JPS63269532A - 電子ビ−ム露光方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子ビーム露光方法に係シ、特にフィールドの
つなぎ部に跨がるパターンの露光方法の改良に関する。

〔従来の技術〕

電子ビーム露光方法において、電子ビームを振れる幅は
決まっておシ、それ以上の線或いはパターンを形成する
には、フィールド分割してやらなければならない。従来
、フィールド分割するのに、あるサイズで直線的に分け
ている。

第５図にステップ・アンドリピート方式でフィールドを
４つのメインフィールドＭ’Ｆを４つのサブフィールド
ＳＦに分割する例を示している。露光すべきウェハがセ
ットされたステッパのステージを動かしてメインフィー
ルドＭＰの中央に位置決めし、次にそのメインフィール
ド内の各サブフィールドＳＰを順次電子ビーム露光する
。そして一つのメインフィールドの露光が終了すると、
次のメインフィールドにステージ移動する。このように
して順次露光を繰シ返す。

このように、飛び飛びに移動しながら露光するために、
メインフィールド間あるいはサブフィールド間にどうし
ても成る程度の位置の誤差が生じ、フィールドのつなき
一部のパターン精度は悪くなつてしまう。

これを第４図を用いて説明する。例えば第４図（Ａ）の
ようにＬＩＮＦ！１とＬＩＮＥＩ２を有するフィールド
人とフィールドＢを考えると、フィールド人とフィール
ドＢのつなぎ部でそれぞれのフィールドのライとがずれ
た場合（ずれ＠Ｄ）、線幅！を小さくするとフィールド
間のずれＤにょシフイールドＡとフィールドＢのつなぎ
部のラインが細くなシ切れてしまうおそれが生じる。ま
た、フィールドのつなぎ部で隣接ラインとの間の幅Ｗが
小さくなシ、短絡してしまうこともある。また、第４図
（Ｂ）のようにラインが離れる方向にずれ線切れが生じ
ることもある。

これらの対策として、従来、第４図（Ｃ）のようにフィ
ールドのつなぎ部における断線を防ぐために、つなぎ部
のパターンに重ね部分（ダブルハツチ部分）をもうけて
露光し、フィールドがずれても断線しないようにしてい
る。

また、他の従来例として、第６図に連続移動方式による
電子ビーム露光方法を示している。連続移動方式では、
フィールドを連続して横（あるいは縦方向）に露光する
のでステップ・リピート方式のようなフィールドの飛び
によるつなぎ部のずれはない。しかし、第６図のように
、右方向にパターンを描いた後、折シ返して左方向にパ
ターン露光をする場合、つなぎ部にパターンの分解が現
れ、縦方向のＬＩＮＥＩ、２にパターンずれが生じる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来の電子ビーム露光方法においては、フィールドのつ
なぎ部のパターン精度は悪くなってしまい、フィールド
間を跨いでいるパターンでは、断線や実効線幅の減少、
線幅増加による隣接パターンのショート等が起こる。フ
ィールドのつなぎ部における断線を防ぐために、隣接す
るパターンのつなぎ部のパターンに重ね部分を設けて露
光した場合、重ね部分が二重に露光される結果、それだ
け線幅が増加し、ショートのおそれがある。そのため、
隣接する両パターンの増加を考慮し、隣接ラインの間隔
Ｗを余分に離しておかなければならない。これは、パタ
ーン密度を小さくして集積回路の集積度を向上するため
の制約となシ、大変不都合である。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、上記問題点を解決するために、電子ビーム露
光によって隣接する露光フィールドに跨った複数の線状
パターンをつなぎ部においてつなぎ合せてパターンを形
成する際に、線状パターンのつなぎ部にいたる長さを隣
接する線状パターンごとに異ならせておくことによって
、各線状パターンのつなぎ位置が隣接する線状パターン
ごとに異なる位置に生じるようにしたものである。

〔作用〕

本発明概念を、第１図を例に採って説明すると、フィー
ルド人とフィールドＢ内において、隣合うパターン（ラ
イン１．２．３　）のつなぎ位置をマージン領域内にお
いてずらしている。ハツチングを施しているパターンが
フィールドＢで持つパターンであシ、ハツチングが無い
パターンがフィールド人で持つパターンである。ここで
、マージン領域とは、フィールドつなぎ部でフィールド
ＡおよびフィールドＢがともにデータを持てる（電子ビ
ームを振れる）領域のことである。第１図中、ＳＡがフ
ィールド人がデータを持てる領域、８ＢがフィールドＢ
がデータを持てる領域を指示する。本発明によれば、第
３図のように、隣接パターンのつなぎ位置がずれている
ので、従来の第４図（Ｃ）と比較すると明らかなように
、隣接パターンに必要な間隔は従来の半分（Ｗ／２）と
することができる。

〔実施例〕

第２図に実施例のフィールド分割例を図示してあシ、フ
ィールド分割はン７ト的に行われ、計算機によって処理
される。

データとしては、第２図のａ　％　ｆのようにパターン
分割される。

パターンａは、フィールドつなぎ部に至っていないので
フィールド人で持たれる。パターンｂも同様にフィール
ド人で持たれる。パターンＣは、フィールドつなぎ部に
かかつているが、フィールドＢのマージン領域からは出
ていないのでフィールドＢで持たれる。パターンｄは、
フィールドつなぎ部にかかつているが、フィールドＡの
マージン領域からは出ないので、フィールド人で持たれ
る。パターンｅｌｆはフィールドつなぎ部に至っていな
いのでフィールドＢで持たれる。よって、ＬＩＮＥ　１
は■の部分で、ＬＩＮＦｉ　２は■の部分で、左右のフ
ィールドに分かれて、データが持たれる。

もし、パターンｃ、ｄがマージン領域を越えてしまうと
、パターンｃｏｄは、フィールドつなぎ部で分割されて
しまう。マージン領域内にす、ｅのようなパターンを互
い違いに入れたシ、ずらして入れることによってフィー
ルドつなぎ部を隣接するパターン同志ずらすことが可能
である。この処理の後、■でのパターンＣ１■でのパタ
ーンｄを延長する処理を行い、２重露光部が形成される
ようにする。

なお、本発明についてステップ・リピート法ニ関して実
施例を示したが、連続移動法についても、本発明は有効
である。例えば、第６図のように、右方向にパターンを
描いた後、折シ返して左方向にパターンを描く場合、前
記のようにパターンずれが生じるがその場合もマージン
領域内でつなぎ部をずらすことによシ、前記と同様の効
果を得ることができる。

〔発明の効果〕

本発明の方法を用いると、従来のようにパターンが同程
度つなぎ部で太っても、パターンがくっつくことがない
。パターン間隔Ｗを従来の方法よシ狭くすることが可能
であシ、パターンのパッケージ密度を向上させることが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の詳細な説明するに採用した実施例の平
面図、 第２図は本発明の実施例の手法の説明図、第３図は本発
明の詳細な説明する図、 第４図（Ａ）〜（Ｃ）　ｐ従来の電子ビーム露光方法の
説明図、 第５図はフィールド分割の説明図、 第６図は連続移動方法の説明図である。 ＳＡ・・・フィールド人がデータを持てる領域ＳＢ・・
・フィールドＢがデータを持てる領域Ｗ・・・パターン
間隔 改〜ｆ・　／ぐターン

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 電子ビーム露光によつて隣接する露光フィールドに跨つ
   た複数の線状パターンをつなぎ部においてつなぎ合せて
   パターンを形成する方法において、線状パターンのつな
   ぎ部にいたる長さを隣接する線状パターンごとに異なら
   せて、各線状パターンのつなぎ位置が隣接する線状パタ
   ーンごとに異なる位置に生じるようにしたことを特徴と
   する電子ビーム露光方法。