JPS63264541A - ヘキサフルオロアセトンの製造方法 - Google Patents
ヘキサフルオロアセトンの製造方法Info
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- JPS63264541A JPS63264541A JP62097509A JP9750987A JPS63264541A JP S63264541 A JPS63264541 A JP S63264541A JP 62097509 A JP62097509 A JP 62097509A JP 9750987 A JP9750987 A JP 9750987A JP S63264541 A JPS63264541 A JP S63264541A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ００発明目的
産業上の利用分野
この発明はエチレン−テトラフルオロエチレン共重合体
の修飾用モノマー、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロ
プロペン系フッ素ゴムの加硫剤原料、溶媒、その他化学
反応中間体として有用なヘキサフルオロアセトンを製造
する方法に関するものである。
の修飾用モノマー、フッ化ビニリデン−ヘキサフルオロ
プロペン系フッ素ゴムの加硫剤原料、溶媒、その他化学
反応中間体として有用なヘキサフルオロアセトンを製造
する方法に関するものである。
従来の技術
特開昭５５−１３０９３５号にはヘキサフルオロプロペ
ン（ＲＦ Ｐ）を、酸化錫、酸化鉄および酸化インジウ
ムからなる群から選ばれた酸化物に接触させてヘキサフ
ルオロアセトン（ＨＦ Ａ）を得る方法が記載されてい
るが、この方法における選択率は６０％未満で、ワンパ
ス収率は１０〜３８％程度である。
ン（ＲＦ Ｐ）を、酸化錫、酸化鉄および酸化インジウ
ムからなる群から選ばれた酸化物に接触させてヘキサフ
ルオロアセトン（ＨＦ Ａ）を得る方法が記載されてい
るが、この方法における選択率は６０％未満で、ワンパ
ス収率は１０〜３８％程度である。
発明が解決しようとする問題点
本発明は高い選択率とワンパス収率でヘキサフルオロア
セトンを製造する方法を提供することを目的とする。
セトンを製造する方法を提供することを目的とする。
口９発明の構成
問題点を解決するための手段
本発明によるヘキサフルオロアセトンの製造方法は、Ｒ
ｕ 、Ｒｈ 、Ｐｄ 、Ｐｔ及びＩｒからなる群から選
ばれる貴金属を活性炭に担持した触媒にヘキサフルオロ
プロペンを分子状酸素と共に接触させることよりなる。
ｕ 、Ｒｈ 、Ｐｄ 、Ｐｔ及びＩｒからなる群から選
ばれる貴金属を活性炭に担持した触媒にヘキサフルオロ
プロペンを分子状酸素と共に接触させることよりなる。
本発明において使用する活性炭は、一般に触媒担体用と
して市販されているものを使用できる。
して市販されているものを使用できる。
また活性炭にＲｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、ＰＬ及びＩｒからなる
群から選ばれる貴金属を担持させる方法も１通常用いら
れている方法により行うことができる。またこれらの貴
金属を活性炭に担持させた市原触媒を使用してもよい。
群から選ばれる貴金属を担持させる方法も１通常用いら
れている方法により行うことができる。またこれらの貴
金属を活性炭に担持させた市原触媒を使用してもよい。
Ｒｕ 、Ｒｈ 、Ｐｄ 、Ｐｔ及びＩｒからなる群から
選ばれる貴金属の活性炭に対する担持量は。
選ばれる貴金属の活性炭に対する担持量は。
０．３〜５重量％程度とするのが適当である。
以下本発明を実施例により具体的に説明する。
実施例１〜６
０．２ｗｔ％Ｐｄ／活性炭触媒（日本エンゲルハルト−
製）を。
製）を。
■予備処理として反応装置内で１３０℃で排気したもの
（実施例１）、 ■３００℃で排気したもの（実施例２）、■３００℃で
排気後１２０Ｔｏ ｒ ｒの酸素により１３０℃で４５
分処理し１３０℃で排気したもの（実施例３）、 ０３００℃で排気後１２０Ｔｏｒｒの水素により１３０
℃で４５分処理し１３０℃で排気したもの（実施例４）
、 ■実施例１の触媒を使用後、１３０℃で排気して再使用
したもの（実施例５）、 ■実施例６で使用した触媒をさらに３００℃で排気して
再使用したもの（実施例６） それぞれ０．５０ｇを用い、気相封鎖循環反応装置（容
量０．３２ｆ）内で反応初期圧力約２５８Ｔｏｒｒ、ヘ
キサフルオロプロペン（ＲＦＰ）１０２比＝ １ 、０
．温度１３０℃で４５分間反応させ、圧力の減少により
反応の進行状況を調べた。
（実施例１）、 ■３００℃で排気したもの（実施例２）、■３００℃で
排気後１２０Ｔｏ ｒ ｒの酸素により１３０℃で４５
分処理し１３０℃で排気したもの（実施例３）、 ０３００℃で排気後１２０Ｔｏｒｒの水素により１３０
℃で４５分処理し１３０℃で排気したもの（実施例４）
、 ■実施例１の触媒を使用後、１３０℃で排気して再使用
したもの（実施例５）、 ■実施例６で使用した触媒をさらに３００℃で排気して
再使用したもの（実施例６） それぞれ０．５０ｇを用い、気相封鎖循環反応装置（容
量０．３２ｆ）内で反応初期圧力約２５８Ｔｏｒｒ、ヘ
キサフルオロプロペン（ＲＦＰ）１０２比＝ １ 、０
．温度１３０℃で４５分間反応させ、圧力の減少により
反応の進行状況を調べた。
この結果、誘導期約２５分を経過した後圧力は次第に減
少し始めた。
少し始めた。
反応生成物の分析はガスクロマトグラフを使用し、Ｉ
、Ｒ，も併用した。試験結果をｉｆ表に示す。
、Ｒ，も併用した。試験結果をｉｆ表に示す。
予備処理条件により転化率及び選択率は変化するが、７
０〜９２％という高い選択率でヘキサフルオロアセトン
が得られる。
０〜９２％という高い選択率でヘキサフルオロアセトン
が得られる。
なお一度使用した触媒を再度１３０℃で加熱排気した場
合（実施例６）は誘導期は認められず、しかもｗＳ１回
目の使用時と同等以上の高活性が認められた。
合（実施例６）は誘導期は認められず、しかもｗＳ１回
目の使用時と同等以上の高活性が認められた。
第１表
実施例７
活性炭（クラレケミカル■製）にＰｄＣｕ２のｌＮ−Ｈ
Ｃｕ溶液を含浸させ、水洗後１２０℃で乾燥し、４５０
℃で水素還元してＰｄを５重量％担持させた触媒を調製
した。
Ｃｕ溶液を含浸させ、水洗後１２０℃で乾燥し、４５０
℃で水素還元してＰｄを５重量％担持させた触媒を調製
した。
この触媒０．５ｇを用い、気相封鎖循環反応装置（容罎
ｏ、３２文）内で反応初期圧力約２５８Ｔｏ ｒ ｒ、
ＨＦＰ１０２比＝１．０、温度１３０℃で１２０分反応
させた結果を第２表に示す。
ｏ、３２文）内で反応初期圧力約２５８Ｔｏ ｒ ｒ、
ＨＦＰ１０２比＝１．０、温度１３０℃で１２０分反応
させた結果を第２表に示す。
第２表
比較例１〜３
担体としてＳ ｉｏ２．Ｔｉ０ｚ又はＡ文２０３を使用
し、Ｐｄ０文２のＩＮ−ＨＣ文溶液を含浸させ、水洗後
１２０℃で乾燥し、４５０℃で水素還元してＰｄを０．
５重量％相持させた触媒を調製した。
し、Ｐｄ０文２のＩＮ−ＨＣ文溶液を含浸させ、水洗後
１２０℃で乾燥し、４５０℃で水素還元してＰｄを０．
５重量％相持させた触媒を調製した。
これを実施例７と同じ条件で１２０分反応させた結果を
第３表に示す。
第３表に示す。
第３表
活性炭以外の担体を使用した場合は転化率が著しく低く
、ことに、Ａｌ２Ｏ５を使用した場合はヘキサフルオロ
アセトンは全く生成しない。
、ことに、Ａｌ２Ｏ５を使用した場合はヘキサフルオロ
アセトンは全く生成しない。
実施例８〜１３
第４表に示す如き日本エンゲルハルト−製の各種市販触
媒それぞれｏ 、５０ｇを、実施例１〜６で使用した気
相封鎖循環反応装置内で１３０℃で３時間加熱排気して
予備処理した後、反応初期圧力的２５８Ｔｏ ｒ ｒ、
ＨＦＰ１０２比＝１．０、温度１３０℃で圧力の減少が
殆ど認められなくなるまで反応させた結果を第４表に示
す。
媒それぞれｏ 、５０ｇを、実施例１〜６で使用した気
相封鎖循環反応装置内で１３０℃で３時間加熱排気して
予備処理した後、反応初期圧力的２５８Ｔｏ ｒ ｒ、
ＨＦＰ１０２比＝１．０、温度１３０℃で圧力の減少が
殆ど認められなくなるまで反応させた結果を第４表に示
す。
（以下余白）
第４表
いずれも高い選択率とワンパス収率を示している。
実施例１４及び１５
実施例７の触媒調製法に準じて、活性炭にＲｕＣｆＬｓ
またはＲｈＣ１５の水溶液を含浸させ、水洗後１２０℃
で乾燥し、５００℃で水素還元してＲｕを５重量％担持
させた触媒（実施例１４）及びＲｈを５重量％担持させ
た触媒（実施例１５）を調製した。
またはＲｈＣ１５の水溶液を含浸させ、水洗後１２０℃
で乾燥し、５００℃で水素還元してＲｕを５重量％担持
させた触媒（実施例１４）及びＲｈを５重量％担持させ
た触媒（実施例１５）を調製した。
これを実施例７と同じ条件で１５０分反応させた結果を
第５表に示す。
第５表に示す。
第５表
実施例１６
実施例７の触媒調製法に準じて、活性炭（クラレケミカ
ル■製）に塩化白金酸の水溶液を含浸させ、水洗後１２
０℃で乾燥し５００℃で水素還元してＰｔを５重量％担
持させた触媒を調製した。
ル■製）に塩化白金酸の水溶液を含浸させ、水洗後１２
０℃で乾燥し５００℃で水素還元してＰｔを５重量％担
持させた触媒を調製した。
これを実施例７と同じ条件で６０分反応させた結果を第
６表に示す。
６表に示す。
（以下余白）
第６表
比較例４
担体としてＡ１２０３を使用し、実施例１６の触媒調製
法に準じてＰｔを５重量％担持させた触媒を調製した。
法に準じてＰｔを５重量％担持させた触媒を調製した。
これを実施例１６と同じ条件で１５０分反応させた結果
を第７表に示す。
を第７表に示す。
第７表
担体として活性炭を使用した実施例１６に比し転化率が
著しく低く、ヘキサフルオロアセトンは全く生成しない
。
著しく低く、ヘキサフルオロアセトンは全く生成しない
。
比較例５
実施例７の触媒調製法に準じて、活性炭（クラレケミカ
ル■製）にＡｇＮ０：＋水溶液を含浸させＡｇを１．９
重量％担持させた触媒を調製した。
ル■製）にＡｇＮ０：＋水溶液を含浸させＡｇを１．９
重量％担持させた触媒を調製した。
水洗後１２０℃で乾燥し、反応容器内で５００℃で排気
して予備処理し、１３０℃で１８０分反応させた結果を
第８表に示す。
して予備処理し、１３０℃で１８０分反応させた結果を
第８表に示す。
比較例６
実施例７の触媒調製法に準じて活性炭（クラレケミカル
■製）にＮＨ４ＶＯ３の水溶液を含浸させ、■を０．９
改賃％担持させた触媒を調製し、反応容器内で５５０℃
で排気して予備処理し、２５０℃で５０分反応させた結
果を第８表に示す。
■製）にＮＨ４ＶＯ３の水溶液を含浸させ、■を０．９
改賃％担持させた触媒を調製し、反応容器内で５５０℃
で排気して予備処理し、２５０℃で５０分反応させた結
果を第８表に示す。
活性炭を担体としても、Ａｇ又はＶはヘキサフルオロア
セトンを殆ど生成しない。
セトンを殆ど生成しない。
ハ７発明の効果
Ｒｕ 、Ｒｈ 、Ｐｄ 、Ｐｔ及びＩｒからなる群から
選ばれる貴金属を活性炭に担持した触媒を使用すること
により、ヘキサフルオロプロペンを分子状酸素とか−ら
ヘキサフルオロアセトンを高い選択率で得ることができ
る。
選ばれる貴金属を活性炭に担持した触媒を使用すること
により、ヘキサフルオロプロペンを分子状酸素とか−ら
ヘキサフルオロアセトンを高い選択率で得ることができ
る。
Claims (1)
- Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｐｔ及びＩｒからなる群から選ばれ
る貴金属を活性炭に担持した触媒にヘキサフルオロプロ
ペンを分子状酸素と共に接触させることよりなるヘキサ
フルオロアセトンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62097509A JPS63264541A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | ヘキサフルオロアセトンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62097509A JPS63264541A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | ヘキサフルオロアセトンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63264541A true JPS63264541A (ja) | 1988-11-01 |
| JPH0455415B2 JPH0455415B2 (ja) | 1992-09-03 |
Family
ID=14194227
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62097509A Granted JPS63264541A (ja) | 1987-04-22 | 1987-04-22 | ヘキサフルオロアセトンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63264541A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102140057A (zh) * | 2010-01-28 | 2011-08-03 | 中国中化股份有限公司 | 一种六氟丙酮的制备方法 |
| CN112457176A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-03-09 | 山东华夏神舟新材料有限公司 | 连续生产六氟丙酮的方法 |
-
1987
- 1987-04-22 JP JP62097509A patent/JPS63264541A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102140057A (zh) * | 2010-01-28 | 2011-08-03 | 中国中化股份有限公司 | 一种六氟丙酮的制备方法 |
| CN112457176A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-03-09 | 山东华夏神舟新材料有限公司 | 连续生产六氟丙酮的方法 |
| CN112457176B (zh) * | 2020-11-25 | 2022-03-29 | 山东华夏神舟新材料有限公司 | 连续生产六氟丙酮的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0455415B2 (ja) | 1992-09-03 |
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