JPS63294523A

JPS63294523A - 表示素子

Info

Publication number: JPS63294523A
Application number: JP13315687A
Authority: JP
Inventors: Yoshinori Tomita; 佳紀富田
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1987-05-27
Filing date: 1987-05-27
Publication date: 1988-12-01

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は外部力により変化を示す表示層が、変化前の表
示層に戻るまでの時間つまり表示状態から消去状態に自
然回復するまでの緩和時間を利用した表示素子に関する
ものである。具体的には応力・歪みによる表示層の配向
の乱れ、あるいは相変化、相分離を表示に利用するもの
である。とくに本発明では液晶表示層を有する表示素子
に関する。

〔従来の技術〕

従来、液晶表示素子はＩＴＯパターン電極でサンドイッ
チされ電界により表示部分に液晶分子の配向の乱れを起
こし、あるいは初期状態と違う状態に配向し、表示を行
うものであった。このような素子は電圧印加から表示ま
での応答時間（立ち上がり時間）及び電圧印加を中止し
たときの表示から自然回復までの緩和時間（立ち下がり
時間）を極力短縮することに開発の１つの重点が置かれ
ていた。もう１つの重点は電極の微細パターンニングを
行うことにより解像度を上げることにあった。

〔発明が解決しようとしている問題点〕本発明は前述の
如き複雑な素子構成、短い応答緩和時間、電極の微細な
パターンニング等を不要とした、簡便且つ安価な液晶表
示層に代表される表示層を有する表示素子を提供するこ
とにある。

［問題点を解決するための手段（及び作用）〕本発明に
よれば、例えば指先やペンで液晶セル表面に応力・歪み
を与えることにより液晶分子の配向が乱れ、応力・歪み
を与えられていない部分との間に生じる光学的なコント
ラストを表示に用いる。液晶材料、液晶粘度、セル構成
、配向制御等を鋭意工夫した結果、この表示部が応力・
歪み除去後、自然回復して応力・歪みを与えられていな
い部分と区別がつかなくなるまでの緩和時間を任意に制
御可能となり、実施例において詳述する如く各種応用が
可能となった。

緩和時間制御のより具体的な方法としては表面保護板の
クリープ回復及び／又は液晶分子の再配向の時間を制御
することである。

クリープ回復の制御とは液晶層に与える応力・歪みを長
時間保持することを目的とする。従来、他の産業におい
てはクリープ回復の遅いポリマーが知られている。例え
ば自動車のバンパーにおいてはポリプロピレンとエチレ
ンプロピレンの共重合体等をもちいて、衝撃による歪み
をゆっくり回復しバンパー形状を復元している。このよ
うなもののうち、本発明においては表面保護板は粘弾性
体であり、ある程度透明なもの（透明性が全ヘイズで５
０％以上、より好ましくは６５％以上）が好ましく用い
られる。具体的にはポリエチレンテレフタレート、トリ
アセテート、アクリル系樹脂、ポリエチレン、ポリサル
フオン、フッ素フィルム。

ポリカーボネート、ポリアクリロニトル、ポリエステル
、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体・ポ
リノルボルネン等のポリオレフィン。

ポリアミド、ポリスチレン（特に好ましくはハイインパ
クトｐｓ）、　　シリコンゴム等のポリマーフィルム及
びプラスチックフィルム、もしくは可とう性のある薄膜
ガラス、もしくはその他の無機・有機薄膜、もしくはゲ
ル状薄膜、もしくはそれらの積層あるいは混合・共重合
体等から成る。その他、公知の特殊な方法、例えば融点
より少し低い温度で圧力をかけ結晶サイズを小さくして
透明化されたポリマー等も用いられる。厚みはそれぞれ
の透明度２強度、粘弾性、クリープ回復速度及び所望の
表示時間により異なるが、一般には０．１ミクロンから
１０ミリメートル、より好ましくは１０ミクロンから１
ミリメートルである。歪み（変形）の大きさは液晶層の
厚み（セル厚）の１０％から１００％が好ましく、普通
のツイストネマチック液晶の場合でセル厚は１０ミクロ
ン前後であるので、変形量としては１から１０ミクロン
程度であればよく、例えば１ミリメートルの厚みの表面
保護層を用いたならば、高分子フィルムとして永久歪み
が残らないといわれている範囲（通常１％ぐらい）であ
る。

液晶分子の再配向の制御とは、配向の乱れた液晶分子が
応力・歪み除去後回復するまでの時間を制御することを
目的とし、具体的には液晶層の粘度を上げて流動性を低
くする、液晶分子と配向膜との相互作用を弱くする、液
晶セル厚を厚（する等の手段により実現した。

液晶層の粘度を上げるためには、液晶分子の架橋等によ
る高分子化、高粘度の溶媒もしくは高粘度のゲスト−ホ
スト用色素溶液との混合等が考えられる。液晶層の粘度
として具体的には粘性係数で１０センチポイズから１０
０ボイズ、より好ましくはｌポイズから１０ボイズが望
ましいが用途によって選択される。あるいは液晶分子の
構造による粘性を利用する。例えばフェニルエステル系
の液晶分子は一般に高粘度であることが知られているが
、この液晶分子を高比率で含有する等が考えられる。

あるいは例えばギャップ保持材として液晶に混入するビ
ーズの代わりに高粘度なポリマーエマルジョン等を用い
ることもできる。

あるいは不図示のペルチェ素子等により表示層の温度を
下げる等の手段により粘度を上げることもできる。

液晶分子と配向膜との相互作用を弱める手段として、配
向膜形成時のラビング条件を変化させた。

具体的にはテレンプの押し付は量を通常０．４ミリから
０．２ミリとし、テレンプの回転速度を２３Ｏｒｐｍか
ら２０Ｏｒｐｍとし、基板送り速度を１．３センチ／秒
から２センチ／秒としたことにより達成した。その他と
して配向膜の材料を配向性の強いポリイミドから配向性
の弱いポリビニルアルコールにする等の工夫をした。

液晶セルの厚みを増すことは配向膜から液晶分子が遠い
ほど配向規制力が弱まり、また液晶分子の分子数も増え
るので１分子画りの配向規制力が弱まり、上記した液晶
分子と配向膜との相互作用を弱めたのと同様の効果があ
る。

又、本発明では表面保護板と表示層とで粘弾性体を形成
するものを用いてもよい。

以上の条件の総合特性により本発明の液晶表示時間が設
定される。表示時間としては例えば、応用製品として公
衆電話に取り付けて番号メモとして用いたときには、表
示時間はおよそ１分以上３分以下が好ましい。また、駅
でよく見かける伝言板として用いるときには、およそ３
時間以上２４時間以下が好ましい。具体的な素子構成に
ついては実施例中で詳述していく。

また、液晶層をＩＴＯベタ電極でサンドイッチして液晶
層に電界を印加することにより、表示を保持あるいは消
去させることもできる。

更には光学系・照明装置を具備することによりオーバー
ヘッドプロジェクタ−１複写機等への入出力ができ、ま
たＣＯＤ等の光学的読み取り装置を具備することにより
ファクシミリ、レーザービームプリンタ、パソコン等へ
の入出力も可能なイメージリーダーとしての機能も持た
せることができる。

更には、書き込みに際して爪やボールペン等の硬いもの
を用いることを考慮して表面保護層にはある程度の硬度
及びひっかき強度が必要であり、これが表面保護層のみ
で達成不可能な場合には、さらにその表面を保護する目
的で被覆を施す。

更には、必要に応じて背景照明を付属するとよい。なお
表示層としては液晶やポリマーに限定するものではな（
、粘性が高いもので応力・歪みに対して光学的に変化す
るものであればよいが、本発明では表示層が液晶、高分
子液晶、あるいは液晶を含む溶液から成っていると、応
力・歪みによって起きる表示層の配向変化が表示に利用
でき、また、表示層が結晶、溶媒、高分子、ゲルあるい
は高分子溶液から成っていると、応力・歪みによって起
こる表示層の相変化あるいは相分離を表示に利用するこ
とができる。

本発明では、しきい値電圧Ｖｔｈ以下のバイアス電圧Ｖ
ｂを表示層に印加しておき、応力・歪みを与えて表示層
のセル厚を薄くすることによってバイアス電圧ＶｂをＶ
ｔｈ以上に上げて表示を行うことも、しきい値電圧Ｖｔ
ｈ以下のバイアス電圧Ｖｂを表示層に印加しておき、応
力・歪みを与えて表示層のセル厚を薄くすることによっ
てしきい値電圧ＶｔｈをＶｂ以下に下げて表示を行うこ
とも可能である。

また、容量成分を介して接続される電源回路を具備し、
応力・歪みにより表示層の容量変化を起こし表示させる
ことも、容量成分を含む電源回路を具備し、応力・歪み
により表示層の容量変化を起こし、表示させることも可
能である。

以下、表示素子のうち液晶を表示層に用いた素子につい
て特に詳述する。

液晶表示素子には液晶材料の相誘電異方性の正負あるい
は透過・反射型等によりいろいろな素子構成が考えられ
本発明においてはそれらを選ばず、すべてのものに対応
が可能であるが、その中から代表的なものをあげて説明
する。

第１図は本発明の特徴を最もよく表す透過型液晶表示素
子の断面図であり同図において１はガラス基板、２はス
メクチック液晶、３はポリエチレンフィルム等の可とう
性表面保護板、４は入射光、５は透過光である。この状
態では液晶２は配向しているので（第１図では基板に垂
直）、入射光は散乱されずに透過し液晶セルは透明に見
える。表面保護板３に応力・歪み６を与えると第２図に
図示した如く液晶２の配向が乱れ透過光５は散乱される
ので液晶セルは白濁して見え表示が可能となる。通常の
液晶セルでは表面保護板３のクリープ回復に伴って液晶
の配向が回復し、散乱状態が僅かの時間しか観察されな
いが、本発明においては前述した如く液晶材料、液晶粘
度、セル構成、配向制御に関して鋭意工夫した結果、第
２図で図示される散乱表示時間を任意に設定可能となっ
た。より具体的には、表面保護板の厚みを厚くする、あ
るいは表面保護板の粘性を大きくし弾性を小さくするこ
とによりクリープ回復を遅くした。また、液晶分子と基
板上及び表面保護板上の配向膜（不図示）との相互作用
を弱める、あるいは液晶セル厚を厚くすることにより表
面保護板が復元後の液晶分子の再配向を遅くした。また
、液晶に添加する溶媒あるいは色素溶液の粘度を高くす
ることにより液晶の流動性再記同速度を抑制した。また
、配向膜による配向規制力を弱くすることによっても液
晶分子の再配向を遅（した。上記各種パラメータを適宜
組み合わせることにより、表示時間を１秒から数日まで
、あるいはそれ以下、あるいはそれ以上の任意に設定で
きた。

第３図はツイストネマチック型の液晶を用いた透過型液
晶素子の断面図であり、７，８は偏光板であり一般には
７が偏光板、８が検光板と呼ばれ、９はツイストネマチ
ック液晶である。偏光板７と検光板８とはその偏光軸（
図中矢印）が基板側の液晶分子の配向方向と一致するよ
うに接着しである。また、ツイストネマチック液晶９は
基板側の配向に対して表面保護板側の配向は直交してい
てその間では連続したらせん状に配向している。応力・
歪みを与えない状態では入射光４は偏光板７で偏光され
、その偏光面は液晶セル中で９０°ねじれて検光板８に
達する。しかし偏光面は直交しているので入射光４は検
光板８より外に出ることができない。よって透過光５は
観察されない。第４図は第３図において表面保護板３に
応力・歪み６を与えたときの状態を示す図であり液晶分
子の配向が乱され、いろいろな偏光面をもった光が検光
に届き、ある程度の透過光５が観察される。

また、液晶セル厚を薄くして、液晶層９の厚さが表面保
護層の歪みより薄くなると、液晶は流動性があるので応
力・歪みの与えられた部分は液晶層９が排斥され、偏光
板７と検光板８が接触するにまで至る。偏光板７と検光
板８はその偏光軸が一致しているので入射光４は偏光板
を通過した後、そのまま透過光５となる。

第５図は第１図の液晶表示素子に偏光板７及び検光板８
を組み合わせたものの断面図であり、偏光板７と検光板
８とはその偏光軸が直交（図中矢印と丸印）している。

この状態では偏光板７で偏光された入射光４はスメクチ
ック液晶２を偏光を受けずに通過し、検光板８に届（が
検光板８の偏光軸は光の偏光軸と直交しているので透過
光は観察されない。第６図の如く表面保護板３を押して
液晶２の配向を乱すことにより偏光板７で偏光された光
は液晶２を通過中にいろいろな方向に偏光されるのでそ
の一部が検光板８から透過し、透過光５が観察される。

第７図は反射型の液晶表示素子の断面図であり、１０は
アルミニウム蒸着膜等の反射板である。偏光板７で偏光
された光がツイストネマチック液晶９で９０°偏光され
検光板８を通過するまでは第３図と同じである。検光板
８を通過した光は反射板１０で反射されふたたび検光板
８、液晶９及び偏光板７を通過して反射光１１として観
察される。第８図の如く表面保護板３を押すことにより
液晶９の配向が乱れ反射光１１が観察されず黒く見える
。

第９図は強誘電液晶を用いた時の図であり１２，１３は
ＩＴＯベタ電極であり、光の透過率は９０％以上である
。１４は一般的な強誘電液晶であり例えばバラ−デシル
オキシベンジリデン−バラ−アミノ−２−メチルブチル
−シンナメートやその誘導体等が知られている。この強
誘電液晶は自発分極の周波数応答があまり高くないこと
が知られているが、本発明の主旨に基づけばこのような
液晶分子でも支障な（使えるので、原材料費を安くする
こともで、きる。強誘電液晶は双安定性であるので、第
１０図の如く応力・歪み６を与えて液晶の配向が乱れる
と、応力・歪みを除去した後も自然には再配向せず半永
久的に表示ができる。消去・再表示させたいときにはＩ
ＴＯベタ電極間に電界をかけることにより強制的に消去
することができる。このような場合にもＩＴＯ電極は従
来の如く微細なパターンニングをする必要がなくベタに
蒸着すればよいだけなので製造コストが安くできる。

第１１図は光学系及び照明装置と組み合わせた例でオー
バーへッドプロジュクタの原稿台の断面図であり、１８
は光源、１９はレンズである。一般には原稿台の上に図
や文字を描いた透明フィルムを　　　′載せて光源１８
、レンズ１９を用いてスクリーンに拡大表示するが、追
記には専用ペン等が必要であった。本発明によれば第１
図から第６図の如き透過型液晶表示素子を原稿台に組み
込むことにより透明フィルム上からあるいは直接原稿台
に指やボールペン等で加圧することにより不透明な図や
文字を追記可能であり当然のことながら透明フィルム上
の図・文字と共に拡大投影される。

なお、不図示ではあるが前記第１図から第６図の液晶表
示素子を、一般の液晶素子の如く透明電極で挾持する構
成のすることにより、電界効果により表示を保持もしく
は消去させることは可能である。

以下、実施例により、より具体的に説明していく。

〔実施例１〕面積５Ｘ５ｃｍ、１ｍｍ厚のソーダライムガラスの片面
にシランカップリング剤（信越シリコン製ＫＢＭ４０３
）で垂直配向処理を施し基板とした。基板の配向膜上に
ギャップおよびシール材としてエポキシ系のストラクト
ボンド（三井東圧）でギヤツブ厚１０±１ミクロンで４
．５　Ｘ　４．５ｃｍの枠状に形成した。（但しギャッ
プ厚の誤差はロット間であり、平滑度という点では±０
．１ミクロンである）面積５Ｘ５ｃｍ。

２　ｍ　ｍ厚の高平滑ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム（ルミラＱ−７７（東し））を上記と同条件にて延
伸方向にラビングし表面保護板とした。上記基板と表面
保護板をそのラビング面を向かい合わせてはりあわせた
。このようにして作製した空セルにあらかじめ枠の一部
に切り欠きを作って注入口としておき、以下のようにし
て目的にあった液晶を注入する。１つの方法は液晶の入
った容器と空セルとを共に減圧下におき、空セルの注入
口を液晶液の中に浸漬した状態で常圧に戻すことにより
気圧差で液晶をセル内に吸引する。もう１つの方法は空
セルの注入口付近に液晶を塗布しておきこれを減圧下で
加熱することにより液晶の流動性を増加させて浸透圧で
セル内に注入する方法である。本発明の場合どちらの方
法でも可能であるが、粘度の高い液晶あるいは液晶溶液
を用いる時には後者の方が好ましい。本実施例では液晶
としてパラ−メトキシベンジリデン−パラ−ｎ−ブチル
アニリンを用い、注入は前者の気圧差を使う方法で行っ
た。注入口はストラクトボンドで封止した。液晶分子は
第１図の如く基板や表面保護板に対して垂直に配向して
いた。この液晶表示素子を指で押さえたところ押さえた
部分が白濁し表示が行われ（第２図）、約３分間の表示
の後目、然に消去した。

〔実施例２〕面積５Ｘ５ｃｍ、１ｍｍ厚のホウケイ酸ガラスの片面に
ポリイミドカーサ−をスピンナーで塗布後、３００℃で
１時間加熱した。冷却後、ラビング装置にてテレンプの
押し付は量０　、２　ｍ　ｍ　％回転速度２０　Ｏｒ　
ｐ　ｍ　。

基板の送り速度２　ｃ　ｍ　７秒で２往復ラビングし、
ポリイミドの配向膜を形成した。市販の偏光板（日東電
工型ＮＰＦ−１１００）を配向膜の反対面に、偏光軸が
配向軸と一致するよう貼り付は基板とした。

基板の配向膜側に１０ミクロンのビーズを均一に散布し
た。一方、表面保護板として１　ｍ　ｍ厚のトレスロン
−ＰＳ（東し）に前記と同様にしてポリイミドから成る
配向膜と偏光板を配向軸と偏光軸とを一致させて累積し
た。基板と表面保護板とをその配向軸（あるいは偏光軸
）が平行になるよう対向させ、枠状（注入口部分切り欠
き）に形成したストラクトボンドで接着した。この空セ
ルに４−（４’−ｎ−ヘキシルベンジリデンアミノ）ベ
ンゾニトリルと４−（４’−ｎ−プロピルベンジリデン
アミノ）ベンゾニトリルとを２＝１の割合に混合したも
のを実施例１と同様にして注入した。液晶分子は基板や
表面保護板に対して水平で且つ基板と表面保護板の間で
９０’　ねじれて配向しているので（第３図）暗色であ
った。この液晶表示素子は表示時間が約１０分であり、
表示部分は光を透過する為明色（第４図）となった。

〔実施例３〕実施例２と同様にして作製した空セルに４′−シアノフ
ェニル−４−ｎ−ヘプチルベンゾエートと４′−シアノ
フェニル−４−ｎ−ブチルベンゾエートとを２＝１に混
合したものを注入したところ、表示時間が５分延長され
た。これは実施例２よりも粘性の高い液晶を用いたため
である。

〔実施例４〕表面保護板として１　ｍ　ｍ厚のＣ−ペット（東し）に
実施例２と同様の配向膜及び偏光膜を累積した。

１ｍｍ厚のガラス基板に配向膜を形成後、反射型の偏光
膜として、ＮＰＦ−３１００を接着して基板とした。基
板と表面保護板をその配向軸が直交するようにストラク
トボンドではりあわせ空セルを作製し液晶を注入した。

この液晶表示素子は表示時間が約１０分であり表示部分
は光が反射してこないため暗色であり（第８図）、非表
示部分は白色ないしは乳白色（第７図）であった。

〔実施例５〕表面保護板として３　ｍ　ｍ厚の軟質塩ビを用い、液晶
として高粘度の４′−シアノフェニル−４−ｎ−へブチ
ルベンゾエートを注入した表示素子について表示動作を
行ったところ、表面保護板が復元するまでに約４０分、
その後液晶が再配向して非表示部分と区別ができなくな
るまでにさらに約２０分必要とし、表示開始から消去ま
での時間は約１時間であった。

〔実施例６〕垂直配向処理した透過型の空セルを作製し、パラ−ｎ−
ブトキシ安息香酸からなるホスト液晶とメチルレッドを
ゲストとして１０％添加したものを注入したところ、非
表示部分は透明であり表示部分はオレンジないし赤色を
呈した。

〔実施例７〕実施例２においてポリイミドカーサ−の代りにポリビニ
ルアルコール（重合度１５００）をもちいて同様の配向
膜としたところ、配向規制力が弱まり表示時間が２０分
になった。

〔実施例８〕実施例２において表面保護膜の平滑性を増すために５０
ミクロン厚のガラスに５００ミクロン厚の同上のフィル
ムを接着積層したものをもちいて表面保護板を形成した
ところ干渉縞の少ない均一な表示素子ができた。

〔実施例９〕実施例２においてガラス基板及び表面保護板にＩＴＯを
蒸着しておき、同様の表示素子を形成したところ、自然
消去までの表示時間は前述したように１０分であったが
、ＩＴＯ間に１０ボルトの電圧をかけたところ１００ミ
リ秒以内に消去させることができ、その直後に再度表示
させることもできた。

〔実施例１０）実施例２において表面保護板の偏光板のうえに１００ミ
クロンの透明ポリイミドフィルムを接着積層したところ
、ボールペンで１千回書き込み表示させても機能に変化
が認められなかった。

〔実施例１１〕前記実施例２の表示素子をオーバーへッドブロジエクタ
の原稿台としたところ（第１１図）、原稿台に文字・図
形を描画可能であり（第１２図）拡大投影できた。

また複写機の追記型原稿台としても好ましく、原稿照明
の光が本発明の表示素子の表示部分（暗色部分）を２回
通過するためのコントラストの高い画像が得られた。

〔実施例１２）実施例１１の複写機において感光ドラムをＣＯＤ等にお
きかえればディジタル複写機あるいはレーザービームプ
リンタへの接続が可能であり、またそのままイメージリ
ーダーとしても使用可能であった。

〔実施例１３）実施例１において液晶の代わりにアクリルアミドから成
るゲルを注入したところ、同様に表示が可能であり表示
時間は５分であった。

〔発明の効果〕

本発明によれば、ペンがなくとも指先等でメモが可能で
あり、更には自然に消去できるので消しゴムや修正液が
不要である。従来の表示素子のような電池等の電源も不
要であるので軽量・コンパクト・安価となった。また、
微細なパターンニングやマトリック１スを必要とした従
来の表示素子と比較して、透明ペタ電極で挟むという簡
単な素子構成をとり、直流あるいは交流電場をかけるこ
とによって強制的な消去や表示の保持ができる。

更に、照明・光学系・読み取り装置等と組み合わせるこ
とにより従来には不可能であったＯＨＰや複写機への追
記が可能となり、レーザービームプリンタやファクシミ
リ等への入出力、あるいはパソコン等への入出力の場で
あるイメージリーダーとしての応用も可能となった。

【図面の簡単な説明】

第１図から第１０図までは例として表示層に液晶を用い
た時の原理・作用を説明するための図であり、第１１図
、第１２図はオーバーへッドブロジュクタの原稿台とし
て本発明の表示素子を用いた時の説明図である。１は基板、２は表示層、３は表面保護板、４は入射光、
５は透過光、６は応力・歪み、７は偏光板、８は検光板
（偏光板）、９はツイストネマチック液晶からなる表示
層、１０は反射板（通常は検光板８と一体成型されてい
る）、１１は反射光、１２・１３は透明電極、１４は強
誘電性液晶からなる表示層、１５は偏光板・検光板の偏
光軸、１６は強誘電性液晶の配向軸、１７は応力・歪み
によって乱れた配向軸、１８は照明、１９は光学系、２
０は透明フィルム、２１は本発明の表示素子を組み込ん
だ原稿台である。特許出願人　　キャノン株式会社１０　　　　　　　　　　　　　　　　　／Ｉり７１９
図（θ）　　　　　　　　　　　　　（ｂ）慴１０図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）少なくとも基板、表示層、表面保護板から成る表
示素子において、基板、表面保護板もしくは表示層の少
なくとも一つに応力、歪みを与えることにより、表面保
護板のクリープ回復及び／又は液晶分子の再配向の時間
を制御し表示させることを特徴とする表示素子。
（２）該表示層が液晶、高分子液晶、あるいは液晶を含
む溶液から成り、応力・歪みによって配向変化を起こす
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の表示素子
。
（３）該表示層が結晶、溶液、高分子、ゲルあるいは高
分子溶液から成り、応力・歪みによって相変化あるいは
相分離を起こすことを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の表示素子。
（４）しきい値電圧Ｖｔｈ以下のバイアス電圧Ｖｂを表
示層に印加しておき、応力・歪みを与えて表示層のセル
厚を薄くすることによってバイアス電圧ＶｂをＶｔｈ以
上に上げて表示を行うことを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の表示素子。
（５）しきい値電圧Ｖｔｈ以下のバイアス電圧Ｖｂを表
示層に印加しておき、応力・歪みを与えて表示層のセル
厚を薄くすることによってしきい値電圧ＶｔｈをＶｂ以
下に下げて表示を行うことを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の表示素子。
（６）容量成分を介して接続される電源回路を具備し、
応力・歪みにより表示層の容量変化を起こし、表示させ
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の表示素
子。
（７）容量成分を含む電源回路を具備し、応力・歪みに
より表示層の容量変化を起こし、表示させることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の表示素子。
（８）表示層が粘性体であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項から第７項までに記載の表示素子。
（９）表面保護板が粘弾性体であり、且つ透明もしくは
半透明であることを特徴とする特許請求の範囲第１項か
ら第７項までに記載の表示素子。
（１０）表面保護板と表示層とで粘弾性体を形成するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項から第７項までに
記載の表示素子。
（１１）基板及び表面保護に透明電極を累積させ表示の
消去もしくは表示の保持を可能としたことを特徴とする
特許請求の範囲第１項から第１０項までに記載の表示素
子。
（１２）光学系、照明もしくは光学的読み取り装置の少
なくとも１つを具備したことを特徴とする特許請求の範
囲第１項から第１０項までに記載の表示素子。
（１３）電気的もしくは磁気的な読み取りあるいは表示
の消去もしくは表示の保持を可能としたことを特徴とす
る特許請求の範囲第１項から第１０項までに記載の表示
素子。