JPS63278204A - 発熱抵抗体 - Google Patents

発熱抵抗体

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JPS63278204A
JPS63278204A JP62113371A JP11337187A JPS63278204A JP S63278204 A JPS63278204 A JP S63278204A JP 62113371 A JP62113371 A JP 62113371A JP 11337187 A JP11337187 A JP 11337187A JP S63278204 A JPS63278204 A JP S63278204A
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JP
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heating resistor
resistor
metal
resistivity
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JP62113371A
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Tomohiro Nakamori
仲森 智博
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、サーマルヘッド、ヒーター及びその他の電
子機器に用いる発熱抵抗体に関する。
(従来の技術) 従来より、電力を印加することによって発熱体となり、
ヒータ或いは感熱ヘット等に用いる、種々の発熱抵抗体
が提案されでいる。
近年、この発熱抵抗体の用途の一例としで、当該発熱抵
抗体を薄膜状に配設して電流を通し、この際に生じる発
熱を利用し、感熱紙を発色させてドツト状のモザイクを
作ることにより、絵、文字等の印字を行なうための、種
々の構造の薄膜型サーマルヘッドが提案され、注目され
でいる。
このような薄膜型サーマルヘッド(以下、単(こサーマ
ルヘッドと称する。)の−例として、例えば文献(「金
属表面技術」井、 (6)、+983.第271〜27
7頁)に開示されるものが知られている。
上述の文献(こ開示される構造のサーマルヘッドでは、
発熱抵抗体を構成する材料として、主に、窒化タンタル
(Ta2N)が用いられている。周知のように、窒化タ
ンタル(TaJ)は、例えばハイブリットIC等の薄膜
抵抗体として用いる場合には、抵抗値の安定性に優れて
いる。しかしなから、例えばサーマルヘッドを構成する
発熱抵抗体(こ窒化タンタル(Ta2N)を用いる場合
には、窒化タンタル(Ta2N)の有する耐熱性、特に
、耐酸化性が充分なものではなかった。これがため、窒
化タンタル(TaJ)M発熱抵抗体として用いる場合に
は、耐酸化性を改善するため、耐酸化膜及び耐摩耗層と
いった保護膜を配設するのが一般的である。
以下、図面ヲ参照して、発熱抵抗体の用途の一例として
、従来のサーマルヘッドにつき説明する。
第5図は、従来のサーマルヘッドを説明するため、サー
マルヘッドの概略的な要部断面図により示した説明図、
第6図(A)は、第5図に示す発熱抵抗体の配設状態を
示すための平面図である。これらの図中、断面を示すハ
ツチングは一部を除き省略して示す。
第5図において、11は例えばセラミックス、グレーズ
ドアルミナまたはその他任意好適な材料よりなる結縛基
板を示し、当該絶縁基板11の表面に窒化タンタル(T
aJ)より構成される発熱抵抗体13が、第6図(A)
に示すような矩形状に設けられている。
また、この発熱抵抗体13の上側表面に、例えば金(A
u)、ニクロム(Ni−Cr)またはその他の好適材料
よりなる個別の給電体15及び17が互いにM間して配
設されており、これら給電体15と給電体17との間に
相当する発熱抵抗体13の一部分(第5図中、斜線を付
して示す部分)が発熱部19を構成する。
さらに、給電体15及び17と発熱部19に相当する発
熱抵抗体13の上側には、耐酸化膜21と耐摩耗層23
とか順次被着形成されてあり、これら二層の膜により発
熱抵抗体13の保護膜か構成されている。
また、窒化タンタル(TaJ)の有する電気抵抗率は約
300uΩ・cm程度である。ここで、例えば、サーマ
ルヘッドか長時間の使用に耐え得るように、発熱抵抗体
の有する膜厚を充分な膜厚として構成すると、当該発熱
抵抗体13が有する抵抗値は、所望の抵抗値よりも小さ
い値を示す場合が有った。従って、印字に必要な発熱量
を得るためには、発熱抵抗体13に供給する電流値を大
きくする必要が有った。しかしながら、配線回路及び駆
動方法及びその他の構成成分(いずれも図示せず)が有
する制約から、限られた電流値の範囲で実用的な発熱量
を得る必要が有る。これがため、第6図(B)の平面図
に示すように、発熱抵抗体13ヲミアンダ型の形状を以
って配設することにより、当該発熱抵抗体13の有する
抵抗値を上げる技術が知られている。
一方、印字品質の向上を図るためには、サーマルヘッド
に配設された発熱抵抗体13を微細化することが要求さ
れる。従って、ミアンダ型として形成した発熱抵抗体1
3ヲ、さらに微細な形状とする必要が有るが、この微細
化には加工技術上の限界を有する。これがため、例えば
第6図(A)で説明した矩形のような、簡易な形状の発
熱抵抗体で、所望とする抵抗値が得られるような抵抗体
材料が望まれている。
このような抵抗体材料として、例えばタンタル−シリコ
ン−窒素(Ta−3i−N) 、或いはタンタル−シリ
コン−酸素(Ta−3i−0)といった高い電気抵抗率
(103〜1050Ω・cm程度)を有する抵抗体材料
が開発されている。
(発明か解決しようとする問題点) しかしながら、上述した従来の抵抗体材料では、高い電
気抵抗率を有する反面、電気抵抗率に関して温度依存性
を有し、当該発熱抵抗体が高温になるに従って電気抵抗
率が低下する傾向が有る。従って、例えばサーマルヘッ
ドとして従来の抵抗体材料からなる発熱抵抗体を連続的
に駆動した場合、当該発熱抵抗体の温度によって電気抵
抗率に変動を生じ、当該発熱抵抗体に対する印加電力の
制御を行なう必要が有る。また、発熱抵抗体の発熱に伴
ない、当該抵抗体自体或いはこれに近接する構成成分の
温度が上昇すると抵抗体の発熱量も相加的に増大するた
め、上述の印加電力の制御が困難であるという問題点が
有った。
この発明の目的は、上述した従来の問題点(こ鑑み、高
い電気抵抗率を有し、かつ当該抵抗率に関する温度依存
性が低い発熱抵抗体を提供し、当該発熱抵抗体を用いて
優れた電子機器を提供することに有る。
(問題点を解決するための手段) この目的の達成を図るため、この発明の発熱抵抗体によ
れば、 金a (M)または該金属(M)の酸化物(MO,)(
xは正数)よりなる導電体層と、酸化珪素(S1ay)
 (yは正数)よりなる絶縁体層とを積層して多層構造
としたことを特徴としている。
また、この発明の実施に当っては、上述した金属(M)
がルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム
(Pd)、オスミニウム(Os)、イリジウム(Ir)
及び白金(Pt)のうちから選ばれた1種類の金属また
は2種類以上の金属の混合物、または、上述の金属から
なる1種類の金属酸化物または2種類以上の金属酸化物
の混合物から導電体層を構成するのが好適である。
(作用) この発明の発熱抵抗体の構成によれば、上述の金属或い
は金属酸化物よりなる導電体層と、酸化珪素(Sho、
) (Vは正数)よりなる絶縁体層とを積層して発熱抵
抗体を構成したため、当該発熱抵抗体の抵抗率に関する
温度依存性を低減せしめることかできる。
(実施例) 以下、図面を参照して、この発明の実施例につき説明す
る。尚、以下に説明する実施例では、この出願の好まし
い特定の数値的条件、材料、配百関係及びその他の条件
の下で説明するが、これらは単なる一例であるにすぎず
、この発明は以下に述べる実施例にのみ限定されるもの
ではないことを理解されたい。
第1図(A)は、この発明の発熱抵抗体の用途の一例と
して、当該発熱抵抗体をサーマルヘッドに用いた場合の
実施例の説明に供する概略的な断面図、第1図CB)は
、第1図(A)に示した発熱抵抗体の積層構成の一例を
示す要部断面図である。図中、この発明の特徴となる構
成成分を除き、第5図を用いて既に説明した構成成分と
同一の機能を有する構成成分については、同一の符号を
付して示す。ざらに、同図中、断面を示すハツチングは
、一部を除き省略して示す。
まず、第5図を用いて説明した従来のサーマルヘッドの
製造方法に従って、第1図(A)の断面図に示すように
、従来と同様のグレーズドアルミナより成る絶縁基板1
1の上側に発熱抵抗体25を被着形成する。ここで、こ
の発明の発熱抵抗体25は、第1図(B)に示すように
、前述した種々の金属(M)或いは金属酸化物(MOx
)(×は正数)を以って構成した導電体層27と、酸化
珪素(SiOy) (yは正数)を以って構成した絶縁
体層29とを積層した、少なくとも3層以上の多層構造
として構成されでいる。従って、以下に述べる実施例の
比較を容易とするため、発熱抵抗体25を構成する導電
体層27と絶縁体層29との積層数に拘らず、両者の膜
厚の合計が約3000人となるように、発熱抵抗体25
ヲ絶縁基板11の上側に形成する。
然る後、絶縁基板11上に被着した発熱抵抗体25が約
50u m x 75u mの矩形を呈するようにパタ
ーンニングし、当該矩形形状を有する発執抵抗体25の
密度を16ドツト/cmとして形成する。
続いて、上述の発熱抵抗体25の上側に膜厚2unの金
(Au)及びニクロム(Ni−Cr)よりなる給電体1
5或いは17を被着形成した後、従来周知の作成条件に
従い、酸化珪素(Siay) (yは正数)よりなる保
護膜31ヲ約4umの膜厚で被着形成し、サーマルヘッ
ドを形成した。
以下、図面ヲ参照して、この発明の発熱抵抗体の実施例
につき、さらに詳細に説明する。
乳よ叉渕り この第1実施例では、上述の導電体層27を構成する金
属(M)として白金(Pt)u用い、絶縁体層29ヲ二
酸化珪素(SiO2)としで構成する。さらに、この第
1実施例では、絶縁基板1]の上側に、まず導電体層2
7を積層し、当該導電体層27の上側に絶縁体層29を
積層する。然る後、導電体層27と絶縁体層29とを順
次積層し、発熱抵抗体25における積層数が3層、9層
、19層または29層となるように、4種類のサーマル
ヘッドを夫々作成した。ここで、既に述べたように、発
熱抵抗体25が有する膜厚を約3000大と一定とし、
かつ導電体層27と絶縁体層29との膜厚の比を1:1
とする。
次に、発熱抵抗体を構成する導電体層及び絶縁体層の被
着方法につき説明する。
この実施例の被着方法は、従来周知のマグネトロンスパ
ッタ法を用い、導電体層27ヲ形成するに当っては白金
(Pt)よりなるターゲットを直流(DC)でスパッタ
リングし、絶縁体層29ヲ形成するに当っては、交流(
RF)で二酸化珪素(SiO2)ターゲットのスパッタ
リングを行なう。
実際にスパッタを行なうに際しては、発熱抵抗体25ヲ
被着せしめる絶縁基板110表面を清浄化するため、ま
す、真空中において、当該基板+171Th200℃の
温度で30分間加熱した後、水冷によって室温まで温度
を下げる。然る後、アルゴン(Ar)!スパッタガスと
して、上述のptターゲットをDC1Si02ターゲッ
トをRFて、同時にスパッタリングを行なう。この際、
スパッタ装置に備えられたシャッターを切り換えること
によっていずれか一方の被スパツタ粒子(即ち、ptま
たは5iOz)を遮断し、導電体層27と絶縁体層29
とが同時に絶縁基板11上に被着しないようにして発熱
抵抗体25を形成する。
このようにして得た、この実施例の発熱抵抗体の特性を
比較するため、上述した、積層数の異なる4種類の発熱
抵抗体が有する電気抵抗率の温度依存性を0℃から12
0℃の温度範囲で測定した。
また、この発明の第1実施例の発熱抵抗体と従来の発熱
抵抗体との比較を行なう目的で、発熱抵抗体がPt−3
i−0の1層のみで構成されることを除いて、同一の構
成条件(こより作成したサーマルヘッドを比較例として
測定を行なった。
第2図は、上述の電気抵抗率に関する温度依存性の測定
結果を説明するための特性曲線図である。第2図におい
て、縦軸に電気抵抗率(UΩ・cm)を取り、横軸に発
熱抵抗体の温度(℃)を取って示す。また、曲線■は、
上述の実施例のうち、発熱抵抗体25を3層構造とした
場合、曲線II、■及び曲線■は、各々、9層、19層
或いは29層として発熱抵抗体25を構成した場合につ
き示している。ざら(こ、曲線■は、上述した比較例と
しての発熱抵抗体に関する測定結果を示しでいる。
この図からも理解できるように、0℃がら120°Cの
温度まで上昇するに従い、従来の発熱抵抗体(曲線V)
は、25°Cにおける抵抗率を基準として10.2−−
18.4%の範囲て約2400LlΩ・cmの抵抗率の
変動を伴なう。これ(こ対して、との発明の第1実施例
に係る4種類の発熱抵抗体では、いずれの場合も抵抗率
の低下の度合が少なく、最大でも1.38〜−4.84
%の範囲で約600uΩ・cm程度(曲線■)、最小で
0.35〜−1.39%の範囲で約130LlΩ・cm
程度(曲線II )であり、かつ当該曲線は、はぼ直線
的な低下傾向を示し、上述の温度依存性が著しく低いこ
とが理解できる。
また、この第1実施例の4種類の発熱抵抗体では、従来
の発熱抵抗体(Pt−3i−0)に比べて、高い温度て
も、比較的安定に高抵抗率を維持し得ることか理解でき
る。
また、上述の測定では、0°Cがら120℃の温度範囲
での測定結果のみを図示して説明した。しかしながら、
この発明の発熱抵抗体は、上述の温度範囲でのみ効果を
有するものではなく、上述の温度範囲を超えてサーマル
ヘッドの使用時(こ至り得る温度(約500°C程度)
においても、上述の測定結果と同様の効果を得ることが
できる。
策λ叉葵り 次に、図面を参照して、この発明の第2実施例につき説
明する。
上述した第1実施例では、導電体層27としで、白金(
Pt)を用いた場合につき説明した。しかしながら、こ
の発明の発熱抵抗体は、第1実施例のように、導電体層
として金属単体(M)%用いた場合(このみ限定される
ものではない。
この第2実施例では、導電体層27を金属酸化物(MO
,)(xは正数)とした場合につき説明する。
第1実施例で既に説明した作成方法に従って、この第2
実施例では、導電体層27を、上述の金属酸化物(M 
Ox)の−例として二酸化ルテニウム(RuO□)で構
成し、絶縁体層29ヲ二酸化珪素(SiOz)で構成し
た場合につき検討した。但し、この第2実施例の発熱抵
抗体の有する抵抗率を第1実施例で述べた各抵抗体とほ
ぼ同程度とするため、以下(こ説明する第2実施例とし
ての発熱抵抗体25を構成する導電体層27と絶縁体層
29との膜厚の比を1 : 1.2とし、かつ、二酸化
ルテニウム(RuO2)と二酸化珪素(SiO2)との
スパッタ時に、これらターゲットに含まれる酸素か散逸
しないように、スパッタガスをアルゴン−酸素(Ar−
02) (全体のスパッタガス体積における酸素の体積
が占める割合は10体積%)としてサーマルヘッドを作
成し、比較を行なった。
前述の第1実施例で述べた場合と同様にして、この第2
実施例の発熱抵抗体の特性を比較するため、3層、9層
、19層及び29層と、4種類の発熱抵抗体か有する電
気抵抗率の温度依存性をOoCから120℃の温度範囲
で測定した。この測定に当り、第1実施例と同様に、従
来の発熱抵抗体との比較を行なう目的で、発熱抵抗体か
Ru−3i−0の1層のみて構成されることを除いで園
−の構成条件により作成したサーマルヘッドを比較例と
した。
第3図は、第2図と同様に、電気抵抗率に関する温度依
存性の測定結果を説明するための特性曲線図である。ま
た、曲線■は、第2実施例のうち、発熱抵抗体25を3
層構造とした場合、曲線■、■及び曲線■は、各々9層
、19層或いは29層として発熱抵抗体を構成した場合
につき示しでいる。さらに、曲線Xは、比較例(Ru−
3i−0)としての発熱抵抗体に関する測定結果を示す
この図からも理解できるように、o′Gから120℃の
温度まで上昇するに従い、従来の発熱抵抗体(曲線X)
か、25℃における抵抗率を基準として3.38−−7
.99%の範囲で約1070uΩ’cmの抵抗率の低下
を伴なう。これ(こ対して、この発明の第2実施例に係
る4種類の発熱抵抗体では、いずれの場合も抵抗率の低
下傾向が、はぼ直線的であり、抵抗率の低下は最大でも
0.17〜−0.68%の範囲て約80μΩ・cm程度
(曲線■)、最小で0.17〜−0.17%の範囲て約
30uΩ・cm程度(曲線■及び■)と、上述の温度依
存性が著しく低いことが理解できる。
ざらに、前述の第1実施例と同様に、上述の第2実施例
も、従来の発熱抵抗体(Ru−3i−0)に比べて、高
い温度でも比較的安定に高抵抗率を維持し得ることが理
解できる。
4全Ω北漱 以下、発熱抵抗体をサーマルヘッドに用いて駆動させた
場合の寿命に関して、上述した第1実施例及び第2実施
例の発熱抵抗体と、従来の発熱抵抗体との比較試験を行
なった結果につき説明する。
この寿命比較試験では、前述した温度依存性に関する比
較を行なった場合と同一の構成からなるサーマルヘッド
を、繰り返し周期を2ms及びパルス幅を0.8ms 
Iこ設定して駆動することにより行なった。また、駆動
する際の印加電力は、各々のサーマルヘッドを用いて感
熱紙(こ印字を行ない、当該感熱紙に印字された部分の
発色(黒色)の度合の指標としての光学濃度(Opti
cal Density:0.D、)か常に約1.2と
なるように調整して行なった。
第4図は、この寿命比較試験の結果を示す特性曲線図で
ある。図中、横軸にパルスの印加数を取り、縦軸には初
期抵抗値日と各ステップ終了時の抵抗値との差Δ日から
求めた抵抗変化率(ΔR/日を百分率として表わしたも
の)を取ってプロットしたものである。図中、曲線aは
上述した第1実施例の発熱抵抗体のうち積層数が19層
であるサーマルヘッド(第2図の曲線■に相当)、曲線
すは第2実施例の発熱抵抗体のうち積層数が19層のも
の(第3図の曲線■)、曲線Cは、発熱抵抗体を窒化タ
ンタル(TaJ)により構成した従来のサーマルヘッド
の結果を夫々示している。
この第4図からも理解できるように、発熱抵抗体を窒化
タンタル(Ta2N)とした従来構成のサーマルヘッド
(曲線C)では、パルス印加数が102に達する辺から
抵抗変化率の変動を生している。
これに対して、第1実施例に係るサーマルヘッド(曲線
a)では約3×103、第2実施例に係るサーマルヘッ
ド(曲線b)では約5×105に相当するパルス印加数
まで、抵抗変化率の変動が認められない。
以上、この発明の実施例につき詳細に説明したが、この
発明の実施例の発熱抵抗体は、従来の発熱抵抗体に比べ
て、第2図及び第3図を参照して説明したように温度依
存性が低く、かつ第4図から理解できるように、優れた
耐久性を有する。
また、上述した実施例では、白金(Pt)或いは二酸化
ルテニウム(RuO2)からなる導電体層を用い、発熱
抵抗体を構成した場合につき説明した。しかしながら、
この発明は上述の実施例にのみ限定されるものではなく
、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム
(Pd)、オスミニウム(Os) 、イリジウム(Ir
)または白金(Pt)、或いは、これら金属の酸化物と
しても、上述の実施例と同様な効果が得られた。さらに
、これら金属の混合物、当該金属の酸化物、及び当該金
属と金属酸化物との混合物として、上述の導電体層を形
成した場合にも、上述の実施例と同様な効果を期待し得
る。
また、上述の実施例では、絶縁基板の上に、まず、導電
体層27を被着し、その上側に絶縁体層29を積層した
場合につき説明したが、例えば絶縁基板の上に、順次、
絶縁体層、導電体層の順序で積層した構成としても良い
。さらに、上述の実施例では、積層数を奇数として説明
したが、当該積層数を偶数とし、例えば絶縁基板と接す
る層を絶縁体層、保護層(或いは給電体)の下側に積層
せしめられた層を導電体層として構成しても良い。
また、上述の実施例では、発熱抵抗体を被着形成するに
当り、マグネトロンスパッタ法を用いた場合につき説明
した。しかしなから、この発明は、この被着方法に限定
されるものではなく、例えば蒸着法、化学的気相成長(
Chemical VaporDeposition:
CVD)法またはその他、任意好適な被着方法としで実
施することができる。
これら材料条件、配IttJ係、積層数、被着手段、膜
厚及びその他の条件は、この発明の目的の節回内で、設
計の変更及び変形を任意好適に行ない得ること明らかで
ある。
(発明の効果) 上述した説明から明らかなように、この発明の発熱抵抗
体によれば、前述した金属或いは金属酸化物よりなる導
電体層と、酸化珪素(SiOy) (yは正数)よりな
る絶縁体層とを積層して発熱抵抗体を構成している。こ
れがため、電気抵抗率(こ関する温度依存性が低く、か
つ高い電気抵抗率を有し、この発明を例えばサーマルヘ
ッドに適用した場合のように、駆動に際して優れた耐久
性を有する。従って、この発明の発熱抵抗体を用いるこ
とにより、サーマルヘッド、ヒーター及びその他、種々
の優れた電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(A)は、この発明の発熱抵抗体の実施例の説明
に供するため、サーマルヘッドの概略的な断面により示
す説明図、 第1図(B)は、この発明の詳細な説明するため、第1
図(A)に示した発熱抵抗体の積層関係の一例を示すた
めの要部断面図、 第2図は、第1実施例の電気抵抗率に関する温度依存性
を説明するための特性曲線図、第3図は、第2実施例の
電気抵抗率に関する温度依存性を説明するための特性曲
線図、第4図は、この発明の実施例の寿命試験の結果を
説明するための特性曲線図、 第5図、第6図(A)及び第6図(B)は、従来技術の
説明に供する説明図である。 11・・・・絶縁基板、13.25・・・・発熱抵抗体
15、17・・・・給電体、19・・・・発熱部21・
・・・耐酸化膜、23・・・・耐摩耗層27・・・・導
電体層、29・・・・絶縁体層31・・・・保護膜。 Iツζ く( 実施例と比較例との前会試験の説明図 R 従来の発熱抵抗体を用いたサーマルヘッドの断面図第5
図 第6図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)金属(M)または該金属(M)の酸化物(MO_
    x)(xは正数)より成る導電体層と、酸化珪素(Si
    O_y)(yは正数)より成る絶縁体層とを積層して成
    る ことを特徴とする発熱抵抗体。
  2. (2)前記金属(M)がルテニウム(Ru)、ロジウム
    (Rh)、パラジウム(Pd)、オスミニウム(Os)
    、イリジウム(Ir)及び白金(Pt)のうちから選ば
    れた1種類または2種類以上よりなる ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の発熱抵抗
    体。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02177502A (ja) * 1988-12-28 1990-07-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 酸化ルテニウム系薄膜のエッチング方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH02177502A (ja) * 1988-12-28 1990-07-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 酸化ルテニウム系薄膜のエッチング方法

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