JPS6340386A - レ−ザ−装置 - Google Patents
レ−ザ−装置Info
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- JPS6340386A JPS6340386A JP18371786A JP18371786A JPS6340386A JP S6340386 A JPS6340386 A JP S6340386A JP 18371786 A JP18371786 A JP 18371786A JP 18371786 A JP18371786 A JP 18371786A JP S6340386 A JPS6340386 A JP S6340386A
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- JP
- Japan
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- electrode
- inert gas
- gas
- inlet
- discharge
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 16
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 7
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 7
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract description 5
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、レーザー光を発生させるための放電を維持す
る電極を有するレーザー装置に関するものである。
る電極を有するレーザー装置に関するものである。
従来の技術
以下、図面を参照しながら従来のレーザー装置について
説明を行なう。
説明を行なう。
第3図は、従来のレーザー装置を示したものである。第
3図に於いて、1はレーザー光を取り出すために設けら
れた出力鏡、2はレーザー光を発生させるのに必要な放
電を維持するカソード電極、3はレーザーガスと大気を
分離している放電管、4はカソード電極2と同様に放電
を維持するアノード電極、そして6は発生したレーザー
光の方向を180度反転させる全反射鏡である。
3図に於いて、1はレーザー光を取り出すために設けら
れた出力鏡、2はレーザー光を発生させるのに必要な放
電を維持するカソード電極、3はレーザーガスと大気を
分離している放電管、4はカソード電極2と同様に放電
を維持するアノード電極、そして6は発生したレーザー
光の方向を180度反転させる全反射鏡である。
以上のように構成されたレーザー装置について、以下に
その動作について説明をする。
その動作について説明をする。
まず、カソード電極2とアノード電極4の間に高圧を印
加し、放電管3内でレーザーガスを媒体にした放電を起
こす。すると、放電管3内でレーブー光が発生する。発
生したレーザー光は、出力鏡1と全反射鏡5の間で共振
し、増幅される。そして、増幅されたレーザー光は、そ
の一部が出力鏡1から取シだされ、加工等に利用される
。
加し、放電管3内でレーザーガスを媒体にした放電を起
こす。すると、放電管3内でレーブー光が発生する。発
生したレーザー光は、出力鏡1と全反射鏡5の間で共振
し、増幅される。そして、増幅されたレーザー光は、そ
の一部が出力鏡1から取シだされ、加工等に利用される
。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、前記のような構成では、放電に伴って発
生する熱によって電極表面が酸化し、その結果レーザー
出力が低下するという欠点を有していた。
生する熱によって電極表面が酸化し、その結果レーザー
出力が低下するという欠点を有していた。
また、放電電流が増加するにつれて、電極の表面近傍で
発生する熱量が増え、酸化の進行が早まシ、電極の寿命
が著しく短くなるという欠点もあった。
発生する熱量が増え、酸化の進行が早まシ、電極の寿命
が著しく短くなるという欠点もあった。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するため本発明は、レーザー光を発生
させるための放電を維持する電極の近傍に不活性ガスま
たは不活性ガスに富んだガスの導入口を設けたものであ
る。
させるための放電を維持する電極の近傍に不活性ガスま
たは不活性ガスに富んだガスの導入口を設けたものであ
る。
作用
上記構成によシ、電極の近傍から不活性ガスまたは不活
性ガスに富んだガスを導入することができるため、レー
ザーガスに比較して低温の不活性ガスまたは不活性ガス
に冨んだガスが電極表面をおおい、熱除去効率が向上し
、電極の表面温度が低下する。また、電極の表面には不
活性ガスに富んだ層が形成され、電極表面における酸素
ポテンシャルが低下し、電極表面の酸化の進行を抑制す
る。さらに、電極表面に不活性ガスに富んだ層が形成さ
れ、放電開始電圧が低下するとともに放電が安定する。
性ガスに富んだガスを導入することができるため、レー
ザーガスに比較して低温の不活性ガスまたは不活性ガス
に冨んだガスが電極表面をおおい、熱除去効率が向上し
、電極の表面温度が低下する。また、電極の表面には不
活性ガスに富んだ層が形成され、電極表面における酸素
ポテンシャルが低下し、電極表面の酸化の進行を抑制す
る。さらに、電極表面に不活性ガスに富んだ層が形成さ
れ、放電開始電圧が低下するとともに放電が安定する。
実施例 。
以下、本発明の実施例について第1図、第2図を参照し
て説明する。
て説明する。
なお、第1図、第2図において、第3図に示す構成物と
同一の構成物に対して同一番号を付し、説明を省略する
。
同一の構成物に対して同一番号を付し、説明を省略する
。
第1図、第2図において、6は不活性ガスまたは不活性
ガスに富んだガスの導入ロアが形成された導入部材であ
る。導入ロアはカソード電極2に対してレーザーガスの
流れの風上側に設けられておシ、リング状に形成され、
その幅ムはSf1以内となっている。また導入ロアとカ
ソード電極2との間隔Bは1001fj1以内で、導入
ロアの吹き出し角度Cはレーザーガスの流れ方向に対し
て90度以内となっている。
ガスに富んだガスの導入ロアが形成された導入部材であ
る。導入ロアはカソード電極2に対してレーザーガスの
流れの風上側に設けられておシ、リング状に形成され、
その幅ムはSf1以内となっている。また導入ロアとカ
ソード電極2との間隔Bは1001fj1以内で、導入
ロアの吹き出し角度Cはレーザーガスの流れ方向に対し
て90度以内となっている。
以上の構成において、レーザー光を発生させるため、カ
ソード電極2とアノード電極4で放電を維持している。
ソード電極2とアノード電極4で放電を維持している。
この2つの電極2,4の表面が酸化していない正常時に
は、高出力のレーザー光を安定して得ることができる。
は、高出力のレーザー光を安定して得ることができる。
なお、電極表面の酸化が進行すると、電極表面上の電子
放出ポイントが局在化し、結果的に電子放出能が低下す
る。また、電極表面上の電子放出ポイントが局在化した
ことによシ、放電中の電子の空間密度が不均一になり、
放電が拡がらず、レーザー出力の低下をもたらす。
放出ポイントが局在化し、結果的に電子放出能が低下す
る。また、電極表面上の電子放出ポイントが局在化した
ことによシ、放電中の電子の空間密度が不均一になり、
放電が拡がらず、レーザー出力の低下をもたらす。
、このような現象を防止するため、本実施例では電子を
放出するカソード電極2の近傍に不活性ガスまたは不活
性ガスに富んだガスの導入ロアを設け、不活性ガスまた
は不活性ガスに富んだガスで、酸素を含有するレーザー
ガスから電極表面をシールドし、レーザーガスに比べて
低温の不活性ガスまたは不活性ガスに富んだガスで電極
表面を冷却し、表面温度を下げるだけでなく、不活性ガ
スに富んだ層を電極表面に形成することで電極表面にお
ける酸素ポテンシャルを低下させ、電極表面の酸化の進
行を抑制している。また、前述したように不活性ガスに
富んだ層が電極表面に形成されているため、放電が安定
し、長期的にレーザー出力を安定確保することができる
。
放出するカソード電極2の近傍に不活性ガスまたは不活
性ガスに富んだガスの導入ロアを設け、不活性ガスまた
は不活性ガスに富んだガスで、酸素を含有するレーザー
ガスから電極表面をシールドし、レーザーガスに比べて
低温の不活性ガスまたは不活性ガスに富んだガスで電極
表面を冷却し、表面温度を下げるだけでなく、不活性ガ
スに富んだ層を電極表面に形成することで電極表面にお
ける酸素ポテンシャルを低下させ、電極表面の酸化の進
行を抑制している。また、前述したように不活性ガスに
富んだ層が電極表面に形成されているため、放電が安定
し、長期的にレーザー出力を安定確保することができる
。
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明によれば電極表
面の酸化の進行を抑制するだけでなく、放電の安定化に
よって、レーザー装置の寿命は飛躍的に延び、その効果
は大である。
面の酸化の進行を抑制するだけでなく、放電の安定化に
よって、レーザー装置の寿命は飛躍的に延び、その効果
は大である。
第1図は本発明の一実施例を示すレーザー装置+4+
・ 1・・・・・出力鏡、2・・・・・・カソード電極、3
・・・・・・放電管、4・・・・・・アノード電極、5
・・・・・・全反射鏡、7・・・・・・導入口。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 ′/ 第3図
・ 1・・・・・出力鏡、2・・・・・・カソード電極、3
・・・・・・放電管、4・・・・・・アノード電極、5
・・・・・・全反射鏡、7・・・・・・導入口。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 ′/ 第3図
Claims (5)
- (1)レーザー光を発生させるための放電を維持する電
極を有し、かつ前記電極の近傍に不活性ガスまたは不活
性ガスに富んだガスの導入口を設けたレーザー装置。 - (2)導入口を、カソード電極の風上側近傍に設けた特
許請求の範囲第1項記載のレーザー装置。 - (3)導入口を、リング状に幅5mm以内に設けた特許
請求の範囲第1項または第2項記載のレーザー装置。 - (4)導入口を、電極から100mm以内の近傍に設け
た特許請求の範囲第1項または第2項記載のレーザー装
置。 - (5)導入口の吹き出し角度をレーザーガスの流れ方向
に対して90度以下とした特許請求の範囲第1項または
第2項記載のレーザー装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18371786A JPS6340386A (ja) | 1986-08-05 | 1986-08-05 | レ−ザ−装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18371786A JPS6340386A (ja) | 1986-08-05 | 1986-08-05 | レ−ザ−装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6340386A true JPS6340386A (ja) | 1988-02-20 |
Family
ID=16140725
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18371786A Pending JPS6340386A (ja) | 1986-08-05 | 1986-08-05 | レ−ザ−装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6340386A (ja) |
-
1986
- 1986-08-05 JP JP18371786A patent/JPS6340386A/ja active Pending
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