JPS63286599A - 銅電解液からのアンチモン除去法 - Google Patents
銅電解液からのアンチモン除去法Info
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- JPS63286599A JPS63286599A JP12018387A JP12018387A JPS63286599A JP S63286599 A JPS63286599 A JP S63286599A JP 12018387 A JP12018387 A JP 12018387A JP 12018387 A JP12018387 A JP 12018387A JP S63286599 A JPS63286599 A JP S63286599A
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- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims abstract description 34
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 33
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 32
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 title claims description 23
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 title description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 claims abstract description 12
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 27
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 2
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 abstract 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 4
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 4
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001463 antimony compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical class O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003723 Smelting Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- ZDINGUUTWDGGFF-UHFFFAOYSA-N antimony(5+) Chemical compound [Sb+5] ZDINGUUTWDGGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000003134 recirculating effect Effects 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は銅電解液中に溶存しているアンチモンを銅電解
液から分離する方法に関する。
液から分離する方法に関する。
銅の電解精製では電解の進行に伴い、アノード中に含ま
れる不純物の一部が電解液(主として硫酸銅と硫酸との
水溶液)中に溶出し金属イオンとなって蓄積してくる。
れる不純物の一部が電解液(主として硫酸銅と硫酸との
水溶液)中に溶出し金属イオンとなって蓄積してくる。
その不純物としては、ニッケル、アンチモン、砒素、ビ
スマスなどが代表的なものである。これらの不純物は電
着し易いので、電着銅の品質を向上、維持するためにこ
れら不純物の電解液中濃度を測定し、所定の濃度以下に
なるよう電解液の浄液を行なうことは極めて重要な作業
である。
スマスなどが代表的なものである。これらの不純物は電
着し易いので、電着銅の品質を向上、維持するためにこ
れら不純物の電解液中濃度を測定し、所定の濃度以下に
なるよう電解液の浄液を行なうことは極めて重要な作業
である。
アノードから電解液中に溶離するアンチモンはアノード
中の全アンチモン量の約30〜70%であり、他はアノ
ードスライム中に配分される。電解の進行に伴い電解液
中のアンチモン濃度は漸次増大するが、アンチモンの溶
解度は、通常の銅電解液(Cu”イオン: 40〜50
g/l W離硫酸;180〜200g/l、液温50〜
60℃)で約1.0〜1.5 g/ 1!であり、電解
工場では一般に0.3〜0.6 g/ 1前後に管理さ
れている。
中の全アンチモン量の約30〜70%であり、他はアノ
ードスライム中に配分される。電解の進行に伴い電解液
中のアンチモン濃度は漸次増大するが、アンチモンの溶
解度は、通常の銅電解液(Cu”イオン: 40〜50
g/l W離硫酸;180〜200g/l、液温50〜
60℃)で約1.0〜1.5 g/ 1!であり、電解
工場では一般に0.3〜0.6 g/ 1前後に管理さ
れている。
従来、この銅電解液中のアンチモンを分離する方法とし
て、淋電解液を鉛などの不溶性陽極を使用して電解し、
脱銅スライムとして除去する脱銅電解法、銅電解液に炭
酸ナトリウムなどを添加して加水分解して除去する中和
法、更には電解液中に硫化水素ガスを吹き込んで硫化物
沈殿として除去する硫化物沈殿法などがある。これらの
方法はいずれもアンチモンが銅、砒素、ビスマスなどと
同時に除去されるものである。更に上記方法によって得
られた沈殿物は、銅の回収の為、系外の前工程である銅
製錬で繰返し処理され、その過半量は揮発し煙灰中に入
って多くの場合積立てられるので、アンチモンの回収が
繁雑で、時間を要するのみならず、分離能率が甚だ悪い
ものであった。
て、淋電解液を鉛などの不溶性陽極を使用して電解し、
脱銅スライムとして除去する脱銅電解法、銅電解液に炭
酸ナトリウムなどを添加して加水分解して除去する中和
法、更には電解液中に硫化水素ガスを吹き込んで硫化物
沈殿として除去する硫化物沈殿法などがある。これらの
方法はいずれもアンチモンが銅、砒素、ビスマスなどと
同時に除去されるものである。更に上記方法によって得
られた沈殿物は、銅の回収の為、系外の前工程である銅
製錬で繰返し処理され、その過半量は揮発し煙灰中に入
って多くの場合積立てられるので、アンチモンの回収が
繁雑で、時間を要するのみならず、分離能率が甚だ悪い
ものであった。
また電解液中のアンチモンはやはり液中の砒素、ビスマ
スと反応して白色の沈殿を生じ、濃縮設備の電熱面や循
環配管の内面などにスケールとして付着しトラブルの主
因となるものである。
スと反応して白色の沈殿を生じ、濃縮設備の電熱面や循
環配管の内面などにスケールとして付着しトラブルの主
因となるものである。
そこで本発明の目的は上記問題点を解消するために、銅
電解液中に含まれるアンチモンを早期に、高収率でかつ
簡便に分離する方法を提供することにある。
電解液中に含まれるアンチモンを早期に、高収率でかつ
簡便に分離する方法を提供することにある。
この目的を達成するために、銅電解液に酸化剤を該銅電
解液の酸化還元電位が700mV以上になるまで添加し
、生じた沈殿を濾過分離することに特徴がある。
解液の酸化還元電位が700mV以上になるまで添加し
、生じた沈殿を濾過分離することに特徴がある。
本発明方法を実施するに当り、用いることのできる酸化
剤としては、過マンガン酸塩、フルム酸化合物、硝酸化
合物、ハロゲン、過酸化物、硫酸、空気、酸素、オゾン
等が挙げられるが、銅電解液中に存在するアンチモンを
3価から5価へと効果的に酸化が行え、且つアンチモン
除去後の該銅電解液を再循環させて使用する場合に支障
を残さない点で、過酸化水素が最も望ましい。上記アン
チモンの酸化を確認するには、本発明方法による該銅電
解液の酸化還元電位を測定するのが簡便で正確であり、
該酸化剤を添加することにより、該電位が700mV以
上、望ましくは750〜850mVとすることで達成さ
れる。該電位が700mV未満であると酸化が不十分で
あり好ましくない。上記酸化処理で5価に変化したアン
チモンは溶解度が減少するので、難溶の塩および酸化物
の形で析出し沈殿する。従って該アンチモン化合物の沈
殿を常法に従い濾別することで、該銅電解液からアンチ
モンを除去することができる。尚、該濾過後の銅電解液
は、そのままでも再循環使用が可能であるが、望ましく
は、金属銅のような還元物質と接触させ、該銅電解液の
電位が700mV以下になるまで還元すると、itの溶
解している5価のアンチモンは溶解度の大きい3価の状
態に戻り、電解中に沈殿析出し配管を閉塞させるなどの
問題を起さないので好ましい。また、上記金属銅は99
.9%以上の純度のものが該銅電解液を汚染させる程度
も低く望ましい。
剤としては、過マンガン酸塩、フルム酸化合物、硝酸化
合物、ハロゲン、過酸化物、硫酸、空気、酸素、オゾン
等が挙げられるが、銅電解液中に存在するアンチモンを
3価から5価へと効果的に酸化が行え、且つアンチモン
除去後の該銅電解液を再循環させて使用する場合に支障
を残さない点で、過酸化水素が最も望ましい。上記アン
チモンの酸化を確認するには、本発明方法による該銅電
解液の酸化還元電位を測定するのが簡便で正確であり、
該酸化剤を添加することにより、該電位が700mV以
上、望ましくは750〜850mVとすることで達成さ
れる。該電位が700mV未満であると酸化が不十分で
あり好ましくない。上記酸化処理で5価に変化したアン
チモンは溶解度が減少するので、難溶の塩および酸化物
の形で析出し沈殿する。従って該アンチモン化合物の沈
殿を常法に従い濾別することで、該銅電解液からアンチ
モンを除去することができる。尚、該濾過後の銅電解液
は、そのままでも再循環使用が可能であるが、望ましく
は、金属銅のような還元物質と接触させ、該銅電解液の
電位が700mV以下になるまで還元すると、itの溶
解している5価のアンチモンは溶解度の大きい3価の状
態に戻り、電解中に沈殿析出し配管を閉塞させるなどの
問題を起さないので好ましい。また、上記金属銅は99
.9%以上の純度のものが該銅電解液を汚染させる程度
も低く望ましい。
銅電解液の組成が、1445g/ffi、遊離硫酸19
0g/l!、ニッケル20g/l、アンチモン0.59
g/l砒素1.6 g/β、ビスマス0.33g/j!
である液をそれぞれ11ずつ4つに分け、電位計(平間
理化研究所株式会社製、デジタルORPコントローラ)
を用いて3.5重量%の過酸化水素を添加攪拌して、6
00.700,800,850mVまで酸化処理を行っ
た。その後、アンチモン化合物の析出物を濾過分離後、
濾液中のアンチモン(3価及び5価)を分析し、除去率
を求めた。これらの結果を第1表に示す。
0g/l!、ニッケル20g/l、アンチモン0.59
g/l砒素1.6 g/β、ビスマス0.33g/j!
である液をそれぞれ11ずつ4つに分け、電位計(平間
理化研究所株式会社製、デジタルORPコントローラ)
を用いて3.5重量%の過酸化水素を添加攪拌して、6
00.700,800,850mVまで酸化処理を行っ
た。その後、アンチモン化合物の析出物を濾過分離後、
濾液中のアンチモン(3価及び5価)を分析し、除去率
を求めた。これらの結果を第1表に示す。
第1表から、試料N112は液電位が600mVの場合
、アンチモン除去の効果が認められないが、魔3〜11
1[L5では液電位が700〜85011vであると、
顕著なアンチモン除去の効果が認められる。
、アンチモン除去の効果が認められないが、魔3〜11
1[L5では液電位が700〜85011vであると、
顕著なアンチモン除去の効果が認められる。
本発明方法を行うことにより、簡便に且つ安価に銅電解
液中のアンチモンを除去でき、再循環使用にも不都合を
生じることがない。
液中のアンチモンを除去でき、再循環使用にも不都合を
生じることがない。
Claims (2)
- (1)銅電解液に酸化剤を該銅電解液の酸化還元電位が
700mV以上になるまで添加し、生じた沈殿を濾過分
離することを特徴とする銅電解液からのアンチモン除去
法。 - (2)上記酸化剤が過酸化水素であることを特徴とする
特許請求の範囲第一項記載のアンチモン除去法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12018387A JPS63286599A (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | 銅電解液からのアンチモン除去法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12018387A JPS63286599A (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | 銅電解液からのアンチモン除去法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63286599A true JPS63286599A (ja) | 1988-11-24 |
Family
ID=14779967
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12018387A Pending JPS63286599A (ja) | 1987-05-19 | 1987-05-19 | 銅電解液からのアンチモン除去法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63286599A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110062820A (zh) * | 2016-12-16 | 2019-07-26 | 柯尼卡美能达株式会社 | 透明导电膜的形成方法以及电镀用镀敷液 |
-
1987
- 1987-05-19 JP JP12018387A patent/JPS63286599A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110062820A (zh) * | 2016-12-16 | 2019-07-26 | 柯尼卡美能达株式会社 | 透明导电膜的形成方法以及电镀用镀敷液 |
CN110062820B (zh) * | 2016-12-16 | 2021-07-20 | 柯尼卡美能达株式会社 | 透明导电膜的形成方法以及电镀用镀敷液 |
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