JPH0650807B2 - ダイクロイクアンテナ構造を製造する方法 - Google Patents

ダイクロイクアンテナ構造を製造する方法

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JPH0650807B2
JPH0650807B2 JP62186788A JP18678887A JPH0650807B2 JP H0650807 B2 JPH0650807 B2 JP H0650807B2 JP 62186788 A JP62186788 A JP 62186788A JP 18678887 A JP18678887 A JP 18678887A JP H0650807 B2 JPH0650807 B2 JP H0650807B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はマイクロウエーブ領域に属する電磁輻射に用い
る無線通信機器に関し、より特別には、ダイクロイクア
ンテナ構造を製造する方法に関する。
従来技術の説明 周知の如く、ダイクロイクアンテナ構造は或る周波数の
輻射及び偏波における伝送特性及び他の輻射に関する反
射特性を提供する表面より成立する。
前記表面に関する最も広く用いられている形状は円形パ
ラボラや二重曲面楕円あるいは円状楕円体等である。；
一般的にその形状はマイクロウエーブアンテナ系の反射
器または副反射器に利用するのに適したものである。こ
の表面は良好な機械的特性を有する絶縁材料より作ら
れ、導電性グリツドは選択性アンテナの多数よりなつて
配置される。このグリツドは一般的にリング状、十字形
状、ストリツプ状の形状のエレメントで構築される。エ
レメントの寸法は一般的に動作電磁輻射の波長及び必要
とされる裕度により、寸法とエレメント間（内部軸）の
距離の両者は反射された電磁界の数千分の一に等しい；
例として２０GHzではその確度要求は＋または−１００
μｍである。従つて希望確度で履行する上で、遭遇する
困難は必要とされるアンテナエレメントの多数であつ
て、さらにそれらは曲面上に配置されることである。
上述のエレメントは写真的マスキング及び超過部分の化
学的エツチングを用いたプリント配線回路を製造するの
に使用される方法に従つて一般的に製造される。しか
し、本方法の実行は困難なくしては達成出来ない。何故
ならば、マスクは平坦表面上のみに得られ、一方におい
ては、それが投射される支持は既に述べた形式の曲面を
提供するからである。
この問題の多数の解決は従来技術として周知であつて、
即ち、１９７９年７月発行のIEEE報告書のアンテナ及び
伝播に関する第AP 27 巻、４号におけるビシワニ デイ
ー．アグラワル(Vishwani D. Agrawal )等によるダイク
ロイク カセグレイン（Dichroic Cassegrain ）副反射
器の設計と題した紙面に記述されている。十字形ダイポ
ールよりなるダイクロイク表面は平坦なケブラー（Kevl
ar）表面上の写真エツチング技術に従つて製造される。
これは後に希望形状のアルミニウム型具で設定され、保
護材料層で覆われ、かつ、真空の袋の中の型具に付して
圧せられる。該層のシリーズは最後に高温のオブン内で
焼き固められる。この方法で得られる確度はそれ程高く
ない、なぜならば曲面の型に対して圧せられる場合の平
坦なダイクロイク表面によつて生ずる歪曲は制御出来な
いからである。実際上、これらの歪曲は例えばダイクロ
イク表面の一定の厚みや加圧の均一性等に対する制御が
困難な多数の要因による。
別の解決は米国特許第４，００１，８３６号に開示され
ている。この発明によると、ダイクロイク構造は側面対
向状に配列され、都合良く歪曲したストリツプ状のマス
クを作る最終湾曲構造で直接製造される。この方法はそ
れ程充分なものではない。何故ならば、ストリツプは手
動で配置されねばならず、又、時間がかかるからであ
る。その上さらにその方法はパラボラ状表面に関しての
み有効なのである。
発明の目的及び効果 上記の不利益は本発明によつて提供される方法によつて
克服され、本発明の方法は完全自動法を使用し、如何な
る寸法や位置に関しても高確度で、かつ、如何なる形状
のエレメントでも、任意の湾曲表面上に直接、ダイクロ
イクアンテナ構造が作られように許容する。
発明の構成及び実施例 本発明は導電性選択性アンテナエレメントを有する単一
または両表面の少く共、単一絶縁層よりなるダイクロイ
クアンテナ構造を製造する方法を提供し、特に次の工程
よりなることを特徴とする； 対向表面の希望の形状を有する絶縁層の構造と、 単一または両対向表面の金属化と、 各々の金属化層上の写真的エマルジヨンの均一層の配置
と、 コンピユータコントロールされた機械の移動アーム上に
塔載されたプロジエクターによる前記写真エマルジヨン
上への前記選択性アンテナエレメントの形状の投射と、 前記写真的エマルジヨンの現像と、 超過している導電部分の化学的エツチング等である。
これら及び他の特性に関しては、本発明は望ましい実施
例に関する次の説明によつてより明かになされるであろ
う。そこに示された例及び附属された図面は本発明を制
限するものではない。
次に述べる説明は１９８５年１２月発行のCSELT 技術報
告書、第１３巻７号中のピー．ビエリ（Ｐ．Bielli）等
による、多周波アンテナ用ダイクロイク副反射器と題さ
れた紙面中に詳述されたタイプのダイクロイクアンテナ
構造を製造する方法に関する。より特別には該報告記事
はダイクロイク副反射器を形成する絶縁及び導電層の複
合シリーズ及び或る種の形式の選択性アンテナエレメン
トを図解している。より良き参照として、後者は第１図
中に記載されている。参照記号ＲＩ，ＣＤ，ＳＬ，ＪＣ
はリング、十字形ダイポール、四角形ループ及びいわゆ
るエルサレム十字形を形成するエレメントを指定する。
本発明の方法によれば、アンテナエレメントのグリツド
を支持するように働く絶縁材料で作られた構造が先ず最
初に製造される。この構造は、カツターヘツドを具備し
たコンピユータコントロールされた機械による機械加工
で製造可能であり、または同様な方法でそれを成形型具
によつても製造可能である。その表面は、平面または曲
面いずれでもあり得て、かつ、凹または凸状曲面形状で
もあり得て、さらに１グリツドまたは２グリツドの希望
に応じて、１表面または両表面の均一厚みのメタリツク
層で覆われる。
適当なる写真的エマルジヨン層がそれからメタリツク層
上に配置され、化学的浴槽によるエツチングのない部分
を保護する。この層の製造は可能なる限り均一な厚みを
得るために特別な注意を要する。これはアンテナエレメ
ントをより正確にし、投射工程のマスクにおいて生ずる
コリメーシヨン誤差を制限する働きをする。該層は以後
ここに説明されるようにコンピユータコントロールされ
た機械で作用効果される連続スプレイでなされ、該コン
ピユータコントロールされた機械はその移動可能な腕部
に適当なるスプレイ装置が固定されている。
このような方法で用意された構造はそれから、その形状
を正しく表現するパラメータが供給されたコンピユータ
コントロールによる機械の表面平板上に置かれる。この
機械は少く共、６可能自由度即ち、カーテシアン軸に沿
う３移動軸及び同一軸周囲の３個の回転の中、５を有す
る腕によつて構成されねばならない。
写真的プロジエクターはここで以後説明される腕の端に
設置される。このプロジエクターはアンテナエレメント
の描写される形状に応じてアンテナエレメントまたは小
さい光点を表現するマスクを命令によつて投射可能であ
る。前者の場合は、適当なるプログラムによつて、単一
エレメントが見出され、従つて光軸が中心点表面上に垂
直に共軸なるようにプロジエクターを回転させる種々な
る位置に対して、プロジエクターが移動出来るように、
前記腕は制御される。もしもエレメントがループなら
ば、投射は即刻開始可能である。；しかしながら、それ
はダイポールかまたは十字形であつて、６自由度は希望
の偏波面に従うマスクを樹立し、従つて投射がプログラ
ムコントロールの下で実施されるように利用される。
後者の場合は、即ち、プロジエクターが光点投射のみ可
能なる場合であつて、プログラムは連続変位でアンテナ
エレメントの全形状を描写し、特に、長いストリツプが
ダイクロイク偏波に提供される場合は、同時に常にその
表面上に垂直なるように投射軸の方向を制御する。
現今、適切なコンピユータコントロールされた機械の種
々の形式が商業的に利用可能である。第１の形式は測定
機械と称せられるものより成り立つ。それらは表面平板
に沿つて移動出来る橋を具備し、一方においては、該橋
で支持されるキヤリエジは橋の運動に対して垂直に移動
出来る。キヤリエジは高さ方向に変位される腕を有して
おり、該腕は自由度５の量に関し、２個の回転運動可能
なる測定プルーブを担持する。該測定プルーブは本発明
の方法を履行する既出のプロジエクターにより、容易に
置換出来る。この機械の確度は非常に高く＋または−１
μｍすらにも達する。
コンピユータコントロールによる他の種類はいわゆる組
立ロボツトと称せられる。その機械の代表例を第２図に
示す。プロジエクターが適用される場所へピンサーＰＩ
を具備したアームＢＲ及び表面板ＰＲが供給される。自
由度５は静止５であつて、即ち、ｘ軸に沿うガイドＧＵ
内のキヤリエジＣＡの移動、ｚ軸に沿うキヤリエジＣＡ
内で得られるガイド内のコラムＣＯの移動及びｙ軸に沿
うヘツドストツクＴＥのガイド内のアームＢＲの移動で
ある。さらに可能なる２個の回転であつて：アームＢＲ
の軸周囲のリストＰＯの回転とピンサーＰＩ周囲の回転
である。確度は測定機械より一般的に低い；代表的裕度
は＋または−２５μｍ程度である。
また自由度６及び裕度＋または−１００μｍの擬人化
（anthropomorph）ロボツトも使用出来る。
すべての選択性アンテナエレメントが絶縁両の量表面上
または表面上に投射された後、写真的エマルジヨンが現
像され、かつ、化学的エツチングが導電層の超過部分に
実施される。
本発明の方法に適したプロジエクターの一種が第３図に
示される。それは高過ぎる熱膨張による姿熱変動を避け
るように伝導フアンＶＥで程よく冷却されるセミコンダ
クタレーザまたは他の種類のレーザ等の、いわゆる規則
性光源（puntiform light source）ＳＰよりなる。これ
は光源が高電力消費を生ずる場合、特に必要である。該
源の前方にダイアフラムＤＩ及び光学的コンデンサーCO
が設置される。ＣＯから外に出て行く光はマスクＭＡを
横断し、そこで投射される姿態が再生され、かつ投射対
象ＯＰによつて焦点合わせされる。OPはダイクロイク構
造の表面上に結像するように調整し得、かつ、可能なる
倍率または同一姿態の縮小を許容するべく調整される。
投射対象は一般的に曲面上投射の故に歪曲を最小ならし
むるため良好なる界深度を提供すべきである。またマス
クMAは調整装置ＤＣによつて正確に集中化される。最後
にフランジＦＬはコンピユータコントロール機械の移動
アームにプロジエクターが固定されるように許容する。
第４図は２箇のマスクＭＣとＭＧを示し、これらは如何
なる姿態をも描出する光点及び断面形状エレメントを各
々投射するべく使用可能である。ここに説明した例は本
発明のスコープを制限するものに非ずして、変更や変化
は本発明のスコープから逸脱することなく可能である。
【図面の簡単な説明】
第１図は種々の可能なる選択性アンテナエレメントを示
す。第２図は組立ロボツトの斜視図である。第３図はプ
ロジエクターの構成を示す断面図である。第４図はアン
テナエレメントの投射用の２箇のマスクを示す。 ＲＩ……リング、ＣＤ……十字形ダイポール、ＳＬ……
四角形ループ、ＪＣ……エルサレム十字形、ＰＩ……ピ
ンサー、ＢＲ……アーム、ＰＲ……表面平板、GU……ガ
イド、ＣＡ……キヤリエジ、ＣＯ……コラム、TE……ヘ
ツドストツク、ＰＯ……リスト、ＶＥ……電動フアン、
ＳＰ……規則性光源、ＤＩ……ダイアフラム、ＣＯ……
光学的コンデンサ、ＯＰ……投射対象、ＭＡ……マス
ク、ＦＬ……フランジ、ＭＧ……マスク。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 サレヴアトレ・コンツウ イタリー国ペチエツト・トリネゼ（トリ ノ）、ストラダ・エレモ 120 (72)発明者 ヂウゼツペ・コチト イタリー国サン・ヂウスト・カナヴエーゼ （トリノ）、ヴイア・メ・ダツエグリオ 15

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】導電性選択性アンテナエレメントで覆われ
    た単一もしくは両表面を有する、少く共、単一の絶縁層
    よりなるダイクロイクアンテナ構造を製造する方法であ
    つて、 対向表面の希望された形状を有する絶縁層の構成の工程
    と、 単一もしくは両対向表面の金属化の工程と、 各々の金属化層上の写真的エマルジヨンの均一層の配置
    工程と、 コンピユータコントロール機械の移動アーム上に搭載さ
    れたプロジエクターによる前記の写真的エマルジヨン層
    上における前記選択性アンテナエレメントの形状の投射
    工程と、 前記写真的エマルジヨンの現像工程及び、超過している
    導電性部分の化学的エツチングの工程を含んでなること
    を特徴とする前記方法。
  2. 【請求項２】カツターヘツドが固定された移動アームを
    有する前記のコンピユータコントロール機械を用いるこ
    とによつて、前記絶縁層が構築されることを特徴とする
    特許請求の範囲第(1)項記載の方法。
  3. 【請求項３】カツターヘツドが固定されたこのコンピユ
    ータコントロール機械で作られた成形用型を使用して前
    記絶縁層が得られることを特徴とする特許請求の範囲第
    (1)項記載の方法。
  4. 【請求項４】スプレー装置が固定された移動アームを有
    する前記コンピユータコントロール機械を使用して前記
    金属化層上に前記写真エマルジヨンの均一層が配置され
    ることを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の方
    法。
  5. 【請求項５】各々の選択性アンテナエレメントが金属化
    層上に希望された位置に対応して全体的に投射されるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の方法。
  6. 【請求項６】各々の選択性アンテナエレメントが金属化
    層上に希望された位置に対応して一点づつ投射されるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の方法。
  7. 【請求項７】前記コンピユータコントロールされた機械
    は測定機械であることを特徴とする特許請求の範囲第
    (1)項記載の方法。
  8. 【請求項８】前記コンピユータコントロールされた機械
    は組立てロボツトであることを特徴とする特許請求の範
    囲第(1)項記載の方法。
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JPS6342508A JPS6342508A (ja) 1988-02-23
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