JPS63274957A - 電子写真用感光体組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は有機系光電導性物質を含有する光電導層を有す
る高感度、高耐久性の電子写真感光体に関するものであ
る。

〈従来の技術〉 従来、電子写真用感光体としては、セレン、硫化カドニ
ウム、酸化亜鉛等の無機来光電導物質が広く用いられて
来た。しかし、近年、無公害性、＠量、可撓性、生産性
にすぐれ、かつ材料選択の巾が広い、有機系電子写真感
光体の研究が進み、そのいくつかは既に実用化されてい
る。特に光を吸収し、電荷担体を発生する電荷発生層と
その上に電荷移動層とを組合せてなる積層型電子写真感
光体が開発されて以来、有機系電子写真感光体の性能は
飛躍的に向上した。

その結果、電子写真用感光体の複写機、写真製版のみな
らず、プリンタ分野への展開が著しい。

その内、特に半導体レーザーの光源に適合すると共に他
の光源への応用、例えば発光ダイオード用の光源に適合
する称な多目的電子写真感光体が要望されている。

これら、積層型電子写真感光体に於て電荷発生層は無機
系のものとしては、Ｓｅ　、　Ｓｅ合金、ＣｄＳ。

ＺｎＯ等を真空蒸着あるいは結着剤樹脂に分散して形成
され、又有機系のものとしてはフタロシアニン類、アゾ
系顔料、スクワリリュウム塩類、アズレニウム塩類など
の電荷発生物質を真空蒸着あるいは結着剤樹脂に分散さ
せ形成される。

また、電荷移動層は一般にアントラセン誘導体、オキサ
ジアゾール類、ピラゾリン化合物、スチリル化合物、ヒ
ドラゾン化合物、スチルベン化合物等の電荷移動物質を
成膜性のある樹脂と共に溶剤に溶解し、塗布し層形成さ
れる。電荷移動層に要求される機能としては、良好な電
子写真特性（帯電圧、感度、少ない残留電位等）を提供
する事は言うまでもないが電荷移動層は一般に感光体の
表面に形成されるため感光体に加えられる種々のプロセ
ス、例えばコロナ帯電、露光、トナー現象、転写、クリ
ーニング、イレーサー露光などの種々の電気的、光学的
、熱的、機械的な耐久性及び環境（＠度、湿度）等の安
定性が要求される。

更に感光体そのものを取扱際の室内光、太陽光に長時間
露光しても特性の変質や劣化をきたすことない耐光性能
が要求される。

特公昭５５−４２５８０には通常の電荷発生層及び特定
のヒドラゾン化合物を含有する電荷移動層からなる電子
写真感光体が開示されているが、この感光体は暗所で良
好な性能を示すが、周辺光、及び室内光に対し長時間露
光した場合、感度が低下してくる。これを改良するため
、特開昭５７−１９０９５２にはＤＥＡＳＰ若しくはア
セトゾール黄を少量添加して改質出来ることを開示して
いるが、これでも周辺光の影響による感度低下を十分に
は防止できず、画像ボケとして欠陥が発生し易いのが現
状である。

〈発明が解決しようとする問題点〉 本発明は耐光性が良好で、かつ画像欠陥の生じない高感
度、高耐久性の電子写真感光体を提供する事を目的とす
る。

く問題を解決するための手段〉 本発明者らは耐光性を改良するため電荷移動層中に添加
すべき物質について鋭意検討した結果、次の一般式（１
１１式で示される化合物が電荷移動層に含有させた電子
写真用感光体は著しく耐光性に向上した性能を示す事を
見出した。

すなわち本発明は、導電性支持体上に電荷発生層と電荷
移動層を含む積層型電子写真用感光体に於て、電荷移動
層中に含まれる電荷移動剤が、下記の一般式（Ｉａ） 〔式中、Ｒ１はメチル基、エチル基、フェニル基または
ナフチル基％　　Ｒ２ｅ　Ｒ３は水素、メトキシ基、エ
トキシ基、メチル基、またはエチル基、Ｒ４はメトキシ
基、エトキシ基または−Ｎ、Ｒ５基＼Ｒ６ （Ｒ５＊　Ｒ６はメチル基、エチル基、フェニル豚ビフ
ェニル基、フェノキシフェニル基またハヘンジル基）を
表わす。〕 または下記の一般式（１ｂ） Ｒフ （式中、Ｒ１はメチル基、エチル基、フェニル基または
ナフチル基％　　Ｒ’Ｆはメチル基またはエチル基を表
わす） で示されるヒドラゾン化合物の少なくとも１種類と、下
記一般式（ＩＩ） 〔式中、Ｒ１は水素、Ｃ１−Ｃ３のアルキル基、または
０１＜３のアルコキシ基を表わし、０〜４個置換され、
Ｒ２は水素またはメチル基、Ｒ３はＲ８は水素、Ｃ１＜
３のアルコキシ基または０１〜Ｒ３のアルキル基、Ｒ６
は水素、メトキシ基、二基、エチル基、フェニル基、ベ
ンジル基、フェノキシフェニル基またはビフェニル基）
〕また旬 基またはエチル基）を表わす〕 で示されるベンゾチアゾール化合物を少なくとも１種を
含有することからなる電子写真感光体である。

上記で示きれる一般式（ｎ）のチアゾール化合物は、例
えは、次のようにして製造することができる。

すなわち、下記一般式（Ｖ） （式中、Ｒ１は水素、Ｃ１−０３のアルキル基またはＣ
ｍ−ｃ　３のアルコキシ基を表わし、Ｒ１が０〜４個置
換でれてもよい。Ｒ２は水素または０１〜Ｃ２のアルキ
ル基） で示される化合物と、下記一般式（Ｖｌ）ｃｏ　−Ａ　
　　　　　　（Ｖｌ） （式中、Ｒ２は水素またはメチル基、Ａはメチル基、ジ
アルキルアミノ基、アルコキシ基等の置換基含有してい
てもよい芳香族アルデヒドまたはカルボニル化合物を表
わす） で示される化合物と反応させることによシ製造すること
ができる。

上記反応は、通常、メタノール、エタノール、プロパツ
ール、ブタノールなどのアルコール系溶媒、ベンゼン、
トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒、ジクロルベンゼ
ン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリ
ドンなどの極性、非極性溶媒の存在下で反応させる。

原料としての２−アミノベンゾチアゾール化合物と芳香
族アルデヒドの等モル量を上記溶媒中に加え、１時間か
ら１０時間反応させる。反応終了後反応溶媒を除去して
、カラム分別あるいはＴＬＣ分別したのち、更に適当な
溶媒、例えば、メタノール、エタノ−ｙ、ａｍエチルエ
ステル、トルエンなどに溶解し、再結晶精製を行なう。

反応温度は室温から１００℃位までの温度で十分であシ
、もし必要ならは、硫酸、塩酸、パラトルエンスルホン
酸などの縮合触媒の存在下で、好適に反応を進行させる
こともできる。

本発明の一般式（Ｉｔ）で示されるチアゾール化合物の
例と、その具体的製造方法を挙げると次のとおシである
。

（合成例） ２−アミノ−ベン１戸チアゾール１．５．１工タノール
３３ｍ中に溶解し、４−ジエチルアミノベンズアルデヒ
ド１．７７１を加え、更にｐ−１ルエンスルホン酸少量
（０，２、！ｉ＋　）を加えて約５０℃で攪拌しながら
３．５時間反応したのち、エタノールをエバポレーター
で除去し、ワコーグルＣ−２００を充填したカラムで、
トルエン溶媒で反応物を分別する。更に分別溶液は濃縮
したのち粗結晶１．５ｇを得る。更らにトルエン２０ｄ
にヘキサン３０酎を加え酢酸エチル５Ｍの混合溶媒で再
結晶して濾過すると、収率６２モル係で２−（ｐ−ジエ
チルアミノベンジリデンアミノ）−ベンゾチアゾールが
得られた。この化合物のｌＨ−ＮＭＲスペクトルを第１
図に示す。

上記の合成例にしたがい、２−アミノベンゾチアゾール
または／及び４−ジエチルアミノベンズアルデヒドに種
々の置換基を変えて、次の通９（２）〜（１２６）のチ
アゾール化合物が得られる。

（，１八Ｔ・、−１、・　　σ）） ３　　　　　　　　　　　９　　　　９　　　　　；；
　　　　３　　　１ ９　　　　　　　　　ｄ ｇｇｉ　　　　　　３　　　　− 史らに、一般式（ｖｌ）中入の置換基はナフチル基７エ
ナンスレン、ぎレン等の多環芳香環を置換させることが
出来る。

これらのチア１戸−ル化合物の１部のｌＨ−ＮＭＲスペ
クトルを表１−１〜表１−２７に示す。（なお、表中、
（）化合物に示す番号は前記のチアゾール化合物の番号
と同じ） 測定機器：日本電子ＰＭＸ　６０、溶媒；ＣＤＣ２３（
Ｊ人工、ｒｊＪ’） 導　渚　頒　糟　渚 ｍｘ　　禰　ｆ４− １１１川団瞭 ψＩ′ＣＩ＋３Ｑ目 上記一般式（ＩＩ）のチアゾール化合物は、一般式（Ｉ
ａ）、（１ｂ）の電荷移動剤の４０重量係以下、好まし
くは０．０１〜３０！量係を添加することにより、著し
く耐光性が向上する。具体的には、一般式（ｎ）のチア
ゾール化合物を添加しない感光体は、これを室内光中に
放置すると、数分以内で感度が低下して使用に耐えない
が、添加した感光体は、これを数１０分室内光中に放置
しても感度の低下が認められない。しかも一般式（ｎ）
のチアゾール化合物を添加した感光体は表面電位（初期
電位Ｖｏ）を高電位に保持し、添加しない場合と比べ露
光感度を変えることなく、露光後の表面電位（ｖｌ）を
極小（数ざルト）にする効果がみられる。さらにチアゾ
ール化合物の添加はこのような性能向上のはか、耐光性
能が一段と向上されることが判った。

一般式（Ｉａ）　、　（ｌｂ）で示される化合物を電荷
移動剤として用いる感光体は、一般に導電性基板上に電
荷発生層、電荷移動層ｔ−順次積層して構成される。場
合によっては、／ずリヤ一層、保謙層、中間層を設ける
こともできる。

導電性基板としてはアルミニウム蒸着したポリエステル
フィルム、アルミニウムシート、アルミニウムドラム等
が用いられる。

導電性基板上に設けられる電荷発生層は、一般に知られ
ている公知の電荷発生物質を蒸着成膜するか、電荷発生
物質を０．２〜２．Ｏｎｉ倍の結着用樹脂と溶剤と共に
分散させ、乾燥厚みが０．０１〜５μとなるように塗布
して形成される。

この際用いられる電荷発生物質としては、セレン、セレ
ンテルル合金、セレンヒ累合金、硫化カドニウムなどの
無機電荷発生物質、フタロシアニン化合物、ペリレン系
顔料、アゾ系顔料、ジスアゾ系顔料、ビリＩＪウム塩な
どの有機系電荷発生物質が用いられる。特に、インジウ
ムフタロシアニン、ガリウムフタロシアニン、チタニル
フタロシアニン、アルミニウムフタロシアニン、塩素化
アルミニウムフタロシアニン、ｒルマニウム７４０シア
ニン、メタルフリーフタロシアニン、銅フタロシアニン
などのフタロシアニン化合物およびアゾ系顔料が好適な
電荷発生物質として用いられる。

電荷発生層に隣接して設けられる電荷移動層は、前記一
般式（Ｉａ）、（Ｉｂ）および一般式（Ｉ［）の化合物
を適嶺な結合剤樹脂と共に溶剤に浴解し塗布、乾燥して
形成される一般式（ｌａ）　、　（Ｉｂ）と一般式（■
）の化合物の全量と結合剤の割合に、一般式（［ａ）、
　（Ｉｂ）と一般式（ｎ）の化合物の総１量１００部に
対し５０〜２００重量部が好ましい。結合剤樹脂として
は、ポリ塩化ビニル、〆リカーボネート、ポリスチレン
、ポリエステル、スチレンブタジェン共重合体、ポリウ
レタン、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、アクリル樹脂、
スチレンアクリル樹脂等が挙げられる。

溶剤としては、クロルベンゼン、ジクロルエタン、クロ
ロホルム、塩化メチレン、テトラヒドロフラン等が用い
られる。電荷移動層の膜厚は５〜３０μｍが好ましい。

前記一般式（Ｉａ）、（Ｉｂ）で示される電荷移動剤と
一般式（１１）で示されるチアゾール化合物の割合は、
一般式（Ｉｔ）のチアゾール化合物が一般式（Ｉａ）、
（Ｉｂ）のヒドラゾン化合物の４０重ｉ％以下、好まし
くは０．０１〜３０ｆｆｉ量係、さらに好ましくは０．
１〜３０！ｔ％である。

一般式（Ｉａ）、（Ｔｏ）の化合物は、和尚するアルデ
シである。

１００Ｉｎｌの丸底フレスコにｐ−ジエチルアミノベン
ズアルデヒド１．７７Ｆを入れ、エタノール２０１ｄを
加え溶解する。ジフェニルヒドラジン塩酸塩２．２１　
ＩＩを加え、還流下５時間反応を行なう。

冷却後、水１０００ｒＬｅを加え、結晶を析出させ濾過
粗生成物２．６　＆　を得た。ヘキサンとエタノールを
９：１に混合した溶媒で加熱浴解し、再結晶を２回行な
うと、ｍｐ　９４．４８Ｃを有するｐ−ジエチルアミノ
ベンズアルデヒド（ジフェニルヒドラゾン）が１．６ｇ
得られる。

本発明による電子写真用感光体は、電子写真複写機に利
用できる外に、レーデ−プリンタ、ＬＥＤプリンタ、液
晶シャッタプリンタ等の光プリンタにも広く用いること
ができる。

（実施例） 以下、本発明全実施例によシ説明する。

実施例１〜４ 昇華精製して得られたＡｔＣｌ０３２Ｎ８Ｈ１５Ｃｔで
示される塩素化アルミニウムフタロシアニン８ｍｆｔ部
を、クロロホルム５６３１１Ｌ量部と共にガラスボール
ミルで、室温において１０時間粉砕する。得られた分散
液にアクリル樹脂（アクリディックＡ−８０１、大日本
インキ（株）製）８１量部１ｄ解し、塗工液を作成する
。

このようにして得られた塗工′ｒＬを、共重合ナイロン
（東し製ＣＭ４００１）を°メタノールに溶解して１１
量係の浴液とし、１００μｍのアルミシートに浸漬塗工
して０．１μｍの乾燥塗膜を設けた基板上に、乾燥膜厚
が０．１μｍになるように浸漬塗工し、１００°Ｃで１
時間乾燥し、電荷発生層とした。

この電荷発生層の上に、ｐ−ジエチルアミノベンズアル
デヒド（ジフェニルヒドラゾン）および２−（ｐ−ジエ
チルアミノベンジリデンアミノ）−６−メチル−ベンゾ
チアゾールを表２に示したように添加し、ポリカーざネ
ート樹脂〔ニーピロンＥ−２０００；三菱ガス化学工業
（株）製〕１０ｍｔｉＭ、１．２−ジクロルエタン７２
重量部からなる電荷移動層形成用塗工液をドクターブレ
ードで塗布し、８０℃で一昼夜乾燥し、乾燥膜厚１５μ
ｍの電荷移動層を形成した。

（３人丁；、、０） 表　　２ 注１ 実施例５ 下記の式で示されるジスアゾ顔料　６１１ｇ　リエステ
ル樹脂（バイロン２００東洋紡製）１ｇ テトラヒドロフラン　　　　　　　９６９から成る混合
物をボールミル中で混合粉砕して分散液を得た。この分
散液を実施例１〜４で用いた基板上に、乾燥膜厚が１μ
ｍになるように授漬塗布し、乾燥して電荷発生ノーヲ形
成した。

この電、荷発生層の上に、表６の一般式（ｌａ）で示さ
れる化合物９！ｉ部、一般式（ＩＩ）で示される化合物
ｉｘｔ部、メリカーボネート樹脂１０重量部、１．２−
ジクロルエタン７２重量部からなる電荷移動層形成用塗
工液を塗布し、８０℃で一昼夜乾燥し、乾燥膜厚１７μ
扉の電荷移動層を形成して感光体とした。

実施例６ 下記の構造を有するスクアリリウム１ｇを６０ｒｎｔの
テトラヒドロフラン中に加え、ボールミル中で分散し、
分散液を作成した。実施例５と同様に塗布乾燥し、厚さ
０．０１μの電荷発生層を作成した。

この電荷発生層の上に、表４の一般式（Ｉｔ：、）で示
される化合物９Ｎ量部、一般式（１３で示される化合物
１！量部、ポリカーボネート樹脂１０！量部、１．２−
ジクロルエタン７２］Ｌ量部からなる電荷移動層形成用
塗工液を塗布し、８０℃で一昼夜乾燥し、乾燥膜厚１７
μｍの電荷移動層を形成して感光体とした。

実施例７ 銅フタロシアニン（東洋インキ社製、リオノールＥＳ）
１部、アクリル樹脂（大日本インキ社製。

アクリディックＡ−８０１）０．５部を１．２−ジクロ
ルエタン中に５％となるように加え、ざ−ルミル中で十
分分散させる。ミリング液ｔ−１，２−ジクロルエタン
で固型分濃度０．７５％となるように希釈する。この分
散液をバリヤ一層を設けたアルミ板上に塗布乾燥し、厚
さ１０００Ａの電荷発生層を作成した。

この電荷発生層の上に、表５の一般式（Ｉａ）で示され
る化合物９ｉ−ｊｉ部、一般式（ＩＩ）で示される化合
物１１量部、ポリカーボネート樹脂１０ｉ量部、１．２
−ジクロルエタン７２東量部からなる電荷移動層形成用
塗工液を塗布し、８０°Ｃで一昼夜乾燥し、乾燥膜厚１
７μｍの電荷移動層を形成して感光体とした。

実施例８ 実施例１〜４で用いた基板上に、オキシチタニウムフタ
ロシア、＝　：／　（ＴｊＯＰｏ）を１３−５Ｔｏｒｒ
で蒸着し、厚さ０，１μの蒸着膜を得た。蒸着膜をトリ
クロロプロパン中に５分間授潰し、結晶化を完了させた
。

この電荷発生層の上に、表６の一般式（Ｉａ）で示され
る化合物９Ｎｉ部、一般式（ｆｌ）で示される化合物１
Ｎ蛍部、ポリカーざネート樹脂１０］Ｉ（ｉｌ一部、１
．２−ジクロルエタン７２重量部からなる電荷移動層形
成用塗工液を塗布し、８０℃で一昼夜乾燥し、乾燥膜厚
１７μｍの電荷移動層を形成して８″″”　２１７・　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　（ｊ人工、貸〔□ン実施例９〜２５ 電荷移動剤として表７に示す一般式（Ｉａ）、（Ｔｏ）
の化合物９．０３ａＬｆｉ部と一般式（Ｉｔ）の化合物
１．０！量部を用いた他は、実施例２と同様の感光体を
作成Ｌ″・″に一ゝ“６・　　　　　　。ユニ４．、。

）比較例１ 実施例１〜４で用意した電荷発生層の上に塗布する塗工
液として、ｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド（ジフ
ェニルヒドラゾン）１０重ｆ部、ポリカーボネート樹脂
１０重量部、１．２−ジクロルエタン７２ｉｔ部からな
る電荷移動層用塗工液を作成した。

これらの塗工ｉｋ実施例１と同様に、電荷発生ｊ−の上
に塗布し成膜した。

比較例２ 次の化合物をｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド（ジ
フェニルヒドラゾン）のかわシに用いた他は、比較例１
と同様の感光体を作成した。

Ｃ２Ｈ。

比較例６ 次の化合物ｆｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド（ジ
フェニルヒドラゾン）のかわυに用いたは、比較例１と
同様の感光体を作成した。

比較例４ 次の化合物をｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド（ジ
フェニルヒドラゾン）のかわυに用いた他は比較例１と
同様の感光体を作成した。

比較例５ 次の化合物をｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド（ジ
フェニルヒドラ・戸ン）のかわシに用いた他は比較例１
と同様の感光体を作成した。

比較例６ 次の化合物をｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド（ジ
フェニルヒドラゾン）のかわシに用いた他は比較例１と
同様の感光体を作成した。

比較例７ 次の化合物ｔｐ−ジエチルアミノベンズアルデヒド（ジ
フェニルヒドラゾン）のかわシに用いた他は比較例１と
同様の感光体を作成した。

２Ｈ５ 実施例および比較例の性能 実施例１〜２５および比較例１〜７で作成した感光体の
感光特性は川口電機製５Ｐ−４２８型試験機を使用し、
次のようにして評価される。

まず、感光体に−５，６Ｋ　Ｖのコロナ放電を行い帯電
させ、暗所で一定の電圧になるまで放置し、引続き、タ
ングステン２ンゾで感光体表面が２０ルツクスとなるよ
うな光を照射し、表面電位が照射前の１７２になるまで
の時間を測定し、照度との積：ルックス１秒をもって感
度と称する。また、分光感度とは、分光された光の感光
体表面のエネルイー強度μＷ／ｃＩＩＬと表面を位が１
／２になるまでの時間との積をもって半減露光エネルギ
ーＡＪｕｌｅ／ｃＩＩｔヲ求め、これの逆数をもって分
光感度と称する。

この性能測定法によシ災施例および比較例の各感光体の
性能を測定した（白色光による測定）。

七の結果を表８に示す。

表　　８ 表　　８（続） 表　８（続） 実施例及び比較例の耐光性 実施例１〜２５および比較例１〜５で作成した感光体の
初期０性評愉は、感光体を暗所で一５５ＫＶでコロナ帯
電した後、表面電位（初期電位ｖｏ）１に測定する。そ
の後直ちに、光量４．８μＷ／ｃ’ｙ＋”、波長８００
　ｎｍの光ｔ−０，６２５秒間照射した後の表面電位（
Ｖｉ）を測定した。

また、実施例１〜２５のサンプルについては、同様にコ
ロナ帯電を行ない、初期電位ｖＯを測定した後、６０ル
ツクスの白色タングステン光を０．６２５秒間照射した
後の表面電位（ｖｌ）を測定した。耐光性の測定は、前
記の初期時ａｔ−評価した後、１０００ルツクスの白色
螢光灯下に１０分間暴露した後、直ちに再度同一条件で
ｖＯｌＶｉを測定し、白色タングステン光の露光前後の
ｖｌの変化（ΔＶｉ　）　ｆもって、耐光性の良否の目
処とした。したがって、Δｖ１が大きいほど耐光性が悪
いことになる。測定結果を表９に示す。

Ｃ１以下令臼） 表　　９ 表　　９（続） 表　　９　（続） 以上の結果から、実施例１〜２５においては、一般式（
ｎ）の化合物の添加によシ耐光性が向上していることが
、比較例１〜５によって明らかに認められ、また、チア
ゾール化合物の添加により、表面電位（ｖｏ）　を高く
するのみならず、耐光性能をも相乗して、明らかに向上
しているのが認められる。

実施例２６ 実施例１〜２５および比較例１〜５で作成した感光体を
−５，６ＫＶのコロナ帯電を行ない、半導体レーデ−（
７９０ｎｍ　）による露光、乾式トナー反転現像、普通
紙へのトナー転写、ウレタンゴムブレードによるクリー
ニング工程、および除電露光工程等を有する電子写真式
レーデ−プリンタに取シ付けて印字テストを行なった。

その結果、実施例１〜２５においては、カブリのない鮮
明な像が得られたが、比較例２〜５においてはカブリが
多く、鮮明な像は得られなかった。

（発明の効果） 本発明によれば、電荷移送層に一般式（Ｉａ）。

（Ｉｔ））のヒドラゾン化合物を電荷移送剤として用い
たとき、ごく少量の一般式（ＩＩ）で示されるチアゾー
ル化合物を添加することにょシ、艮好な電子写真特性が
向上するのみならず耐光性を著しく改善することができ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は一般式（ｎ）で示される化合物２−（ｐ−ジエ
チルアミノベンジリデンアミノ）−ベンゾチアプールの
ｌＨ−ＮＭＲスペクトルである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 導電性支持体上に電荷発生層と電荷移動層を含む積層型
   電子写真用感光体に於て、電荷移動層中に含まれる電荷
   移動剤が、下記の一般式（ I ａ）▲数式、化学式、表
   等があります▼（ I ａ） 〔式中、Ｒ＿１はメチル基、エチル基、フエニル基また
   はナフチル基、Ｒ＿２、Ｒ＿３は水素、メトキシ基、エ
   トキシ基、メチル基またはエチル基、Ｒ＿４はメトキシ
   基、エトキシ基または▲数式、化学式、表等があります
   ▼基（Ｒ＿５、Ｒ＿６はメチル基、エチル基、フェニル
   基、ビフェニル基、フエノキシフエニル基またはベンジ
   ル基）を表わす。〕 または下記の一般式（ I ｂ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） （式中、Ｒ＿１はメチル基、エチル基、フェニル基また
   はナフチル基、Ｒ＿７はメチル基またはエチル基を表わ
   す） で示されるヒドラゾン化合物の少なくとも１種類と、下
   記一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） 〔式中、Ｒ＿１は水素、Ｃ＿１〜Ｃ＿３のアルキル基、
   またはＣ＿１〜Ｃ＿３のアルコキシ基を表わし、０〜４
   個置換され、Ｒ＿２は水素またはメチル基、Ｒ＿３は▲
   数式、化学式、表等があります▼基（III）〔（III）式
   中、Ｒ＿４、Ｒ＿５、Ｒ＿７、Ｒ＿８は水素、Ｃ＿１〜
   Ｃ＿３のアルコキシ基またはＣ＿１〜Ｃ＿３のアルキル
   基、Ｒ＿６は水素、メトキシ基、エトキシ基または▲数
   式、化学式、表等があります▼基（Ｒ＿１＿０、Ｒ＿１
   ＿１はメチル基、エチル基、フエニル基、ベンジル基、
   フェノキシフェニル基またはビフェニル基）〕または▲
   数式、化学式、表等があります▼基（IV）（（IV）式中
   、Ｒ＿９はメチル基またはエチル基）を表わす〕 で示されるベンゾチアゾール化合物を少なくとも１種を
   含有することからなる電子写真感光体。