JPS6341539Y2 - - Google Patents

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JPS6341539Y2
JPS6341539Y2 JP1981112187U JP11218781U JPS6341539Y2 JP S6341539 Y2 JPS6341539 Y2 JP S6341539Y2 JP 1981112187 U JP1981112187 U JP 1981112187U JP 11218781 U JP11218781 U JP 11218781U JP S6341539 Y2 JPS6341539 Y2 JP S6341539Y2
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JP
Japan
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spiral
slide valve
valve
negative pressure
wall surface
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JP1981112187U
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  • Control Of Throttle Valves Provided In The Intake System Or In The Exhaust System (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 本考案はヘリカル型吸気ポートの流路制御装置
に関する。
ヘリカル型吸気ポートは通常吸気弁周りに形成
された渦巻部と、この渦巻部に接線状に接続され
かつほぼまつすぐに延びる入口通路部とにより構
成される。このようなヘリカル型吸気ポートを用
いて吸入空気量の少ない機関低速低負荷運転時に
機関燃焼室内に強力な旋回流を発生せしめようと
すると吸気ポート形状が流れ抵抗の大きな形状に
なつてしまうので吸入空気量の多い機関高速高負
荷運転時に充填効率が低下するという問題があ
る。このような問題を解決するためにヘリカル型
吸気ポート入口通路部から分岐されてヘリカル型
吸気ポート渦巻部の渦巻終端部に連通する分岐路
をシリンダヘツド内に形成し、分岐路内にアクチ
ユエータによつて作動される常時閉鎖型開閉弁を
設けて機関吸入空気量が所定量よりも大きくなつ
たときにアクチユエータを作動させて開閉弁を開
弁するようにしたヘリカル型吸気ポート流路制御
装置が本出願人により既に提案されている。この
ヘリカル型吸気ポートでは機関吸入空気量の多い
機関高速高負荷運転時にヘリカル型吸気ポート入
口通路部内に送り込まれた吸入空気の一部が分岐
路を介してヘリカル型吸気ポート渦巻部内に送り
込まれるために吸入空気流に対する流れ抵抗が低
下し、斯くして高い充填効率を得ることができ
る。しかしながらこの流路制御装置は基本作動原
理を示しているにすぎず、従つて高い充填効率を
確保しつつ機関燃焼室内に最適な旋回流を発生せ
しめるには分岐路から供給される吸入空気のより
一層細かな制御が必要となる。
本考案は高い充填効率を確保しつつ機関燃焼室
内に最適な旋回流を発生せしめることのできる流
路制御装置を提供することにある。
以下、添付図面を参照して本考案を詳細に説明
する。
第1図並びに第2図を参照すると、1はシリン
ダブロツク、2はシリンダブロツク1内で往復動
するピストン、3はシリンダブロツク1上に固定
されたシリンダヘツド、4はピストン2とシリン
ダヘツド3間に形成された燃焼室、5は吸気弁、
6はシリンダヘツド3内に形成されたヘリカル型
吸気ポート、7は排気弁、8はシリンダヘツド3
内に形成された排気ポートを夫々示す。なお、図
には示さないが燃焼室4内に点火栓が配置され
る。
第3図並びに第4図に第2図のヘリカル型吸気
ポート6の形状を図解的に示す。このヘリカル型
吸気ポート6は第4図に示されるように流路軸線
aがわずかに湾曲した入口通路部Aと、吸気弁5
の弁軸周りに形成された渦巻部Bとにより構成さ
れ、入口通路部Aは渦巻部Bに接線状に接続され
る。第3図、第4図並びに第7図に示されるよう
に入口通路部Aの渦巻軸線bに近い側の側壁面9
の上方側壁面9aは下方を向いた傾斜面に形成さ
れ、この傾斜面9aの巾は渦巻部Bに近づくに従
つて広くなり、入口通路部Aと渦巻部Bとの接続
部においては第7図に示されるように側壁面9の
全体が下方に向いた傾斜面9aに形成される。側
壁面9の上半分は吸気弁ガイド10(第2図)周
りの吸気ポート上壁面上に形成された円筒状突起
11の周壁面に滑らかに接続され、一方側壁面9
の下半分は渦巻部Bの渦巻終端部Cにおいて渦巻
部Bの側壁面12に接続される。なお、渦巻部B
の上壁面13は渦巻終端部Cにおいて下向きの急
傾斜壁Dに接続される。
一方、第1図から第5図に示されるようにシリ
ンダヘツド3内には入口通路部Aから分岐された
短形断面を有する分岐路14が形成され、この分
岐路14は渦巻終端部Cに接続される。分岐路1
4の入口開口15は入口通路部Aの入口開口近傍
において側壁面9上に形成され、分岐路14の出
口開口16は渦巻終端部Cにおいて側壁面12の
上端部に形成される。この分岐路14内には分岐
路14の流通面積を制御するスライド弁17が摺
動可能に挿入される。第2図、第3図並びに第5
図に示されるように分岐路14はスライド弁17
の上流側に位置する分岐路部分14aと、スライ
ド弁17の下流側に位置する分岐路部分14bか
らなる。分岐路部分14aはその全長に亘つてほ
ぼ一様な断面形状を有し、一方、分岐路部分14
bは渦巻終端部Cに向けて上下方向に拡開するラ
ツパ状に形成される。従つて分岐路14の出口開
口16は渦巻部Bの側壁面12のほぼ全高さに亘
つて延びる。なお、分岐路部分14aの上壁面と
分岐路部分14bの上壁面はほぼ同一平面内にあ
り、従つてラツパ状分岐路部分14bは斜め下方
に向かつて拡開している。また、分岐路14の出
口開口16の上端縁は渦巻部Bの上壁面13にほ
ぼ面一に連結され、更にこの出口開口16は渦巻
部Bの上壁面13に沿つて旋回する旋回流に対向
するように形成される。
一方、第5図並びに第10図に示されるように
スライド弁17の上端部には弁ロツド18が一体
形成され、この弁ロツド18の上端部はシリンダ
ヘツド3内に嵌着された案内スリーブ19を貫通
して上方に突出する。一方、シリンダヘツド3に
は図示しない軸受を介してアームロツド20が回
動可能に取付けられ、このアームロツド20上に
は各気筒のスライド弁17に対して夫々設けられ
たアーム21が固着される。これらの各アーム2
1の先端部は夫々対応する弁ロツド18の頭部に
ピボツトピン22を介して枢着される。また、ア
ームロツド20には別のアーム23が固着され、
このアーム23の先端部はアクチユエータを構成
する負圧ダイアフラム装置30のダイアフラム3
1に固着された制御ロツド32に連結される。負
圧ダイアフラム装置30はダイアフラム31によ
り隔離された負圧室34と大気圧室33を具備
し、負圧室34内にはダイアフラム押圧用圧縮ば
ね35が挿入される。この負圧室34は負圧導管
36並びに電磁制御弁37を介して負圧アキユム
レータ29に接続される。電磁制御弁37は弁室
38と、負圧アキユムレータ29に連通する負圧
ポート39と、大気に連通する大気ポート40
と、負圧ポート39並びに大気ポート40の開閉
制御をする弁体41と、弁体41に連結された可
動プランジヤ42と、可動プランジヤ吸引用のソ
レノイド43とを具備し、このソレノイド43は
電子制御ユニツト50の出力端子に接続される。
一方、吸気ポート6には吸気管44が接続され、
この吸気管44には図示しない気化器が取付けら
れる。負圧アキユムレータ29は負圧アキユムレ
ータ29から吸気管44に向けてのみ流通可能な
逆止弁45を介して吸気管44内に接続される。
逆止弁45は吸気管44内の負圧が負圧アキユム
レータ29内の負圧よりも大きくなると開弁し、
吸気管44内の負圧が負圧アキユムレータ29内
の負圧よりも小さくなると閉弁するので負圧アキ
ユムレータ29内の負圧は吸気管44内に発生し
た最大負圧に維持される。一方、吸気管44には
吸気管44の負圧を検出するための負圧センサ4
6が取付けられ、この負圧センサ46は電子制御
ユニツト50の入力端子に接続される。また、ア
ームロツド20にはスライド弁17の開口面積を
検出するためのポテンシヨメータ47が取付けら
れる。このポテンシヨメータ47はアームロツド
20に連結されてアームロツド20と共に回転す
る摺動子47aと、固定抵抗47bとにより構成
され、摺動子47aは固定抵抗47b上を接触し
つつ摺動する。従つて摺動子47aにはスライド
弁17の開口面積に比例した電圧が発生する。こ
の摺動子47aは電子制御ユニツト50の入力端
子に接続される。一方、機関クランクシヤフトの
回転数を検出するために回転数センサ48が電子
制御ユニツト50の入力端子に接続される。
電子制御ユニツト50はデイジタルコンピユー
タからなり、各種の演算処理を行なうマイクロプ
ロセツサ(MPU)51、ランダムアクセスメモ
リ(RAM)52、制御プログラム並びに演算定
数等が予め格納されているリードオンリメモリ
(ROM)53、入力ポート54並びに出力ポー
ト55が双方向性バス56を介して互に接続され
ている。更に、電子制御ユニツト50内には各種
のクロツク信号を発生するクロツク発生器57が
設けられる。第10図に示されるように入力ポー
ト54には夫々対応するAD変換器58,59を
介して負圧センサ46並びにポテンシヨメータ4
7が接続され、更に入力ポート54には回転数セ
ンサ48が接続される。負圧センサ46は吸気管
44内の負圧に比例した出力電圧を発生し、この
電圧がAD変換器58において対応する2進数に
変換されてこの2進数が入力ポート54並びにバ
ス56を介してMPU51に読み込まれる。一方、
ポテンシヨメータ47はスライド弁17の開口面
積に比例した出力電圧を発生し、この電圧がAD
変換器59において対応する2進数に変換されて
この2進数が入力ポート54並びにバス56を介
してMPU51に読み込まれる。また、回転数セ
ンサ48はクランクシヤフトが所定クランク角度
回転する毎にパルスを発生し、このパルスが入力
ポート54並びにバス56を介してMPU51に
読み込まれる。
出力ポート55は電磁制御弁37を作動するた
めのデータを出力するために設けられており、こ
の出力ポート55には2進数のデータがMPU5
1からバス56を介して書き込まれる。出力ポー
ト55の各出力端子はダウンカウンタ60の対応
する各入力端子に接続されている。ダウンカウン
タ60はMPU51から書き込まれた2進数のデ
ータをそれに対応する時間の長さに変換するため
に設けられており、このダウンカウンタ60は出
力ポート55から送り込まれたデータのダウンカ
ウントをクロツク発生器57のクロツク信号によ
つて開始し、カウント値が0になるとカウントを
完了して出力端子にカウント完了信号を発生す
る。S−Rフリツプフロツプ61のリセツト入力
端子Rはダウンカウンタ60の出力端子に接続さ
れ、S−Rフリツプフロツプ61のセツト入力端
子Sはクロツク発生器57に接続される。S−R
フリツプフロツプ61はクロツク発生器57のク
ロツク信号によりダウンカウント開始と同時にセ
ツトされ、ダウンカウント完了時にダウンカウン
タ60のカウント完了信号によつてリセツトされ
る。従つてS−Rフリツプフロツプ61の出力端
子Qはダウンカウントが行なわれている間高レベ
ルとなる。S−Rフリツプフロツプ61の出力端
子Qは電力増巾回路62を介して電磁制御弁37
に接続されている。従つて電磁制御弁37のソレ
ノイド43はダウンカウントが行なわれている間
付勢される。
電磁制御弁37のソレノイド43が消勢されて
いるときは第10図に示すように弁体41が大気
ポート40を開口すると共に負圧ポート39を閉
鎖するので負圧ダイアフラム装置30の負圧室3
4内は大気圧となる。このときダイアフラム31
は圧縮ばね35のばね力により左端位置にあるの
でスライド弁17が分岐路14を閉鎖している。
一方、電磁制御弁37のソレノイド43が付勢さ
れると弁体41が大気ポート40を閉鎖すると共
に負圧ポート39を開口するので負圧ダイアフラ
ム装置30の負圧室34内には負圧アキユムレー
タ29内の負圧が加わる。このときダイアフラム
31は圧縮ばね35に抗して右方に移動するため
にスライド弁17は上昇せしめられ、それによつ
てスライド弁17が分岐路14を全開する。前述
したように電磁制御弁37のソレノイド43はダ
ウンカウントが行なわれている間、即ちS−Rフ
リツプフロツプ61の出力端子Qに表われる電圧
が高レベルのとき付勢される。従つて電磁制御弁
37の弁体41が負圧ポート39を開口しかつ大
気ポート40を閉鎖する時間割合はソレノイド4
3に印加されるパルスのデユーテイーサイクルに
比例する。弁体41が負圧ポート39を開口しか
つ大気ポート40を閉鎖する時間が長くなればな
るほど負圧ダイアフラム装置30の負圧室34内
の負圧が大きくなり、スライド弁17の開口面積
が大きくなる。従つてスライド弁17の開口面積
はソレノイド43に印加されるパルスのデユーテ
イーサイクルが大きくなるほど大きくなることが
わかる。
第13図はスライド弁17の開口面積と、機関
回転数N並びに吸気管負圧Pとの好ましい関係を
示している。第13図において縦軸は機関回転数
N(r.p.m.)を示し、横軸は吸気管負圧P(−mm
Hg)を示している。また、ハツチングを付した
曲線S0の上部領域はスライド弁全開領域を示し、
ハツチングを付した曲線S1の下方領域はスライド
弁全閉領域を示し、代表的に2本のみ示した曲線
S2,S3はスライド弁の等開口面積曲線を示してい
る。なお、第13図においてスライド弁の開口面
積はS1からS2,S3を経てS0に向かうに従つて徐々
に大きくなる。第13図に示す機関回転数N並び
に吸気管負圧Pと、スライド弁の開口面積Sとの
好ましい関係は関数或いはデータテーブルの形で
予めROM53内に記憶されている。
第11図は本考案による流路制御装置の作動を
説明するためのフローチヤートを示している。第
11図においてステツプ70は流路制御が時間割
込みで行なわれていることを示している。まず始
めにステツプ71において回転数センサ48の出
力信号をMPU51内に入力して機関回転数を計
算し、次いでステツプ72において負圧センサ4
6の出力信号をMPU51内に入力する。次いで
ステツプ73では計算された機関回転数N並びに
負圧Pを基いてROM53内に記憶された第13
図の関係からスライド弁17の目標開口面積SS
を計算する。次いでステツプ74においてポテン
シヨメータ47の出力信号をMPU51内に入力
して現在のスライド弁17の開口面積Sを計算す
る。次いでステツプ75において目標開口面積
SSが現在の開口面積Sよりも大きいか否かが判
別される。ステツプ75において目標開口面積
SSが現在の開口面積Sよりも大きいと判別され
たときはステツプ76において電磁制御弁37の
ソレノイド43に印加すべきパルスのパルス巾
PLに一定値Aが加算され、この加算結果をPLと
してステツプ77に進む。一方、ステツプ75に
おいて目標開口面積SSが現在の開口面積Sより
も大きくないと判別されたときはステツプ78に
進み、ステツプ78において目標開口面積SSが
現在の開口面積Sよりも小さいか否かが判別され
る。ステツプ78において目標開口面積SSが現
在の開口面積Sよりも小さいと判別されたときは
ステツプ79においてパルス巾PLから一定値A
を減算し、この減算結果をPLとしてステツプ7
7に進む。一方、ステツプ78において目標開口
面積SSが現在の開口面積Sよりも小さくないと
判別されたときはステツプ77に進む。ステツプ
77では斯くして得られたパルス巾PLを表わす
2進数の駆動データを出力ポート55に書込み、
この出力ポート55に書込まれた駆動データに基
いて電磁制御弁37のソレノイド43の付勢制御
が行なわれる。
第12図は電磁制御弁37のソレノイド43に
印加されるパルスを示しており、このパルスが発
生している間ソレノイド43が付勢される。前述
したようにスライド弁17の現在の開口面積Sが
目標開口面積SSよりも小さなときには第12図
に示すように開口面積が目標開口面積SSに達す
るまでパルス巾が順次一定巾づつ増大せしめられ
る。従つてソレノイド43に印加されるパルスの
デユーテイーサイクルが次第に増大するために負
圧ダイアフラム装置30の負圧室34内の負圧は
次第に大きくなり、斯くしてスライド弁17が上
昇して目標開口面積SSとなる。なお、第13図
からわかるように機関低負荷低速運転時、機関高
負荷低速運転時並びに機関低負荷高速運転時には
S−Rフリツプフロツプ61の出力電圧が継続的
に低レベルとなるためにソレノイド43が消勢さ
れつづけ、斯くしてスライド弁17が分岐路14
を閉鎖し続ける。一方、機関高速高負荷運転時に
はS−Rフリツプフロツプ61の出力電圧が継続
的に高レベルとなるためにソレノイド43が付勢
されつづけ、斯くしてスライド弁17が分岐路1
4を全開し続ける。
上述したように吸入空気量の少ない機関低負荷
低速運転時、機関高負荷低速運転時並びに機関低
負荷高速運転時にはスライド弁17が分岐路14
を遮断している。このとき入口通路部A内に送り
込まれた混合気は渦巻部Bの上壁面13に沿つて
旋回しつつ渦巻部B内を下降し、次いで旋回しつ
つ燃焼室4内に流入するので燃焼室4内には強力
な旋回流が発生せしめられる。一方、吸入空気量
が多い機関高速高負荷運転時には第15図に示す
ようにスライド弁17が分岐路14を全開する。
このとき入口通路部A内に送り込まれた混合気の
一部が分岐路部分14a内に流入し、残りの混合
気が入口通路部Aから渦巻部B内に流入する。分
岐路部分14a内に流入した混合気は慣性によつ
て第15図の矢印で示すようにまつすぐに流れ、
次いで出口開口16から渦巻部B内に流入する。
前述したように分岐路14の出口開口16の上端
縁は渦巻部Bの上壁面13にほぼ面一に連結され
ているので分岐路14から流出した混合気は渦巻
部Bの上壁面13に沿つて旋回する全混合気流と
正面衝突して渦巻部Bの上壁面13に沿う全混合
気流を減速せしめる。即ち、渦巻部B内に発生す
る旋回流のうちで渦巻部Bの上壁面13に沿う旋
回流が最も強力であり、この強力な旋回力をもつ
全混合気流が減速せしめられる。このように機関
高速高負荷運転時にはスライド弁17が全開する
ことによつて全体の流路面積が増大するばかりで
なく強力な旋回力をもつ全混合気流が減速せしめ
られることにより旋回流が大巾に弱められるので
高い充填効率を確保することができる。また、入
口通路部Aに傾斜面9aを設けることによつて入
口通路部Aに送り込まれた混合気の一部は下向き
の力を与えられ、その結果この混合気は旋回する
ことなく入口通路部Aの下壁面に沿つて渦巻部B
内に流入するために流入抵抗は小さくなり、斯く
して高速高負荷運転時における充填効率を更に高
めることができる。
一方、第13図において曲線S1と曲線S0の間の
領域では曲線S1からS2,S3を経て曲線S0に向かう
に従つて、即ち吸入空気量が増大するに従つてス
ライド弁17の開口面積が徐々に大きくなる。第
14図に示されるようにスライド弁17がわずか
ばかり開弁したときには入口通路部Aから分岐路
部分14a内に流入した混合気は矢印で示すよう
に分岐路部分14bの下壁面に沿つて下向きに流
れて渦巻部B内に流入する。渦巻部B内において
旋回流の発生に大きく寄与する混合気流は渦巻部
Bの上壁面13に沿つて流れる混合気流であるの
で第14図の矢印で示すように分岐路14から渦
巻部Bの下方部に混合気が流入する場合には分岐
路14から流入する混合気流が旋回流にさほど影
響を与えない。スライド弁17が開弁するにつれ
て分岐路14から流出する混合気流は渦巻部Bの
上壁面13に近づくので分岐路14から流出する
混合気流による旋回流の抑制作用が次第に強くな
る。吸入空気量が少ないときには安定した燃焼を
確保するために強力な乱れを燃焼室4内に発生せ
しめることが必要であるが吸入空気量が増大する
と自然発生の乱れが強力となるためにむしろ旋回
流のような強制的な乱れを抑制することが必要さ
れ、更に吸入空気量が増大するにつれて出力低下
をひき起こす充填効率の低下を阻止することが必
要となる。従つて吸入空気量が増大するにつれて
スライド弁17の開口面積を徐々に大きくするこ
とによつて上述のように旋回流の発生を抑制しつ
つ充填効率の低下が阻止され、斯くして吸入空気
量に応じた最適の旋回流と高い充填効率を確保す
ることができる。
以上述べたように本考案によれば機関低速低負
荷運転時、機関低負荷高速運転時並びに機関高負
荷低速運転時には強力な旋回流を燃焼室内に発生
せしめることができるので安定した燃焼を確保で
きると共に特に機関高負荷低速運転時にノツキン
グの発生を抑制することができる。また、分岐路
の出口開口上端縁が渦巻部の上壁面にほぼ面一に
連結されているのでスライド弁が全開したときに
分岐路から流出する混合気により渦巻部の上壁面
に沿つて強力な旋回力をもつて旋回する全混合気
流を減速せしめることができ、斯くして旋回流を
大巾に弱めることができるので機関高速高負荷運
転時に高い充填効率を確保することができる。更
に、機関中負荷中速運転時には吸入空気量の増大
に応じて弱められる最適の旋回流と高い充填効率
を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係る内燃機関の平面図、第2
図は第1図の−線に沿つてみた断面図、第3
図はヘリカル型吸気ポートの形状を示す斜視図、
第4図は第3図の平面図、第5図は第3図の分岐
路に沿つて切断した側面断面図、第6図は第4図
の−線に沿つてみた断面図、第7図は第4図
の−線に沿つてみた断面図、第8図は第4図
の−線に沿つてみた断面図、第9図は第5図
の−線に沿つてみた断面図、第10図は流路
制御装置の全体図、第11図は流路制御装置の作
動を説明するためのフローチヤート、第12図は
電磁制御弁のソレノイドに印加されるパルスを示
す線図。第13図はスライド弁の開口面積を示す
図、第14図はスライド弁半開状態を示す分岐路
の拡大側面断面図、第15図はスライド弁全開状
態を示す分岐路の拡大側面断面図である。 5……吸気弁、6……ヘリカル型吸気ポート、
14……分岐路、17……スライド弁、18……
弁軸、30……負圧ダイアフラム装置、37……
電磁制御弁、50……電子制御ユニツト。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 吸気弁周りに形成された渦巻部と、該渦巻部に
    接線状に接続されかつほぼまつすぐに延びる入口
    通路部とにより構成されたヘリカル型吸気ポート
    において、上記入口通路部から分岐された分岐路
    の出口開口を該渦巻部の渦巻終端部に連通せし
    め、該出口開口を渦巻部の上壁面に沿う旋回流に
    対向するように渦巻部側壁面の上端部に形成する
    と共に該出口開口の上端縁を渦巻部上壁部にほぼ
    面一に連結せしめ、該分岐路を該渦巻終端部に向
    けて上下方向に広がるラツパ状に形成して該分岐
    路内に上下方向に摺動可能なスライド弁を挿入
    し、該スライド弁を機関吸入空気量に応動するア
    クチユエータに連結して機関吸入空気量が増大す
    るに従い該スライド弁を上昇させて該分岐路の開
    口面積を増大せしめるようにしたヘリカル型吸気
    ポートの流路制御装置。
JP11218781U 1981-07-30 1981-07-30 ヘリカル型吸気ポ−トの流路制御装置 Granted JPS5827534U (ja)

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JP11218781U JPS5827534U (ja) 1981-07-30 1981-07-30 ヘリカル型吸気ポ−トの流路制御装置

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