JPS63270324A - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
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- JPS63270324A JPS63270324A JP10596187A JP10596187A JPS63270324A JP S63270324 A JPS63270324 A JP S63270324A JP 10596187 A JP10596187 A JP 10596187A JP 10596187 A JP10596187 A JP 10596187A JP S63270324 A JPS63270324 A JP S63270324A
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Classifications
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/22—Non-oxide ceramics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/30—Intermediate layers, e.g. graded zone of base/top material
- C03B2215/32—Intermediate layers, e.g. graded zone of base/top material of metallic or silicon material
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、光学ガラス素子を熱間にてプレスする際に用
いられる光学素子成形用型に関する。
いられる光学素子成形用型に関する。
[従来の技術]
従来、光学素子成形用型としては、例えば特開昭62−
17029号公報に開示されるように、シリコン(St
)単結晶を基材とし、Si及び白金系合金との接着性に
優れた材料を中間層として最表層に白金系合金薄膜を形
成したものが知られている。この成形用型は、Si基材
と白金系合金薄膜との接着強度を高めることにより、成
形用型の長寿命化を図ろうとしたものである。
17029号公報に開示されるように、シリコン(St
)単結晶を基材とし、Si及び白金系合金との接着性に
優れた材料を中間層として最表層に白金系合金薄膜を形
成したものが知られている。この成形用型は、Si基材
と白金系合金薄膜との接着強度を高めることにより、成
形用型の長寿命化を図ろうとしたものである。
[発明が解決しようとする問題点]
上記従来の光学素子成形用型の白金系合金薄膜は、ガラ
スとの反応性が比較的低く、安定な膜と言えるが、他の
高融点化合物、特に窒化物、炭化物、硼化物に比して変
色や微小ガラスの付着、蓄積等が発生し易かった。また
、合金+1[膜を形成するには、極めて高度の技術を必
要とした。
スとの反応性が比較的低く、安定な膜と言えるが、他の
高融点化合物、特に窒化物、炭化物、硼化物に比して変
色や微小ガラスの付着、蓄積等が発生し易かった。また
、合金+1[膜を形成するには、極めて高度の技術を必
要とした。
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたもので、高硬
度にして高強度でかつ離型性が良く、薄膜が不要な光学
素子成形用型を提供することを目的とする。
度にして高強度でかつ離型性が良く、薄膜が不要な光学
素子成形用型を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段]
上記従来の問題点を解決するために、本発明は、光学素
子成形用型の少なくとも成形面を、キュービック・ボロ
ンナイトライド(C−BN)を50at履2以上含有す
る焼結体から構成したものである。
子成形用型の少なくとも成形面を、キュービック・ボロ
ンナイトライド(C−BN)を50at履2以上含有す
る焼結体から構成したものである。
本発明において、C−BNを50atm$以上含有する
こととしたのはC−BN50at層2未満では。
こととしたのはC−BN50at層2未満では。
ガラスとの離型性が低下し、実用上の効果が劣るからで
ある。また、本発明においては、C−BNを70atm
$以上含有した焼結体とすることにより、最も顕著な効
果を得ることができる。
ある。また、本発明においては、C−BNを70atm
$以上含有した焼結体とすることにより、最も顕著な効
果を得ることができる。
[作用]
上記構成の光学素子成形用型によれば、ガラスの付着等
がなく、高硬度で損傷し難く、型寿命が著しく長くなる
。
がなく、高硬度で損傷し難く、型寿命が著しく長くなる
。
[実施例]
(第1実施例)
高純度(99%以上)のC−BNパウダー85atm$
、 T f N 11atm$、 T i C2a
tm$及び残部Niと不可避不純物からなるチップを仮
焼結して作成した0次に、このチップを径18層層、厚
さ2諺組を取り得る寸法に略研削した後、HIP(熱間
静水プレス)処理を行なった。そして、予め所定形状に
形成しておいた超硬合金(wc−Nt系)からなる基材
に対し、高温タイプの金属ろう材により、前記チップを
ろう付けした。
、 T f N 11atm$、 T i C2a
tm$及び残部Niと不可避不純物からなるチップを仮
焼結して作成した0次に、このチップを径18層層、厚
さ2諺組を取り得る寸法に略研削した後、HIP(熱間
静水プレス)処理を行なった。そして、予め所定形状に
形成しておいた超硬合金(wc−Nt系)からなる基材
に対し、高温タイプの金属ろう材により、前記チップを
ろう付けした。
・本実施例では、径18mmの平面金型を得ようとする
ものであるが、チップはやや大きめに形成したものを基
材にろう付けした後、ダイヤモンド砥石により研削、整
形した。
ものであるが、チップはやや大きめに形成したものを基
材にろう付けした後、ダイヤモンド砥石により研削、整
形した。
成形面については、特に集中度が高いダイヤモンド砥石
により面精度(面形状)を出した後、ダイヤモンドパウ
ダーによりラッピングを行なった。この場合、成形面の
表面荒さはFLmax=0.2μl以下に仕上げること
が好ましく、ダイヤモンドパウダーは、6μ層を平均粒
径とする4〜8μ■の粒度分布のものから0.5μ層を
平均粒径とするほぼθ〜1μ■の粒度分布のものを順次
用いるとよい0本実施例では、成形面の表面荒さは、R
max = 0 、05μmとした。
により面精度(面形状)を出した後、ダイヤモンドパウ
ダーによりラッピングを行なった。この場合、成形面の
表面荒さはFLmax=0.2μl以下に仕上げること
が好ましく、ダイヤモンドパウダーは、6μ層を平均粒
径とする4〜8μ■の粒度分布のものから0.5μ層を
平均粒径とするほぼθ〜1μ■の粒度分布のものを順次
用いるとよい0本実施例では、成形面の表面荒さは、R
max = 0 、05μmとした。
第1図は、本実施例で得た光学素子成形用型を示すもの
で、所定形状の基材lには、金属ろう材2を介してC−
BNを主成分とする焼結体3がろう付けされている。
で、所定形状の基材lには、金属ろう材2を介してC−
BNを主成分とする焼結体3がろう付けされている。
なお、上記実施例で得た光学素子成形用型を用いて、S
F系(Sin2−PbO系)ガラスの光学素子を成形し
たところ、5000シヨツトの成形を行なっても成形品
の品質に何らの変化もなく・ 5ooooショット以上
の成形が十分可能であることが確認された。また、この
成形用型は、高硬度で取扱い上の傷や欠けが発生し難い
という利点があった。
F系(Sin2−PbO系)ガラスの光学素子を成形し
たところ、5000シヨツトの成形を行なっても成形品
の品質に何らの変化もなく・ 5ooooショット以上
の成形が十分可能であることが確認された。また、この
成形用型は、高硬度で取扱い上の傷や欠けが発生し難い
という利点があった。
これに対し、前記従来の成形用型は、
500シヨツトの成形程度で成形面に変色や微小なガラ
スの焼付きが出現し始め、約15000シヨツト程度で
寿命となってしまった。また、St単結は、硬度はとも
かく臂開性を有しているので、型としての耐久性を満足
できる材料ではなく、破損等を生じ易かった。
スの焼付きが出現し始め、約15000シヨツト程度で
寿命となってしまった。また、St単結は、硬度はとも
かく臂開性を有しているので、型としての耐久性を満足
できる材料ではなく、破損等を生じ易かった。
(第2実施例)
第1実施例と異なるところは、C−BNを主成分とする
焼結体の成分組成が、C−BN70atm$、 T
i N 15atmL S i N 10atm!及
び残部Niと不可避不純物であることで、他は前記第1
実施例と同一構造のものを同様の製造方法により得た。
焼結体の成分組成が、C−BN70atm$、 T
i N 15atmL S i N 10atm!及
び残部Niと不可避不純物であることで、他は前記第1
実施例と同一構造のものを同様の製造方法により得た。
この実施例の成形用型は、第1実施例のものに比して硬
度は若干劣るが、研磨性が良好で、成形面の表面荒さを
Rmax=0.05μ■以下とするのを安定的(容易)
に行なうことができた。ただ、La系光学ガラスの成形
にあっては、その温度条件が厳しいため、表面にStが
析出し易いが、従来の成形用型に比して著しく長寿命と
なったのは第1実施例と同様である0本実施例の成形用
型は、表面荒さが良好であるので、より平滑な面荒さが
要求される光学素子の成形に適している。
度は若干劣るが、研磨性が良好で、成形面の表面荒さを
Rmax=0.05μ■以下とするのを安定的(容易)
に行なうことができた。ただ、La系光学ガラスの成形
にあっては、その温度条件が厳しいため、表面にStが
析出し易いが、従来の成形用型に比して著しく長寿命と
なったのは第1実施例と同様である0本実施例の成形用
型は、表面荒さが良好であるので、より平滑な面荒さが
要求される光学素子の成形に適している。
なお、前記第1.第2実施例においては、C−BNを主
成分とする焼結体チップの厚さを21としたが、本発明
はかかる実施例に限定されるものではなく、上記厚みは
0.5〜3層−が最適であり、また成形用型全体をC−
BNを50at翳2以上含有する焼結体で構成してもよ
い。
成分とする焼結体チップの厚さを21としたが、本発明
はかかる実施例に限定されるものではなく、上記厚みは
0.5〜3層−が最適であり、また成形用型全体をC−
BNを50at翳2以上含有する焼結体で構成してもよ
い。
一方、基材としてはWC系合金の超硬合金の他に、Nt
系、Fe系等の耐熱超合金を用いることも可能である。
系、Fe系等の耐熱超合金を用いることも可能である。
ちなみに、本発明に係る光学素子成形用型は、従来の使
用方法とほとんど何らの変更点なくして使用可能である
が、熱伝導率が従来品と異なるので、まれに型温度を1
〜5℃程度設定変更する場合もある。
用方法とほとんど何らの変更点なくして使用可能である
が、熱伝導率が従来品と異なるので、まれに型温度を1
〜5℃程度設定変更する場合もある。
[発明の効果]
以上のように、本発明の光学素子成形用型によれば、少
なくとも成形面がC−BNを50atm$以上含有する
焼結体からなっているので、成形によるガラスの付着等
がなく、高硬度で取扱い上の傷や打痕等の発生が防止さ
れ、型寿命が著しく長くなるとともに、保守工数の低減
を図ることができる。
なくとも成形面がC−BNを50atm$以上含有する
焼結体からなっているので、成形によるガラスの付着等
がなく、高硬度で取扱い上の傷や打痕等の発生が防止さ
れ、型寿命が著しく長くなるとともに、保守工数の低減
を図ることができる。
図は本発明に係る光学素子成形用型の一実施例を示す縦
断正面図である。 1・・・基材 2・・ご金属ろう材 3・・・焼結体 1、基材 2、金属ろう材 3、焼結体 手続補正書(自発) 昭和62年7月2日
断正面図である。 1・・・基材 2・・ご金属ろう材 3・・・焼結体 1、基材 2、金属ろう材 3、焼結体 手続補正書(自発) 昭和62年7月2日
Claims (1)
- (1)少なくとも成形面がキュービック・ボロンナイト
ライドを50atm%以上含有する焼結体からなること
を特徴とする光学素子成形用 型。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10596187A JPS63270324A (ja) | 1987-04-28 | 1987-04-28 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10596187A JPS63270324A (ja) | 1987-04-28 | 1987-04-28 | 光学素子成形用型 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63270324A true JPS63270324A (ja) | 1988-11-08 |
JPH049739B2 JPH049739B2 (ja) | 1992-02-21 |
Family
ID=14421397
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10596187A Granted JPS63270324A (ja) | 1987-04-28 | 1987-04-28 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63270324A (ja) |
-
1987
- 1987-04-28 JP JP10596187A patent/JPS63270324A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH049739B2 (ja) | 1992-02-21 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |