JPS6326353A - 真空蒸着装置における蒸発物質供給方法 - Google Patents
真空蒸着装置における蒸発物質供給方法Info
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- JPS6326353A JPS6326353A JP16813086A JP16813086A JPS6326353A JP S6326353 A JPS6326353 A JP S6326353A JP 16813086 A JP16813086 A JP 16813086A JP 16813086 A JP16813086 A JP 16813086A JP S6326353 A JPS6326353 A JP S6326353A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/246—Replenishment of source material
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、真空蒸着装置における蒸発容器への蒸発物
質の供給方法に関する。
質の供給方法に関する。
（従来の技術）
例えば金属ストリップのような被処理材に対する耐食性
、耐摩耗性などの緒特性の向上を目的とした異種物質の
被膜形成を行う、真空蒸着法（イオンブレーティングを
含む）が近年多数実施されている。
、耐摩耗性などの緒特性の向上を目的とした異種物質の
被膜形成を行う、真空蒸着法（イオンブレーティングを
含む）が近年多数実施されている。
真空蒸着処理の要件は数多くあるが、その１つとして蒸
発物質の蒸気効率の向上が挙げられる、これは経済的な
面のみでなく、蒸着物質の非蒸谷分が真空槽内に堆積し
、その堆積物の落下によって機械類の動作障害を引き起
こしたり、堆積物除去によって操業の連続化が明言され
ることがあるため重要な要件である。
発物質の蒸気効率の向上が挙げられる、これは経済的な
面のみでなく、蒸着物質の非蒸谷分が真空槽内に堆積し
、その堆積物の落下によって機械類の動作障害を引き起
こしたり、堆積物除去によって操業の連続化が明言され
ることがあるため重要な要件である。
これに対して特開昭５８−１３３３７５号公報には板ガ
イドを設置する方法および、特開昭５７−１５８３７９
号公報には蒸気カバーを設（ブる方法などの開示がある
。
イドを設置する方法および、特開昭５７−１５８３７９
号公報には蒸気カバーを設（ブる方法などの開示がある
。
しかしながら、前者においてはガイドとストリップとの
接触部付近への蒸発物質の堆積をヒーター加熱で防いで
いるのだが、エネルギーコストが高いこと、複雑な設備
を必要とすることなどの不利がある。また後者は蒸発物
質の回収に関して問題が残る。
接触部付近への蒸発物質の堆積をヒーター加熱で防いで
いるのだが、エネルギーコストが高いこと、複雑な設備
を必要とすることなどの不利がある。また後者は蒸発物
質の回収に関して問題が残る。
〈発明が解決しようとする問題点〉
そこで蒸発物質の蒸気効率の向上を実現する蒸発物質の
供給方法を提供することが、この発明の目的である。
供給方法を提供することが、この発明の目的である。
（問題点を解決するための手段）
この発明は、被処理材に真空蒸着を施す真空槽において
、その内部に配置した蒸発容器に、蒸着用の蒸発物質を
供給するに当り、上記蒸発物質と同一材質からなり、か
つコイルに巻いたストリップ状の蒸発物質を用意してお
き、上記蒸発物質の消耗量に応じて該ストリップ状蒸発
物質を巻もどしつつ蒸発容器に連続して供給することを
特徴とする真空蒸着装置における蒸発物質供給方法であ
る。
、その内部に配置した蒸発容器に、蒸着用の蒸発物質を
供給するに当り、上記蒸発物質と同一材質からなり、か
つコイルに巻いたストリップ状の蒸発物質を用意してお
き、上記蒸発物質の消耗量に応じて該ストリップ状蒸発
物質を巻もどしつつ蒸発容器に連続して供給することを
特徴とする真空蒸着装置における蒸発物質供給方法であ
る。
実施に当り、ストリップ状蒸発物質の供給経路が、被処
理材蒸着面の裏側を経由することが有利に適合する。
理材蒸着面の裏側を経由することが有利に適合する。
次にこの発明を第１図に従って具体的に説明する。
図中１は真空槽、２は金属ストリップのような被処理材
、３は大気とのシールをはかるシールロール、４は真空
を保持するための排気口、５は蒸発物質６を収容するる
つぼのような蒸発容器、７は蒸発容器を加熱するための
ヒーター、８は蒸発物質６と同一材質のストリップ状蒸
発物質、９はストリップ状蒸発物質８を巻いたコイル、
１０８゜１０ｂはストリップ状蒸発物質８を被処理材蒸
着面の裏側へ導くためにストリップ状蒸発物質８を巻回
ずガイドロール、１１はストリップ状蒸発物質８を蒸発
物質６へ導入するためのビンチロール、そして１２はス
トリップ状蒸発物質８の導入口となるスリットである。
、３は大気とのシールをはかるシールロール、４は真空
を保持するための排気口、５は蒸発物質６を収容するる
つぼのような蒸発容器、７は蒸発容器を加熱するための
ヒーター、８は蒸発物質６と同一材質のストリップ状蒸
発物質、９はストリップ状蒸発物質８を巻いたコイル、
１０８゜１０ｂはストリップ状蒸発物質８を被処理材蒸
着面の裏側へ導くためにストリップ状蒸発物質８を巻回
ずガイドロール、１１はストリップ状蒸発物質８を蒸発
物質６へ導入するためのビンチロール、そして１２はス
トリップ状蒸発物質８の導入口となるスリットである。
ストリップ状蒸発物質８の供給経路は、該ストリップ状
蒸発物質８のコイル９を巻もどし、ついでガイドロール
１０ａ 、 １０ｂに巻回して被処理材２の蒸着面の裏
側を経由させ、その後ピンチロール１１に通してスリッ
ト１２へ導き、蒸発容器５内へ供給する。
蒸発物質８のコイル９を巻もどし、ついでガイドロール
１０ａ 、 １０ｂに巻回して被処理材２の蒸着面の裏
側を経由させ、その後ピンチロール１１に通してスリッ
ト１２へ導き、蒸発容器５内へ供給する。
スリット状蒸発物質８の幅は蒸発容器５の蒸発面を覆う
に足る寸法を必要とし、またスリット１２の開口長さも
ストリップ状蒸発物質８の幅に対応させる。
に足る寸法を必要とし、またスリット１２の開口長さも
ストリップ状蒸発物質８の幅に対応させる。
なおガイドロール１０ａ 、 １０ｂは、ストリップ状
蒸発物質８の供給経路で囲まれる空間内における被処理
材２の上方位置であって、かつ被処理材２の板幅方向両
端と蒸発容器５の蒸発面の開口両端とを線ぶ線の延長線
で囲まれる領域内に配設すれば、該ロールへの無効蒸気
（被処理材の被膜形成に寄与しない蒸発物質）の付着は
ほとんどない。
蒸発物質８の供給経路で囲まれる空間内における被処理
材２の上方位置であって、かつ被処理材２の板幅方向両
端と蒸発容器５の蒸発面の開口両端とを線ぶ線の延長線
で囲まれる領域内に配設すれば、該ロールへの無効蒸気
（被処理材の被膜形成に寄与しない蒸発物質）の付着は
ほとんどない。
またピンチロール１１の位置は該ロールへの蒸発物質の
被着をさけるため、蒸発容器５のスリット１２上方には
配置させないことが好ましい。
被着をさけるため、蒸発容器５のスリット１２上方には
配置させないことが好ましい。
さらにストリップ状蒸発物質８につき、真空槽１外から
シールロール３を経て連続的に供給することも可能であ
る。
シールロール３を経て連続的に供給することも可能であ
る。
（作用）
上記したように、蒸発物質をストリップ状にしたものを
コイルに巻き、このコイルからストリップ状蒸発物質を
巻きもどして蒸発容器へ供給することで、蒸発物質の連
続供給が達成できる。
コイルに巻き、このコイルからストリップ状蒸発物質を
巻きもどして蒸発容器へ供給することで、蒸発物質の連
続供給が達成できる。
また該ストリップ状蒸発物質の供給に際してその供給経
路を被処理材蒸着面の裏側へ経由させることによって、
蒸発物質のうちの無効蒸気を供給経路におけるストリッ
プ状蒸発物質に捕獲し、該ストリップ状蒸発物質をその
まま蒸発容器へ導入するため、結果的には無効蒸気の再
利用が実現する。
路を被処理材蒸着面の裏側へ経由させることによって、
蒸発物質のうちの無効蒸気を供給経路におけるストリッ
プ状蒸発物質に捕獲し、該ストリップ状蒸発物質をその
まま蒸発容器へ導入するため、結果的には無効蒸気の再
利用が実現する。
（実施例）
厚み０．５ｍｍの低炭素鋼板を巻取ったコイル（１ｔｏ
ｎ ）を真空蒸着処理装置に通し、ライン速度２０ｍ／
ｍｉｎで鋼板の片面に１μｍ厚みのＴｉ被膜を形成させ
た。その際、０．５ｍｍ厚のＴｉ板のコイルを用意して
おき、このコイルからＴｉ板を巻もどし鋼板裏側を通る
経路にて蒸発容器へＴｉを供給したところ、処理後の無
効蒸気は３％で、また上記処理の間におけるＴｉの補給
も不要であった。
ｎ ）を真空蒸着処理装置に通し、ライン速度２０ｍ／
ｍｉｎで鋼板の片面に１μｍ厚みのＴｉ被膜を形成させ
た。その際、０．５ｍｍ厚のＴｉ板のコイルを用意して
おき、このコイルからＴｉ板を巻もどし鋼板裏側を通る
経路にて蒸発容器へＴｉを供給したところ、処理後の無
効蒸気は３％で、また上記処理の間におけるＴｉの補給
も不要であった。
なお比較として、この発明を適用しない通常の真空蒸着
処理を、同様の条件で行ったところ、無効蒸気は３０％
であった。
処理を、同様の条件で行ったところ、無効蒸気は３０％
であった。
（発明の効果）
この発明によれば、真空蒸着処理における蒸発物質の連
続供給を行うに際しストリップ状蒸発物質の供給経路を
被処理材の裏側へ経由させることにより、無効蒸気の回
収が可能となり、蒸気効率の向上を達成し得る。
続供給を行うに際しストリップ状蒸発物質の供給経路を
被処理材の裏側へ経由させることにより、無効蒸気の回
収が可能となり、蒸気効率の向上を達成し得る。
第１図はこの発明に用いて好適な真空蒸着装置の説明図
、 第２図は第１図■−■矢視図、 第３図は蒸発容器付近の説明図、 である。 １・・・真空槽 ２・・・被処理材３・・・シ
ールロール ４・・・排気口５・・・蒸発容器
６・・・蒸発物質７・・・ヒータ ８・・
・ストリップ状蒸発物質９・・・コイル １０
ａ 、 １０ｂ・・・ガイドロール１１・・・ビンチロ
ール １２・・・スリットと
、 第２図は第１図■−■矢視図、 第３図は蒸発容器付近の説明図、 である。 １・・・真空槽 ２・・・被処理材３・・・シ
ールロール ４・・・排気口５・・・蒸発容器
６・・・蒸発物質７・・・ヒータ ８・・
・ストリップ状蒸発物質９・・・コイル １０
ａ 、 １０ｂ・・・ガイドロール１１・・・ビンチロ
ール １２・・・スリットと
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、被処理材に真空蒸着を施す真空槽において、その内
部に配置した蒸発容器に、蒸着用の蒸発物質を供給する
に当り、 上記蒸発物質と同一材質からなるストリップ状の蒸発物
質を用意しておき、上記蒸発物質の消耗量に応じて該ス
トリップ状蒸発物質を被処理材蒸着面の裏側に経由させ
て蒸発容器に連続して供給することを特徴とする真空蒸
着装置における蒸発物質供給方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16813086A JPS6326353A (ja) | 1986-07-18 | 1986-07-18 | 真空蒸着装置における蒸発物質供給方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16813086A JPS6326353A (ja) | 1986-07-18 | 1986-07-18 | 真空蒸着装置における蒸発物質供給方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6326353A true JPS6326353A (ja) | 1988-02-03 |
Family
ID=15862393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16813086A Pending JPS6326353A (ja) | 1986-07-18 | 1986-07-18 | 真空蒸着装置における蒸発物質供給方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6326353A (ja) |
-
1986
- 1986-07-18 JP JP16813086A patent/JPS6326353A/ja active Pending
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