JPH09143676A - 連続真空蒸着装置 - Google Patents
連続真空蒸着装置Info
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- JPH09143676A JPH09143676A JP30459395A JP30459395A JPH09143676A JP H09143676 A JPH09143676 A JP H09143676A JP 30459395 A JP30459395 A JP 30459395A JP 30459395 A JP30459395 A JP 30459395A JP H09143676 A JPH09143676 A JP H09143676A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空蒸着前に成膜室の上流側で基板上の汚れ
を除去して高清浄状態にしてから真空蒸着を行う連続真
空蒸着装置を提供することにある。 【解決手段】 真空室内で連続して走行する帯状の基板
に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置であって、真空
蒸着前に基板のイオン洗浄を行うイオン洗浄装置を有
し、該イオン洗浄装置は、洗浄室内に減圧したアルゴン
ガスを流通させるとともに室内に前記基板を上下に挟む
ように放電電極を配設し、該放電電極にプラス電圧を、
基板にマイナス電圧を印加して放電電極と基板との間に
プラズマ放電領域を形成してなるなるものである。
を除去して高清浄状態にしてから真空蒸着を行う連続真
空蒸着装置を提供することにある。 【解決手段】 真空室内で連続して走行する帯状の基板
に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置であって、真空
蒸着前に基板のイオン洗浄を行うイオン洗浄装置を有
し、該イオン洗浄装置は、洗浄室内に減圧したアルゴン
ガスを流通させるとともに室内に前記基板を上下に挟む
ように放電電極を配設し、該放電電極にプラス電圧を、
基板にマイナス電圧を印加して放電電極と基板との間に
プラズマ放電領域を形成してなるなるものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、連続真空蒸着装置
における帯状基板の洗浄装置に係り、特に連続真空蒸着
の前に使用される帯状基板の洗浄装置に関するものであ
る。
における帯状基板の洗浄装置に係り、特に連続真空蒸着
の前に使用される帯状基板の洗浄装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】真空蒸着は、真空中で蒸発材料を加熱し
て蒸発させ、蒸発材料を基板の表面に蒸着させて皮膜を
作る成膜プロセスである。
て蒸発させ、蒸発材料を基板の表面に蒸着させて皮膜を
作る成膜プロセスである。
【０００３】この成膜プロセスに使用される連続真空蒸
着装置１は、図４に示すように、電子ビーム１０を放射
する電子銃９と、溶解した蒸発材料１２を収容するるつ
ぼ１１とを備えた真空の成膜室２の上流側に、複数のロ
ール５を上下に千鳥状に配設して基板３を蛇行するよう
に通過させるとともにそれらのロール５を上下に挟むよ
うに配設したシールブロック７によりロール５と通過す
る基板３との間隙を少なくして成膜室２の真空が安定し
て保てるようにする入側真空シール装置４と、通過する
基板３を加熱して基板３の汚染除去と基板３への蒸着に
適した温度まで昇温を行う予備加熱装置８とを有し、成
膜室２の下流側にも前記入側真空シール装置４と同様の
構成を有して成膜室２の真空が安定して保てるようにし
た出側真空シール装置１３を有している。
着装置１は、図４に示すように、電子ビーム１０を放射
する電子銃９と、溶解した蒸発材料１２を収容するるつ
ぼ１１とを備えた真空の成膜室２の上流側に、複数のロ
ール５を上下に千鳥状に配設して基板３を蛇行するよう
に通過させるとともにそれらのロール５を上下に挟むよ
うに配設したシールブロック７によりロール５と通過す
る基板３との間隙を少なくして成膜室２の真空が安定し
て保てるようにする入側真空シール装置４と、通過する
基板３を加熱して基板３の汚染除去と基板３への蒸着に
適した温度まで昇温を行う予備加熱装置８とを有し、成
膜室２の下流側にも前記入側真空シール装置４と同様の
構成を有して成膜室２の真空が安定して保てるようにし
た出側真空シール装置１３を有している。
【０００４】また、前記入側真空シール装置４の上流側
には洗浄装置２４を有している。この洗浄装置２４内に
は酸やアルカリ等の洗浄液２５が注入されており、基板
３は、この洗浄液２５の中を通過し、汚染除去が行われ
る。洗浄された基板３は、さらに乾燥機２６を通過して
洗浄液２５の乾燥が行われる。
には洗浄装置２４を有している。この洗浄装置２４内に
は酸やアルカリ等の洗浄液２５が注入されており、基板
３は、この洗浄液２５の中を通過し、汚染除去が行われ
る。洗浄された基板３は、さらに乾燥機２６を通過して
洗浄液２５の乾燥が行われる。
【０００５】なお、前記成膜室２，入側真空シール装置
４，予備加熱装置８および出側真空シール装置１３は、
いずれも真空ポンプ６（符号は共通に使用）により排気
され、成膜室２では１０-3〜１０-5Ｔｏｒｒの真空に保
持されている。
４，予備加熱装置８および出側真空シール装置１３は、
いずれも真空ポンプ６（符号は共通に使用）により排気
され、成膜室２では１０-3〜１０-5Ｔｏｒｒの真空に保
持されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た酸やアルカリ等の洗浄液による洗浄だけでは、基板上
の大きな汚れは除去できるが吸着酸素や僅かな汚れを除
去することは困難であり、また、加熱器だけでは汚れが
蒸発しにくいという問題があった。
た酸やアルカリ等の洗浄液による洗浄だけでは、基板上
の大きな汚れは除去できるが吸着酸素や僅かな汚れを除
去することは困難であり、また、加熱器だけでは汚れが
蒸発しにくいという問題があった。
【０００７】すなわち、このような真空蒸着装置で得ら
れた製品について、曲げ試験，引っ掻き試験などを行っ
たところ、基板と蒸発材料の組み合わせによっては蒸着
膜が基板から剥離する傾向があり、十分な接着力が得ら
れていないことが判明した。この原因は、基板の洗浄が
十分でないためと考え、発明者らは２組のテストピース
を作り、一方はイオン洗浄を行い、他方は酸洗浄のみを
行い、それらを成膜室に入れて蒸着させたところ、真空
蒸着において、イオン洗浄の有効性が確認された。
れた製品について、曲げ試験，引っ掻き試験などを行っ
たところ、基板と蒸発材料の組み合わせによっては蒸着
膜が基板から剥離する傾向があり、十分な接着力が得ら
れていないことが判明した。この原因は、基板の洗浄が
十分でないためと考え、発明者らは２組のテストピース
を作り、一方はイオン洗浄を行い、他方は酸洗浄のみを
行い、それらを成膜室に入れて蒸着させたところ、真空
蒸着において、イオン洗浄の有効性が確認された。
【０００８】本発明は、上記のような知見に基づいて創
案されたものである。すなわち、本発明は、真空蒸着前
に成膜室の上流側で基板上の大きな汚れや僅かな汚れを
も除去して高清浄状態にしてから真空蒸着を行う連続真
空蒸着装置を提供することを目的とするものである。
案されたものである。すなわち、本発明は、真空蒸着前
に成膜室の上流側で基板上の大きな汚れや僅かな汚れを
も除去して高清浄状態にしてから真空蒸着を行う連続真
空蒸着装置を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、真空室内で連続して走行する帯状
の基板に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置であっ
て、真空蒸着前に基板のイオン洗浄を行うイオン洗浄装
置を有し、該洗浄装置は、洗浄室内に減圧したアルゴン
ガスを流通させるともに室内に前記基板を上下に挟むよ
うに放電電極を配設し、該放電電極にプラス電圧を、基
板にマイナス電圧を印加して放電電極と基板との間にプ
ラズマ放電領域を形成してなることを特徴とする連続真
空蒸着装置が提供される。
め、本発明によれば、真空室内で連続して走行する帯状
の基板に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置であっ
て、真空蒸着前に基板のイオン洗浄を行うイオン洗浄装
置を有し、該洗浄装置は、洗浄室内に減圧したアルゴン
ガスを流通させるともに室内に前記基板を上下に挟むよ
うに放電電極を配設し、該放電電極にプラス電圧を、基
板にマイナス電圧を印加して放電電極と基板との間にプ
ラズマ放電領域を形成してなることを特徴とする連続真
空蒸着装置が提供される。
【００１０】本発明の好ましい実施の形態によれば、前
記イオン洗浄装置は、基板の走行方向に並んだ少なくと
も２以上の洗浄室を有し、上流側の洗浄室内には減圧し
たアルゴンガスを流通させ、下流側の洗浄室内には減圧
した水素ガスを流通させるようにすることが好ましい。
記イオン洗浄装置は、基板の走行方向に並んだ少なくと
も２以上の洗浄室を有し、上流側の洗浄室内には減圧し
たアルゴンガスを流通させ、下流側の洗浄室内には減圧
した水素ガスを流通させるようにすることが好ましい。
【００１１】また、前記イオン洗浄装置の上流側または
下流側の少なくとも一方に、基板の予備加熱装置を設け
ることが好ましい。
下流側の少なくとも一方に、基板の予備加熱装置を設け
ることが好ましい。
【００１２】さらに、前記洗浄室は、その内側に絶縁材
を介して金属製の多孔板よりなる電界シールドを設ける
ことが好ましい。
を介して金属製の多孔板よりなる電界シールドを設ける
ことが好ましい。
【００１３】上記本発明の構成によれば、真空蒸着前
に、基板のイオン洗浄を行うイオン洗浄装置を設けたの
で基板上に付着している汚れを完全に除去することがで
き、基板と蒸着膜の強い接着力が得られる。
に、基板のイオン洗浄を行うイオン洗浄装置を設けたの
で基板上に付着している汚れを完全に除去することがで
き、基板と蒸着膜の強い接着力が得られる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を図面に基づいて説明する。なお、各図において従来
のものと共通する部分については同じ符号を用いて説明
する。図１および図２は、本発明の一実施形態を示すも
のであり、図１は本発明による連続真空蒸着装置の全体
構成図、図２は図１に示すイオン洗浄装置の拡大図であ
る。
態を図面に基づいて説明する。なお、各図において従来
のものと共通する部分については同じ符号を用いて説明
する。図１および図２は、本発明の一実施形態を示すも
のであり、図１は本発明による連続真空蒸着装置の全体
構成図、図２は図１に示すイオン洗浄装置の拡大図であ
る。
【００１５】図１および図２において、１は真空室内で
連続して走行する帯状の基板３に蒸発材料１２を蒸着す
る連続真空蒸着装置である。２はポンプ６により室内を
真空に保持している成膜室で、電子ビーム１０を放射す
る電子銃９と、溶解した蒸発材料１２を収容するるつぼ
１１とを備えている。４はポンプ６により真空を保持し
ている入側真空シール装置で、複数のロール５を上下に
千鳥状に配設して基板３を狭い隙間を通って蛇行するよ
うに通過させるとともにそれらのロール５を上下に挟む
ように配設したシールブロック７によりロール５と通過
する基板３との間隙を少なくし、かつ、複数の真空ポン
プ６で引いて徐々に真空度を高める差動真空システムと
なっている。８は予備加熱装置で、通過する基板３を加
熱して基板３の表面の汚染除去と基板３を蒸着に適した
温度まで昇温させる。この例では電子銃により加熱して
いる。１３は出側真空シール装置で、成膜室２の下流側
に設けられ前記入側真空シール装置４と同様の構成を有
して成膜室２の真空が安定して保てるようになつてい
る。
連続して走行する帯状の基板３に蒸発材料１２を蒸着す
る連続真空蒸着装置である。２はポンプ６により室内を
真空に保持している成膜室で、電子ビーム１０を放射す
る電子銃９と、溶解した蒸発材料１２を収容するるつぼ
１１とを備えている。４はポンプ６により真空を保持し
ている入側真空シール装置で、複数のロール５を上下に
千鳥状に配設して基板３を狭い隙間を通って蛇行するよ
うに通過させるとともにそれらのロール５を上下に挟む
ように配設したシールブロック７によりロール５と通過
する基板３との間隙を少なくし、かつ、複数の真空ポン
プ６で引いて徐々に真空度を高める差動真空システムと
なっている。８は予備加熱装置で、通過する基板３を加
熱して基板３の表面の汚染除去と基板３を蒸着に適した
温度まで昇温させる。この例では電子銃により加熱して
いる。１３は出側真空シール装置で、成膜室２の下流側
に設けられ前記入側真空シール装置４と同様の構成を有
して成膜室２の真空が安定して保てるようになつてい
る。
【００１６】１６は真空蒸着前に基板３のイオン洗浄を
行うイオン洗浄装置で、基板３の走行方向に並んで２つ
の洗浄室１７および洗浄室１７ａを有している。この洗
浄室１７，１７ａの内側には絶縁材２３（図２）を介し
て例えばパンチングプレートなど金属製の多孔板よりな
る電界シールド２１が配設がされている。また、洗浄室
１７および洗浄室１７ａ内には通過する基板３を上下に
挟むように放電電極１９が配設されており、放電電源１
８から約５００Ｖ〜数ＫＶのプラス電圧が印加される。
２２は洗浄室１７内に１０-2〜数Ｔｏｏｒに減圧したア
ルゴンガスを流通させるアルゴンガス供給管２２であ
り、２２ａは洗浄室１７ａ内に１０-2〜数Ｔｏｏｒに減
圧した水素ガスを流通させる水素ガス供給管である。２
０は放電電極１９に印加されたプラス電圧と基板３に印
加されたマイナス電圧（実際は基板３は接地されてい
る。）とにより放電電極１９と基板３との間にプラズマ
放電させたプラズマ放電領域である。１４は基板３が多
重に巻かれたアンコイラーであり、１５はリコイラーで
ある。なお、アンコイラー１４には、すでに酸洗浄が完
了した鋼板を用いるのがよい。
行うイオン洗浄装置で、基板３の走行方向に並んで２つ
の洗浄室１７および洗浄室１７ａを有している。この洗
浄室１７，１７ａの内側には絶縁材２３（図２）を介し
て例えばパンチングプレートなど金属製の多孔板よりな
る電界シールド２１が配設がされている。また、洗浄室
１７および洗浄室１７ａ内には通過する基板３を上下に
挟むように放電電極１９が配設されており、放電電源１
８から約５００Ｖ〜数ＫＶのプラス電圧が印加される。
２２は洗浄室１７内に１０-2〜数Ｔｏｏｒに減圧したア
ルゴンガスを流通させるアルゴンガス供給管２２であ
り、２２ａは洗浄室１７ａ内に１０-2〜数Ｔｏｏｒに減
圧した水素ガスを流通させる水素ガス供給管である。２
０は放電電極１９に印加されたプラス電圧と基板３に印
加されたマイナス電圧（実際は基板３は接地されてい
る。）とにより放電電極１９と基板３との間にプラズマ
放電させたプラズマ放電領域である。１４は基板３が多
重に巻かれたアンコイラーであり、１５はリコイラーで
ある。なお、アンコイラー１４には、すでに酸洗浄が完
了した鋼板を用いるのがよい。
【００１７】次に実施の形態に基づく作用について説明
する。真空蒸着される基板３は、入側真空シール装置４
を通過した後、まずイオン洗浄装置１６のアルゴンガス
の流通している洗浄室１７に入り、洗浄室１７内の放電
電極１９に印加されたプラス電圧と基板３に印加された
マイナス電圧（接地電圧）とにより放電電極１９と基板
３との間にプラズマ放電を発生させ、プラズマ放電によ
り発生したイオンを基板３に衝突させて基板上の大きな
汚れをたたき出す。汚れはアルゴンガスとともに真空ポ
ンプ６に引かれて排出される。引き続き基板３は、水素
ガスの流通している洗浄室１７ａに入り、洗浄室１７と
同様、洗浄室１７ａ内の放電電極１９に印加されたプラ
ス電圧と基板３に印加されたマイナス電圧とにより放電
電極１９と基板３との間に発生したプラズマ放電により
吸着酸素は水素イオンと結合し、水となって除去され
る。イオン洗浄装置１６を通過した基板３は、引き続
き、予備加熱装置８に入り加熱されて水分などの表面の
汚染をさらに除去される。
する。真空蒸着される基板３は、入側真空シール装置４
を通過した後、まずイオン洗浄装置１６のアルゴンガス
の流通している洗浄室１７に入り、洗浄室１７内の放電
電極１９に印加されたプラス電圧と基板３に印加された
マイナス電圧（接地電圧）とにより放電電極１９と基板
３との間にプラズマ放電を発生させ、プラズマ放電によ
り発生したイオンを基板３に衝突させて基板上の大きな
汚れをたたき出す。汚れはアルゴンガスとともに真空ポ
ンプ６に引かれて排出される。引き続き基板３は、水素
ガスの流通している洗浄室１７ａに入り、洗浄室１７と
同様、洗浄室１７ａ内の放電電極１９に印加されたプラ
ス電圧と基板３に印加されたマイナス電圧とにより放電
電極１９と基板３との間に発生したプラズマ放電により
吸着酸素は水素イオンと結合し、水となって除去され
る。イオン洗浄装置１６を通過した基板３は、引き続
き、予備加熱装置８に入り加熱されて水分などの表面の
汚染をさらに除去される。
【００１８】このように基板３は、イオン洗浄装置１６
および予備加熱装置８において汚染除去されて成膜室２
に入り、成膜室２内で蒸発材料１２が蒸着されて通過す
る。さらに出側真空シール装置１３を通過する。
および予備加熱装置８において汚染除去されて成膜室２
に入り、成膜室２内で蒸発材料１２が蒸着されて通過す
る。さらに出側真空シール装置１３を通過する。
【００１９】次に本発明の他の実施の形態について説明
する。図３は本願の他の実施の形態を示す図であり、連
続真空蒸着装置の全体構成図である。前記図１および図
２に示す実施の形態は、イオン洗浄装置１６を入側真空
シール装置４と加熱装置８との間に設けているのに対
し、本実施の形態では、イオン洗浄装置１６を加熱装置
８と成膜室２との間に設けている点で相違し、そうする
ことでイオン洗浄前に水などの蒸発し易い汚れを除去す
る。この点以外は、第１発明と実質的に同じであり、そ
の構成および作用の説明を省略する。
する。図３は本願の他の実施の形態を示す図であり、連
続真空蒸着装置の全体構成図である。前記図１および図
２に示す実施の形態は、イオン洗浄装置１６を入側真空
シール装置４と加熱装置８との間に設けているのに対
し、本実施の形態では、イオン洗浄装置１６を加熱装置
８と成膜室２との間に設けている点で相違し、そうする
ことでイオン洗浄前に水などの蒸発し易い汚れを除去す
る。この点以外は、第１発明と実質的に同じであり、そ
の構成および作用の説明を省略する。
【００２０】なお、上記実施の形態において、イオン洗
浄装置１６は、２つの洗浄室１７，１７ａを有してい
て、洗浄室１７にはアルゴンガスを、洗浄室１７ａには
水素ガスを流通するようにしているが、アルゴンガス洗
浄室を１つだけ設けてもよい。また、アルゴンガス洗浄
室１７を２つ並べて設け、次に水素ガス洗浄室１７ａを
１つ設けるなど複数の洗浄室を組み合わせて設けて洗浄
するようにすると、洗浄効果をさらに高めることができ
る。
浄装置１６は、２つの洗浄室１７，１７ａを有してい
て、洗浄室１７にはアルゴンガスを、洗浄室１７ａには
水素ガスを流通するようにしているが、アルゴンガス洗
浄室を１つだけ設けてもよい。また、アルゴンガス洗浄
室１７を２つ並べて設け、次に水素ガス洗浄室１７ａを
１つ設けるなど複数の洗浄室を組み合わせて設けて洗浄
するようにすると、洗浄効果をさらに高めることができ
る。
【００２１】本発明は、上記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更
し得ることは勿論である。
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更
し得ることは勿論である。
【００２２】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、成
膜室上流側の入側真空シール装置と加熱装置との間また
は加熱装置と成膜室との間に、アルゴンガスを流通させ
る洗浄室と、水素ガスを流通させる洗浄室とを有するイ
オン洗浄装置を設け、各洗浄室で放電電極と基板との間
にプラズマ放電領域を形成して基板の表面に付着してい
る汚れを除去するので、基板に蒸発材料を確実に蒸着す
ることができるなど優れた効果を奏する。
膜室上流側の入側真空シール装置と加熱装置との間また
は加熱装置と成膜室との間に、アルゴンガスを流通させ
る洗浄室と、水素ガスを流通させる洗浄室とを有するイ
オン洗浄装置を設け、各洗浄室で放電電極と基板との間
にプラズマ放電領域を形成して基板の表面に付着してい
る汚れを除去するので、基板に蒸発材料を確実に蒸着す
ることができるなど優れた効果を奏する。
【図１】本発明の連続真空蒸着装置の一実施の形態を示
した全体構成図である。
した全体構成図である。
【図２】図１のイオン洗浄装置の拡大図である。
【図３】本願第２発明の実施の形態を示した全体構成図
である。
である。
【図４】従来の連続真空蒸着装置を示した全体構成図で
ある。
ある。
１ 連続真空蒸着装置 ２ 成膜室 ３ 基板 ４ 入側真空装置 ５ ロール ６ ポンプ ７ シールブロック ８ 予備加熱装置 ９ 電子銃 １０ 電子ビーム １１ るつぼ １２ 蒸発材料 １３ 入側真空装置 １４ アンコイラー １５ リコイラー １６ イオン洗浄装置 １８ 放電電源 １９ 放電電極 ２０ プラズマ放電領域 ２１ 電界シールド ２２ アルゴンガス供給管 ２２ａ 水素ガス供給管 ２３ 絶縁材 ２４ 洗浄装置 ２５ 洗浄液 ２６ 乾燥装置
Claims (4)
- 【請求項１】 真空室内で連続して走行する帯状の基板
に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置であって、真空
蒸着前に基板のイオン洗浄を行うイオン洗浄装置を有
し、該洗浄装置は、洗浄室内に減圧したアルゴンガスを
流通させるともに室内に前記基板を上下に挟むように放
電電極を配設し、該放電電極にプラス電圧を、基板にマ
イナス電圧を印加して放電電極と基板との間にプラズマ
放電領域を形成してなることを特徴とする連続真空蒸着
装置。 - 【請求項２】 前記イオン洗浄装置は、基板の走行方向
に並んだ少なくとも２以上の洗浄室を有し、上流側の洗
浄室内には減圧したアルゴンガスを流通させ、下流側の
洗浄室内には減圧した水素ガスを流通させるようにした
請求項１記載の連続真空蒸着装置。 - 【請求項３】 前記イオン洗浄装置の上流側または下流
側の少なくとも一方に、基板の予備加熱装置を設けた請
求項１または請求項２記載の連続真空蒸着装置。 - 【請求項４】 前記洗浄室は、その内側に絶縁材を介し
て金属製の多孔板よりなる電界シールドを設けた請求項
１ないし請求項３記載の連続真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30459395A JPH09143676A (ja) | 1995-11-22 | 1995-11-22 | 連続真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30459395A JPH09143676A (ja) | 1995-11-22 | 1995-11-22 | 連続真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09143676A true JPH09143676A (ja) | 1997-06-03 |
Family
ID=17934875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30459395A Pending JPH09143676A (ja) | 1995-11-22 | 1995-11-22 | 連続真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09143676A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007083608A1 (ja) * | 2006-01-19 | 2007-07-26 | Japan Science And Technology Agency | スパッタ装置及びスパッタ方法 |
| JP2007191757A (ja) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Raiku:Kk | インラインスパッタ装置 |
| JP2015129329A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | 東レエンジニアリング株式会社 | 差動排気システム |
| JP2018525528A (ja) * | 2015-08-18 | 2018-09-06 | タタ、スティール、ネダーランド、テクノロジー、ベスローテン、フェンノートシャップＴａｔａ Ｓｔｅｅｌ Ｎｅｄｅｒｌａｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｂｖ | 金属ストリップの洗浄及びコーティングのための方法及び装置 |
-
1995
- 1995-11-22 JP JP30459395A patent/JPH09143676A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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