメーション誤差を制限する働きをする。該層は
以後ここに説明されるようにコンピュータコントロール
された機械で作用効果される連続スプレィでなされ、該
コンピュータコントロールされた機械はその移動可能な
腕部に適当なるスプレィ装置が固定されている。
上に配置され、化学的浴槽によるエツチングのなｈ部分
金保饅する。この層の製造は可能なる限り均一な厚みｔ
−得る几めに特別な注意ｔ−要する。これはアンテナエ
レメントをより正確にし、投射工程のマスクにおｈて生
ずるコリメーション誤差を制限する働きをする。該層は
以後ここに説明されるようにコンピュータコントロール
された機械で作用効果される連続スプレィでなされ、該
コンピュータコントロールされた機械はその移動可能な
腕部に適当なるスプレィ装置が固定されている。
このような方法で用意された構造はそれから、その形状
を正しく表現するノクラメータが供給され九コンピュー
タコントロールによる機械の表面平板上に置かれる。こ
の機械は少く共、乙可能自山度即ち、カーテシアン軸に
溢う３移動軸及び同一軸周囲の３ｆａの回転の中、ｊ？
有する腕によって構成されねばならない。
を正しく表現するノクラメータが供給され九コンピュー
タコントロールによる機械の表面平板上に置かれる。こ
の機械は少く共、乙可能自山度即ち、カーテシアン軸に
溢う３移動軸及び同一軸周囲の３ｆａの回転の中、ｊ？
有する腕によって構成されねばならない。
写真的グロノエフターはここに以後説明される腕の端に
設置される。このグロノエフターはアンテナエレメント
の描写される形状に応じてアンテナエレメントまたは小
さい光点を表現するマスクを命令によって投射可能であ
る。前者の場合は、適当なるプログラムによって、単一
エレメントが見出され、従って光軸が中心点表面上に垂
直に共軸なるようにｆａジエクター金回転させる種々な
る位置に対して、！ロジエクターが移動出来るように、
前記腕は１−制御される。もしもエレメントがルー！な
らば、投射は即刻開始可能である。；しかしながら、そ
れはグイポールかｔｅは十字形であって、６自由度は希
望の偏波面に従うマスクを樹立し、従って投射がプログ
ラムコントロールの下で！Ｉｍ！施されるように利用さ
れる。
設置される。このグロノエフターはアンテナエレメント
の描写される形状に応じてアンテナエレメントまたは小
さい光点を表現するマスクを命令によって投射可能であ
る。前者の場合は、適当なるプログラムによって、単一
エレメントが見出され、従って光軸が中心点表面上に垂
直に共軸なるようにｆａジエクター金回転させる種々な
る位置に対して、！ロジエクターが移動出来るように、
前記腕は１−制御される。もしもエレメントがルー！な
らば、投射は即刻開始可能である。；しかしながら、そ
れはグイポールかｔｅは十字形であって、６自由度は希
望の偏波面に従うマスクを樹立し、従って投射がプログ
ラムコントロールの下で！Ｉｍ！施されるように利用さ
れる。
後者の場合は、即ち、グロノエフターが光点投射のみｏ
Ｔ％ｉ！なる場合であって、プログラムは連続変位でア
ンテナエレメントの全形状を描写し、峙に、長いストリ
ップがグイクロイク偏波に提供される場合社、同時に富
にその光面上に垂直なるように投射軸の方向を制御する
。
Ｔ％ｉ！なる場合であって、プログラムは連続変位でア
ンテナエレメントの全形状を描写し、峙に、長いストリ
ップがグイクロイク偏波に提供される場合社、同時に富
にその光面上に垂直なるように投射軸の方向を制御する
。
現今、適切なコンピュータコントロールされ几機械の埼
々の形式が商業的に利用可能である。第１の形式は測定
機械と称せられるものより成り立つ。それらは表面平板
に泪って移動出来る橋を具備し、−万においては、核種
で支持されるキャリニジは橋の運動に対して垂直に移動
出来る。キャリニジは島さ方向に変位される腕を有して
おり、該腕は自由度ｊの量に関し、２個の回転運動可能
なる測定グループ金担持する。該測定グループは本発明
の方法を履行する既出の７’ａジエクターにより、容易
に↑捷換出来ろ。この機械の確度は非常に高く＋または
−／μｍすらにも達する。
々の形式が商業的に利用可能である。第１の形式は測定
機械と称せられるものより成り立つ。それらは表面平板
に泪って移動出来る橋を具備し、−万においては、核種
で支持されるキャリニジは橋の運動に対して垂直に移動
出来る。キャリニジは島さ方向に変位される腕を有して
おり、該腕は自由度ｊの量に関し、２個の回転運動可能
なる測定グループ金担持する。該測定グループは本発明
の方法を履行する既出の７’ａジエクターにより、容易
に↑捷換出来ろ。この機械の確度は非常に高く＋または
−／μｍすらにも達する。
コンピュータコントロールによる他の種類は＾わゆる組
立口Ｉットと称せられる。その機械の代表例″ｔ−第２
図に示す。プロジェクタ−が適用される場所へビンサー
ＰＩを具備し次アー五ＢＲ及び費面板ＰＲが供給される
。自由度ｊは静止！であって、即ち、Ｘ軸に沿うガイド
ＧＵ内のキャリニジＣＡの移動、２軸に溢うキャリエゾ
ＣＡ内で得られるガイド内のコラムＣＯの移動及びｙ軸
に沿うヘッドストックＴＥのガイド内のアームＢＨの移
動である。さらに可能なる２個の回転であって：アーム
ＢＲＯ軸周囲のリス）ＰＯの回転とビンサーＰＩ周囲の
回転である。確度は測定機械より一般的に低込；代表的
裕度は＋ま友は一２５μｍ程度である。
立口Ｉットと称せられる。その機械の代表例″ｔ−第２
図に示す。プロジェクタ−が適用される場所へビンサー
ＰＩを具備し次アー五ＢＲ及び費面板ＰＲが供給される
。自由度ｊは静止！であって、即ち、Ｘ軸に沿うガイド
ＧＵ内のキャリニジＣＡの移動、２軸に溢うキャリエゾ
ＣＡ内で得られるガイド内のコラムＣＯの移動及びｙ軸
に沿うヘッドストックＴＥのガイド内のアームＢＨの移
動である。さらに可能なる２個の回転であって：アーム
ＢＲＯ軸周囲のリス）ＰＯの回転とビンサーＰＩ周囲の
回転である。確度は測定機械より一般的に低込；代表的
裕度は＋ま友は一２５μｍ程度である。
ま九自由度乙及び裕度十まｔは−１１００ｔｔの擬人化
（ａｎｔｈｒｏｐｏｍｏｒｐｈ ）口Ｉットも使用出来
る。
（ａｎｔｈｒｏｐｏｍｏｒｐｈ ）口Ｉットも使用出来
る。
すべての選択性アンテナエレメントが絶縁層の両表面上
ま几は表面上に投射された後、写真的エマルジョンが現
像され、かつ、化学的エツチングが導電層の超過部分に
実施される。
ま几は表面上に投射された後、写真的エマルジョンが現
像され、かつ、化学的エツチングが導電層の超過部分に
実施される。
本発明の方法に適したプロジェクタ−の一種が第３図に
示される。それは高過ぎる熱膨張による姿態変動を避け
るように電動ファンｖＥで程よく冷却されるセミコンダ
クタレーデまｔは他の種類のレーデ等の、いわゆる規則
性光源（ｐｕｎｔ ｉｆｏｒｍｌｉｇｈｔ ５ｏｕｒｃ
＠） Ｓ Ｐよりなる。これは光源が高電力消脅を生ず
る場合、特に必要である。該源の前方にダイアフラムＤ
Ｉ及び光学的コンデンサーｃ。
示される。それは高過ぎる熱膨張による姿態変動を避け
るように電動ファンｖＥで程よく冷却されるセミコンダ
クタレーデまｔは他の種類のレーデ等の、いわゆる規則
性光源（ｐｕｎｔ ｉｆｏｒｍｌｉｇｈｔ ５ｏｕｒｃ
＠） Ｓ Ｐよりなる。これは光源が高電力消脅を生ず
る場合、特に必要である。該源の前方にダイアフラムＤ
Ｉ及び光学的コンデンサーｃ。
が設電される。ＣＯかも外に出て行く光はマスクＭＡを
横断し、そこで投射される姿態が再生され、かつ投射対
象ＯＰによって焦点合わせされる。ｏＰはグイクロイク
構造の表面上にＮｉ像するように調整し得、かつ、可能
なる倍軍ま７１１同−姿態の縮小を許容するべく調整さ
れる。投射対象は一般的に曲面上投射の故に歪曲を最小
ならしむるｔめ°良好なる界深度を提供すべきである。
横断し、そこで投射される姿態が再生され、かつ投射対
象ＯＰによって焦点合わせされる。ｏＰはグイクロイク
構造の表面上にＮｉ像するように調整し得、かつ、可能
なる倍軍ま７１１同−姿態の縮小を許容するべく調整さ
れる。投射対象は一般的に曲面上投射の故に歪曲を最小
ならしむるｔめ°良好なる界深度を提供すべきである。
゛まｔマスク風は調整装ＭＤＣによって正確に集中化さ
れる。最後にフランジＦ’Ｌはコンビエータコントロー
ル機械の移動アームにプロジェクタ−が固定されるよう
に許容する。
れる。最後にフランジＦ’Ｌはコンビエータコントロー
ル機械の移動アームにプロジェクタ−が固定されるよう
に許容する。
第９図は２１ＭのマスクＭＣとＭＧを示し、これらは如
何なる姿！＠１をも描出する光点及び断面形状エレメン
トを各々投射するべく使用可能である。
何なる姿！＠１をも描出する光点及び断面形状エレメン
トを各々投射するべく使用可能である。
ここに説明し九個は本発明のスコーｆを制限するものに
非ずして、変更や変化は本発明のスコーグから逸脱する
ことなく可能である。
非ずして、変更や変化は本発明のスコーグから逸脱する
ことなく可能である。
第１図は種々の可能なる選択性アンテナエレメントを示
す。第２図は組立口〆ットの鋼視図である。第３図はグ
ロジエクターの構成を示す断面図である。第１図はアン
テナエレメントの投射用の２’ＦＪのマスクを示す。 ８１・・・リング、ＣＤ・・・十字形ダイポール、ＳＬ
。 ・・・四角形ループ、ＪＣ・・・エルサレム十字形、Ｐ
Ｉ・・・ピンサー、ＢＲ・・・アーム、ＰＲ・・・表面
平板、ＧＵ・・・ガイド、ＣＡ・・・キャリニジ、ＣＯ
・・・コラム、ＴＥ・・・ヘッドストック、ＰＯ・・・
リスト、ｖＥ・−・電動ファン、ＳＰ・・・規則性光源
、ＤＩ−・・ダイアフラム、ＣＯ・・・光学的コンデン
サ、ｏｐ・・・投射対象、ＭＡ・・・マス／、ＦＬ・・
・フランジ、ＭＧ・・・マスク。 代理人の氏名 Ｊｌｌ原１）−穏 Ｆｌ（Ｊ、４ ｐｎ ＦＩＣｔ、 ２ ＦＩＣｔ３ Ｆｌ（、，４
す。第２図は組立口〆ットの鋼視図である。第３図はグ
ロジエクターの構成を示す断面図である。第１図はアン
テナエレメントの投射用の２’ＦＪのマスクを示す。 ８１・・・リング、ＣＤ・・・十字形ダイポール、ＳＬ
。 ・・・四角形ループ、ＪＣ・・・エルサレム十字形、Ｐ
Ｉ・・・ピンサー、ＢＲ・・・アーム、ＰＲ・・・表面
平板、ＧＵ・・・ガイド、ＣＡ・・・キャリニジ、ＣＯ
・・・コラム、ＴＥ・・・ヘッドストック、ＰＯ・・・
リスト、ｖＥ・−・電動ファン、ＳＰ・・・規則性光源
、ＤＩ−・・ダイアフラム、ＣＯ・・・光学的コンデン
サ、ｏｐ・・・投射対象、ＭＡ・・・マス／、ＦＬ・・
・フランジ、ＭＧ・・・マスク。 代理人の氏名 Ｊｌｌ原１）−穏 Ｆｌ（Ｊ、４ ｐｎ ＦＩＣｔ、 ２ ＦＩＣｔ３ Ｆｌ（、，４
Claims (9)
- （１）導電性選択性アンテナエレメントで覆われた単一
もしくは両表面を有する、少く共、単一の絶縁層よりな
るダイクロイクアンテナ構造を製造する方法であつて、 対向表面の希望された形状を有する絶縁層の構成の工程
と、 単一もしくは両対向表面の金属化の工程と、各々の金属
化層上の写真的エマルジョンの均一層の配置工程と、 コンピュータコントロール機械の移動アーム上に塔載さ
れたプロジェクターによる前記の写真的エマルジョン層
上における前記選択性アンテナエレメントの形状の投射
工程と、 前記写真的エマルジョンの現像工程及び、 超過している導電性部分の化学的エッチングの工程を含
んでなることを特徴とする前記方法。 - （２）カッターヘッドが固定された移動アームを有する
前記のコンピュータコントロール機械を用いることによ
つて、前記絶縁層が構築されることを特徴とする特許請
求の範囲第（１）項記載の方法。 - （３）カッターヘッドが固定されたこのコンピュータコ
ントロール機械で作られた成形用型を使用して前記絶縁
層が得られることを特徴とする特許請求の範囲第（１）
項記載の方法。 - （４）スプレー装置が固定された移動アームを有する前
記コンピュータコントロール機械を使用して前記金属化
層上に前記写真エマルジョンの均一層が配置されること
を特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の方法。 - （５）各々の選択性アンテナエレメントが金属化層上に
希望された位置に対応して全体的に投射されることを特
徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の方法。 - （６）各々の選択性アンテナエレメントが金属化層上に
希望された位置に対応して一点づつ投射されることを特
徴とする特許請求の範囲第（１）項記載の方法。 - （７）前記コンピュータコントロールされた機械は測定
機械であることを特徴とする特許請求の範囲第（１）項
記載の方法。 - （８）前記コンピュータコントロールされた機械は組立
てロボットであることを特徴とする特許請求の範囲第（
１）項記載の方法。 - （９）前記コンピュータコントロールされた機械は擬人
化ロボットであることを特徴とする特許請求の範囲第（
１）項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT67628/86A IT1195120B (it) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | Procedimento per la fabbricazione di strutture dicroiche d antenna |
| IT67628-A/86 | 1986-08-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6342508A true JPS6342508A (ja) | 1988-02-23 |
| JPH0650807B2 JPH0650807B2 (ja) | 1994-06-29 |
Family
ID=11304024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62186788A Expired - Lifetime JPH0650807B2 (ja) | 1986-08-04 | 1987-07-28 | ダイクロイクアンテナ構造を製造する方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4835087A (ja) |
| EP (1) | EP0261356B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0650807B2 (ja) |
| AU (1) | AU590942B2 (ja) |
| CA (1) | CA1326156C (ja) |
| DE (2) | DE3767099D1 (ja) |
| IT (1) | IT1195120B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02281258A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-11-16 | Trw Inc | ３次元表面に複雑な精密パターンを作成する方法 |
| US9173428B2 (en) | 2007-09-28 | 2015-11-03 | Riken Vitamin Co., Ltd. | Method for producing powdery emulsified fat and oil |
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| IL105925A (en) * | 1992-06-22 | 1997-01-10 | Martin Marietta Corp | Ablative process for printed circuit board technology |
| IL105923A0 (en) * | 1992-06-26 | 1993-10-20 | Martin Marietta Corp | Direct laser imaging for threedimensional circuits and the like |
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| FR2882490B1 (fr) | 2005-02-23 | 2009-04-24 | Eads Space Transp Sas Soc Par | Procede pour la realisation de motifs electriquement conducteurs sur une surface non developpable d'un substrat isolant, et dispositif obtenu |
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| JP4838638B2 (ja) * | 2006-06-08 | 2011-12-14 | 三菱電線工業株式会社 | 電波遮蔽体及びその製造方法 |
| GB2452665B (en) * | 2006-06-02 | 2010-11-24 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | Radio shielding partitioning plane material and method for manufacturing the same |
| WO2008024643A2 (en) | 2006-08-11 | 2008-02-28 | Battelle Memorial Institute | Patterning non-planar surfaces |
| JP2020048044A (ja) * | 2018-09-18 | 2020-03-26 | 株式会社東芝 | 反射板、反射板の基部の製造方法、空中線 |
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|---|---|---|---|---|
| US3694080A (en) * | 1970-03-09 | 1972-09-26 | Massachusetts Inst Technology | Method of and apparatus for photoprinting conductor patterns on the curved surfaces of transducers |
| US3907565A (en) * | 1973-12-26 | 1975-09-23 | Bendix Corp | Process for manufacturing domed spiral antennas |
| US4001836A (en) * | 1975-02-28 | 1977-01-04 | Trw Inc. | Parabolic dish and method of constructing same |
| US4388388A (en) * | 1981-06-04 | 1983-06-14 | General Dynamics Electronics Division | Method of forming metallic patterns on curved surfaces |
| CA1225510A (en) * | 1983-01-20 | 1987-08-18 | Stig O. Andersson | Micro wave antenna |
| IT1179945B (it) * | 1984-10-09 | 1987-09-16 | Bisiach & Carru | Robot a fascio laser di potenza |
| IT1190021B (it) * | 1986-05-30 | 1988-02-10 | Gte Telecom Spa | Metodo per la produzione di antenne a microonde |
-
1986
- 1986-08-04 IT IT67628/86A patent/IT1195120B/it active
-
1987
- 1987-07-23 AU AU76113/87A patent/AU590942B2/en not_active Ceased
- 1987-07-28 JP JP62186788A patent/JPH0650807B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-07-29 CA CA000543313A patent/CA1326156C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-07-30 US US07/079,817 patent/US4835087A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-08-03 DE DE8787111162T patent/DE3767099D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-03 DE DE198787111162T patent/DE261356T1/de active Pending
- 1987-08-03 EP EP87111162A patent/EP0261356B1/en not_active Expired
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH02281258A (ja) * | 1989-03-29 | 1990-11-16 | Trw Inc | ３次元表面に複雑な精密パターンを作成する方法 |
| US9173428B2 (en) | 2007-09-28 | 2015-11-03 | Riken Vitamin Co., Ltd. | Method for producing powdery emulsified fat and oil |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0261356A1 (en) | 1988-03-30 |
| JPH0650807B2 (ja) | 1994-06-29 |
| EP0261356B1 (en) | 1990-12-27 |
| US4835087A (en) | 1989-05-30 |
| CA1326156C (en) | 1994-01-18 |
| IT8667628A1 (it) | 1988-02-04 |
| AU7611387A (en) | 1988-02-11 |
| AU590942B2 (en) | 1989-11-23 |
| IT1195120B (it) | 1988-10-12 |
| DE3767099D1 (de) | 1991-02-07 |
| DE261356T1 (de) | 1988-11-24 |
| IT8667628A0 (it) | 1986-08-04 |
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