JPS6339483B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6339483B2 JPS6339483B2 JP6083784A JP6083784A JPS6339483B2 JP S6339483 B2 JPS6339483 B2 JP S6339483B2 JP 6083784 A JP6083784 A JP 6083784A JP 6083784 A JP6083784 A JP 6083784A JP S6339483 B2 JPS6339483 B2 JP S6339483B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stocker
- substrate
- handler
- elevator
- board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 41
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G65/00—Loading or unloading
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
- Stacking Of Articles And Auxiliary Devices (AREA)
- De-Stacking Of Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、半導体基板を収納するストツカ内に
自動的に半導体基板を収納したり搬出したりする
装置に関するものである。
自動的に半導体基板を収納したり搬出したりする
装置に関するものである。
半導体基板を自動装置によつて搬送・保管する
場合、その表面を汚損したり擦痕を残したりする
ことは極度に嫌忌される。
場合、その表面を汚損したり擦痕を残したりする
ことは極度に嫌忌される。
このため、半導体基板を収納するストツカは第
１図に示すような構造が用いられ、複数個の基板
１ａ，１ｂ〜１ｆを棚状に支承するよう、棚受状
の突起２ａ，２ｂ〜２ｆを設けたストツカ２が用
いられる。これにより、基板１ａ〜１ｆは表面に
触れることなく裏面の周辺部を支承される。
１図に示すような構造が用いられ、複数個の基板
１ａ，１ｂ〜１ｆを棚状に支承するよう、棚受状
の突起２ａ，２ｂ〜２ｆを設けたストツカ２が用
いられる。これにより、基板１ａ〜１ｆは表面に
触れることなく裏面の周辺部を支承される。
上記のストツカ２に基板を搬入したり搬出した
りするため、複数個の基板の間に進入・後退する
ハンドラ３が設けられる。従来一般に、このハン
ドラの上面にピン３ａが植設され、その頂面に真
空吸着口３ｂが設けられて操作弁及び真空源（共
に図示せず）に連通されている。これにより基板
の表面に触れることなくその裏面を吸着保持して
ストツカ２内の基板を搬出したり、ストツカ２内
に基板を搬入したりすることができる。ストツカ
２とハンドラ３とは相対的に上下に駆動できるよ
うになつており、ハンドラ３は任意の基板（２ａ
〜２ｆの内の１つ）の下側に進入して該基板を吸
着した後に後退して搬出作動をすることができ
る。また、吸着保持した基板を任意の棚受状突起
（２ａ〜２ｆの内の１つ）に載置することができ
る。
りするため、複数個の基板の間に進入・後退する
ハンドラ３が設けられる。従来一般に、このハン
ドラの上面にピン３ａが植設され、その頂面に真
空吸着口３ｂが設けられて操作弁及び真空源（共
に図示せず）に連通されている。これにより基板
の表面に触れることなくその裏面を吸着保持して
ストツカ２内の基板を搬出したり、ストツカ２内
に基板を搬入したりすることができる。ストツカ
２とハンドラ３とは相対的に上下に駆動できるよ
うになつており、ハンドラ３は任意の基板（２ａ
〜２ｆの内の１つ）の下側に進入して該基板を吸
着した後に後退して搬出作動をすることができ
る。また、吸着保持した基板を任意の棚受状突起
（２ａ〜２ｆの内の１つ）に載置することができ
る。
一方、半導体技術の進歩に伴つて半導体基板の
品質管理への要求はますます厳しくなり、特に異
物の付着や汚損が絶対的に禁忌されるようになつ
た。この為、半導体基板の裏面といえども吸着痕
を残すことは望ましくないようになり、為し得ベ
くは表面にも裏面にも触れず、その周縁で点接
触、乃至、点接触に近い線接触によつて基板を保
持して搬出、搬入することが望まれる。
品質管理への要求はますます厳しくなり、特に異
物の付着や汚損が絶対的に禁忌されるようになつ
た。この為、半導体基板の裏面といえども吸着痕
を残すことは望ましくないようになり、為し得ベ
くは表面にも裏面にも触れず、その周縁で点接
触、乃至、点接触に近い線接触によつて基板を保
持して搬出、搬入することが望まれる。
本発明は上述の事情に鑑みて為され、基板の表
面にも裏面にも触れず、その周縁部を点乃至線接
触で支承してストツカ内に搬入したストツカ内か
ら搬出したりできる。搬出、入装置を提供しよう
とするものである。
面にも裏面にも触れず、その周縁部を点乃至線接
触で支承してストツカ内に搬入したストツカ内か
ら搬出したりできる。搬出、入装置を提供しよう
とするものである。
上記の目的を達成するため、本発明は、ストツ
カ内に対向離間させて収納される半導体基板を搬
出・搬入する装置において、上記のストツカを上
下に駆動するエレベータと、上昇したストツカの
下方へ進入・後退するハンドラと、上記のハンド
ラ上に設けた基板サポータとを有し、かつ、上記
の基板サポータは上方に向つて開くテーパ面を有
し、半導体基板と点接触乃至線接触するように構
成したことを特徴とする。
カ内に対向離間させて収納される半導体基板を搬
出・搬入する装置において、上記のストツカを上
下に駆動するエレベータと、上昇したストツカの
下方へ進入・後退するハンドラと、上記のハンド
ラ上に設けた基板サポータとを有し、かつ、上記
の基板サポータは上方に向つて開くテーパ面を有
し、半導体基板と点接触乃至線接触するように構
成したことを特徴とする。
次に、本発明の１実施例を第２図及び第３図に
ついて説明する。
ついて説明する。
第２図は本発明の基板搬出、入装置の１実施例
を模式化して描いた説明図である。
を模式化して描いた説明図である。
２′は従来装置におけるストツカ２と類似の構
成部材であるが、棚受状突起２a′〜２g′の上面に
テーパを付し、基板１ａ〜１ｇの周縁に対して点
接触乃至線接触するように（即ち面接触しないよ
うに）構成してある。
成部材であるが、棚受状突起２a′〜２g′の上面に
テーパを付し、基板１ａ〜１ｇの周縁に対して点
接触乃至線接触するように（即ち面接触しないよ
うに）構成してある。
４は、上記のストツカ２′を上下に駆動するエ
レベータで、４ａは送りネジ、４ｂは回転駆動手
段である。
レベータで、４ａは送りネジ、４ｂは回転駆動手
段である。
３′は、ストツカ２′が上昇したときその下方へ
進入、後退できるように構成したハンドラであつ
て、従来装置におけるハンドラ３と類似の構成部
材であるが、第１図について説明したような真空
吸着口付きのピン３ａを設けない。
進入、後退できるように構成したハンドラであつ
て、従来装置におけるハンドラ３と類似の構成部
材であるが、第１図について説明したような真空
吸着口付きのピン３ａを設けない。
前記のハンドラ３′の上面に基板サポータ５を
設ける。第３図はサポータ５付近の拡大図であ
る。
設ける。第３図はサポータ５付近の拡大図であ
る。
本実施例においては角形の基板の４隅に対応さ
せて４個のサポータ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを設
けるが、本第３図においてはサポータ５ａと同５
ｂ、サポータ５ｃと同５ｄはそれぞれ重なつて描
かれている。対向している１対のサポータ５ａ
（５ｂ），５ｃ（５ｄ）の上面に、上開き方向のテ
ーパを設ける。これによりサポータ５ａ，５ｃと
基板１とは点Ａ，Ｃで点接触する。ただし、サポ
ータ５ａ，５ｃは紙面と垂直方向に厚みを有して
いるので、上記の点接触は厳密には短かい線接触
である。
せて４個のサポータ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄを設
けるが、本第３図においてはサポータ５ａと同５
ｂ、サポータ５ｃと同５ｄはそれぞれ重なつて描
かれている。対向している１対のサポータ５ａ
（５ｂ），５ｃ（５ｄ）の上面に、上開き方向のテ
ーパを設ける。これによりサポータ５ａ，５ｃと
基板１とは点Ａ，Ｃで点接触する。ただし、サポ
ータ５ａ，５ｃは紙面と垂直方向に厚みを有して
いるので、上記の点接触は厳密には短かい線接触
である。
本実施例の装置を用いてストツカ２′内に収納
されている基板２a′を搬出するには、エレベータ
４を作動させてストツカ２′を上昇ストロークい
つぱいに上昇させ、ハンドラ３′をストツカ２′の
下方に進入せしめて基板サポータ５を基板１ａの
下面に対向させる。
されている基板２a′を搬出するには、エレベータ
４を作動させてストツカ２′を上昇ストロークい
つぱいに上昇させ、ハンドラ３′をストツカ２′の
下方に進入せしめて基板サポータ５を基板１ａの
下面に対向させる。
次いでエレベータ４を作動させてストツカ２′
を若干下降させる。このときの下降距離は基板の
収納間隔ｄよりも小さいことが必要である。本実
施例においては1/4ｄだけ降下させて好結果が得
られた。
を若干下降させる。このときの下降距離は基板の
収納間隔ｄよりも小さいことが必要である。本実
施例においては1/4ｄだけ降下させて好結果が得
られた。
ストツカ２′を1/4ｄだけ下げると、最下段の基
板１ａがサポータ５の上に乗る。このとき、第３
図について説明したように基板１ａはその周縁の
４個所を点接触に近い状態で支承される。このた
め、該基板１ａは表面にも裏面にも吸着痕や擦痕
を生じる虞れ無くサポータ５によつて支承され
る。
板１ａがサポータ５の上に乗る。このとき、第３
図について説明したように基板１ａはその周縁の
４個所を点接触に近い状態で支承される。このた
め、該基板１ａは表面にも裏面にも吸着痕や擦痕
を生じる虞れ無くサポータ５によつて支承され
る。
次いでハンドラ３′が後退させて支承した基板
１ａを搬出する。
１ａを搬出する。
上述の動作を繰り返して順次に基板１ｂ〜１ｇ
を搬出することができる。また、前述と逆の順序
に作動して基板をストツカ２′内に搬入して収納
することもできる。
を搬出することができる。また、前述と逆の順序
に作動して基板をストツカ２′内に搬入して収納
することもできる。
以上詳述したように、本発明を適用すると、基
板の表面にも裏面にも触れることなく、その周縁
部を点接触に近い状態で支承してストツカ内に搬
入したり、ストツカ内から搬出したりすることが
できる。
板の表面にも裏面にも触れることなく、その周縁
部を点接触に近い状態で支承してストツカ内に搬
入したり、ストツカ内から搬出したりすることが
できる。
第１図は従来の基板搬出、入装置の説明図、第
２図は本発明の基板搬出、入装置の１実施例を模
式的に描いた説明図、第３図は上記実施例におけ
るサポータ付近の拡大図である。 １，１ａ〜１ｆ…基板、２，２′…ストツカ、
２ａ〜２ｆ，２a′〜２f′…棚受状突起、３，３′…
ハンドラ、３ａ…ピン、３ｂ…真空吸着口、４…
エレベータ、４ａ…送りネジ、４ｂ…回転駆動手
段、５ａ〜５ｂ…基板サポータ。
２図は本発明の基板搬出、入装置の１実施例を模
式的に描いた説明図、第３図は上記実施例におけ
るサポータ付近の拡大図である。 １，１ａ〜１ｆ…基板、２，２′…ストツカ、
２ａ〜２ｆ，２a′〜２f′…棚受状突起、３，３′…
ハンドラ、３ａ…ピン、３ｂ…真空吸着口、４…
エレベータ、４ａ…送りネジ、４ｂ…回転駆動手
段、５ａ〜５ｂ…基板サポータ。
Claims (1)
- １ ストツカ内に対向離間させて収納される半導
体基板を搬出・搬入する装置において、上記のス
トツカを上下に駆動するエレベータと、上昇した
ストツカの下方へ進入・後退するハンドラと、上
記のハンドラ上に設けた基板サポータとを有し、
かつ、上記の基板サポータは上方に向つて開くテ
ーパ面を有し、半導体基板と点接触乃至線接触す
るように構成したことを特徴とする、基板の搬
出・搬入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6083784A JPS60204506A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | 基板の搬出・搬入装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6083784A JPS60204506A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | 基板の搬出・搬入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60204506A JPS60204506A (ja) | 1985-10-16 |
| JPS6339483B2 true JPS6339483B2 (ja) | 1988-08-05 |
Family
ID=13153866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6083784A Granted JPS60204506A (ja) | 1984-03-30 | 1984-03-30 | 基板の搬出・搬入装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60204506A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62222906A (ja) * | 1986-03-25 | 1987-09-30 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | ウエ−ハ搬送機構 |
| JPH0780568B2 (ja) * | 1987-02-20 | 1995-08-30 | キヤノン株式会社 | 基板搬送装置 |
| JPS6464921A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-10 | Nitto Denko Corp | Buffer device for workpiece conveyance |
| CN109911617A (zh) * | 2017-12-12 | 2019-06-21 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 用于玻璃装载机的基板装载机构 |
| CN109920748A (zh) * | 2017-12-12 | 2019-06-21 | 湘潭宏大真空技术股份有限公司 | 一种大面积玻璃基板装载机 |
-
1984
- 1984-03-30 JP JP6083784A patent/JPS60204506A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60204506A (ja) | 1985-10-16 |
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