JPS63262493A - 金属の電解製造方法 - Google Patents

金属の電解製造方法

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JPS63262493A
JPS63262493A JP63077965A JP7796588A JPS63262493A JP S63262493 A JPS63262493 A JP S63262493A JP 63077965 A JP63077965 A JP 63077965A JP 7796588 A JP7796588 A JP 7796588A JP S63262493 A JPS63262493 A JP S63262493A
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cathode
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JP63077965A
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アントニー・ホンデルス
アルフレツト・ヨハンネス・ホルステイク
ヘルブラント・ヨゼフ・マリア・フアン・エイデン
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Shell Internationale Research Maatschappij BV
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25CPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C3/00Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25CPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C3/00Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C25CPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
    • C25C3/00Electrolytic production, recovery or refining of metals by electrolysis of melts
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、アノードと液体金属カソードと電解液とから
なるセルにて金属ハロゲン化物を電気分解して金属もし
くは合金を製造する一方法に関する。
溶融塩の存在下で電気分解して金属を採取する研究が盛
んに行なわれている。例えば米国特許第2757135
号を参照されたい。この方法の場合、金属ハロゲン化物
(四塩化チタン)を塩溶融物中に導入して電解セルに供
給される。この方法では、低原子価のチタンがアノード
中へ流入するのを防止すべくダイヤフラムを使用しなけ
ればならない。
ダイヤフラムを使用しないと、チタンがアノードにて四
価のチタンまで再酸化されるため電流および原料が損失
する。この方法の別の重大な欠点として、ダイヤフラム
にチタンが蓄積してその寿命が短縮することも挙げられ
る。
本発明はアノードと1種もしくはそれ以上の金fiMを
含む液体金属カソードと1種もしくはそれ以上のアルカ
リ金属もしくはアルカリ土類金−ハロゲン化物の塩溶融
物(sa11 me11 )を含む電解液とからなるセ
ルにて電気分解することにより金属Meもしくは金属M
Oを含有する合金を金属ハロゲン化物MeXn(ここで
Meは周期表2b族、3b族(ランタン系列およびアク
ヂウム系列を含む)、7b族および8族から選択される
金属並3iを示し、     −−xはハロゲンを示し
、かつnは金属Meの原子価を示す)から製造する方法
に関し、その特徴は、前記金属ハロゲン化物MeXnを
液体金属カソード中へ導入し、MeもしくはMeを含有
する合金を金属カソード材料から単離することにある。
以下、添付図面を参照して本発明を実施例に塁いて更に
説明する。
第1図において、セル1は断熱材のジャケット2 (た
とえば耐火性レンガ)の内部に配置されている。カソー
ド3は液体亜鉛からなり、ここに絶縁パイプ4と供給ロ
ッド4aを介して電流が供給される。四塩化錫はパイプ
5と分配器6 (たとえば所定間隔で出口を備えた金属
グリッドまたは多孔質セラミック体)を介して供給され
る。アノード7は、カソードと電解液8との間の界面近
くの電解液中に配置されている。アノードの水平表面積
は最大限となるように選択される。加圧下で操作を行な
う場合には、電解液8 (たとえば塩化リチウム/塩化
カリウム溶融物)をたとえば350〜900℃もしくは
それ以上の高温度まで加熱する。
蓋体9を負通して、不活性ガス(たとえばアルゴン)用
の供給パイプ10とアノードにて発生する塩素ガス用の
排出パイプ11とが設けられている。金属の全部または
実質的に全部がカソードで還元されて亜鉛/錫合金が形
成されるように、電流と四塩化錫の供給とを相互に調整
する。こうすれば、7ノードをダイヤフラムで遮蔽しな
くても良い。
例えば四塩化錫1モル当り少なくとも4フアラデーの電
流を使用する。カソードへ導入する前に四塩化錫を気化
させる必要はない。何故なら四塩化錫の温度が塩溶融物
を通過中にその沸点(114℃)″以上まで上昇するか
らである。所望ならばセルに工程の温度を制御するため
の手段をさらに設けることもできる。また、電解液8よ
り上方の空間を冷却したり、或いは気化した亜鉛の塩溶
融物を内部もしくは外部凝縮してフィードバックさせる
こともできる。カソード液は、特に連続方式の場合には
ライン12および13を介して供給および排出される。
Zn/Sn合金中の錫含有量を所定値まで増大させるこ
とができる。合金からの金属の回収は、常法により、た
とえばカソード金属または金属Meを留去して行なうこ
とができる。
第2図には、垂直に配置したアノードを備えたセルを示
す。同一部材については同一参照符号を用いた。塩溶融
物中にトレー14を設置し、ここに液体亜鉛を存在させ
る。四塩化錫は貫通孔を介して供給パイプ5の下部に流
入する。アノード7はカソードを完全に包囲する閉鎖型
シリンダとして構成されている。
以上好適具体例を参照して本発明の方法、すなわち液体
亜鉛カソードを用いる四塩化錫からの錫の製造につぎ説
明してきたが、本発明はこれだけに限定されない。同様
な処理を異なるカソード材料、すなわちカドミウム、ア
ルミニウム、錫、鉛。
インジウム、ビスマスおよびガリウムを用いて行なうこ
ともできる。特に亜鉛、錫および鉛が好適である。同様
に他の供給原料、たとえばZn。
Cd、HQ、sc、Y、La、 ランタン系列(特にN
dおよびEu)、アクチニウム系列(特にU)、1yl
n、Tc、Re、Fe、Ru、Os。
Go、Rh、Ir、N i、I’d、Pt、Cr。
Cu、Au、Ga、Sn、PbおよびBiのハロゲン化
物を処理することもできる。処理すべき好適な金属ハロ
ゲン化物は、Zn、La、Nd。
である。
直接的な電解転換によりどの程度まで金属Meの生成が
進行するかは未知である。高温度で液体金属カソード中
へ金属ハロゲン化物を導入すると、金属1yieがより
低原子価に化学的還元され、次いで低原子価の金属が金
属状態(0価)の金属まで電解還元され、それに伴なっ
てカソード材料が電解再生される。このような高原子価
の金属Meから0価の金属への化学的還元および電解還
元は、発明の範囲内において種々包含される。本発明に
おいて必須なことは、液体金属もしくは合金カソードを
備えた電解セルを使用し、金属ハロゲン化物Me’Xo
を直接に液体カソード中へ導入し、かつカソード材料中
で0価の金BMeを製造することである。本発明の方法
は、他の場所(すなわら溶融塩電解液)にて金属Meを
製造する方法とも、或いは第2もしくは補助的カソード
に沈着させる金aMeの製造方法とも異なっている。第
1図および第2図から明らかなように、カソードは双極
構造でなく、慣用の単極カソードである。ダイヤフラム
を存在させないことも重翠である。
埠溶融物から不純物を除去しても良いが、これは厳密に
は必要でない。さらにたとえばアルゴンもしくは窒素の
ような不活性雰囲気下で操作するのも有利である。適当
な塩溶融物の例はL i (d /NaCj! 、Na
Cj)/KCj 1しi C1/ K Cj SL I
 Cj / Ca CJ! 2、NaCJ /F3aC
j 2およびKCj/CaCfJ2であるが、既に上記
した通り本発明は上記溶融物だけに限定されない。
原理的には、処理温度はカソード材料の融点より高くか
つこのカソード材料が望ましくない多量の損失が生ずる
ような蒸気圧を示す温度よりも低い温度が適当である。
好適温度は350〜900℃の範囲、亜鉛の場合には4
25〜890℃、カドミウムの場合には350〜750
℃の範囲である。同様に処理温度は、蒸発らしくは分解
による溶融塩電解液もしくは金属Meの損失が顕著とな
らないような温度にすべきである。
電流および金属ハロゲン化物原料の供給は、カソードに
おいて金属Meが完全に還元されうるように調節される
。好ましくは、少なくともn−1”1モル−金属ハロゲ
ン化物MeXn(ここでnは金属Meの原子値・である
)が供給される。しかしながら電流は、カソードに塩溶
融金属が好ましくはできるだけ沈着されない範囲で、所
定の最大値に制限される。好ましくは、供給原料はカソ
ード中へ均質に分配されるように導入すべきである。
これを行なうための最も簡単な方法として、カソード材
料中へ導入する時点でガス状の供給原料を使用する。し
かしながら、微分散された固体もしくは液体状の化合物
をカソード中へ導入することも本発明の範囲内に包含さ
れる。これにより、最終的に塩溶融物の任意の原子価を
有する(inanyvalency ending u
p in the 5a11 me11)金属Meを全
くまたは殆んど生ぜしめない。したがって、望ましくな
い電流損失、供給原料損失および電圧低下が生じないよ
うアノードを遮蔽するためのダイヤフラムを用いる必要
がないことも技術的かつ経済的に大きな利点である。ダ
イヤフラムを備えないセルが好適である。
金属MeもしくはMeを含有する合金を単離するには、
金属カソード材料を電解セルから仮数る。
使用した金属ハロゲン化物MeXnおよびカソード金R
Mに応じて液体合金がしばしば得られ、時には液体金属
カソード中の固体金属間粒子が得られ、時には2相液体
もしくは液/固体系が得られ、或いは上記の可能性を含
む混合物からなる錯体系も形成される。
以下、多くの実施例により本発明を説明する。
実施例工。
a、  1.5Kyの共融L i Cjl /KOJI
混合物(59:41モル)にHCj!ガスをその融点よ
り高い温度で8時間通過させて該混合物をII製した。
HCjは下記の平衡式(a)および(b)を左側に移動
させて、無水の殆んど酸素を含有しない溶融物が得られ
る: (a)     Cj  −+H2o −+ )lcn
  −+−0H−一 (b)2CN −+H20→2HCJl−1−0次いで
、残留する酸素化合物および金属不純物を、2.7■の
セル電圧にて減圧ドで電気分解して除去する。
外部加熱されたステンレス鋼の電解セルを用いた。溶融
亜鉛カソード(909)をセルの底部におけるAg2O
3のホルダー内に設置した。黒鉛棒をアノードとして使
用し、ダイヤフラムを用いず、かつ250gの塩溶融物
を電解液として用いた。セル電圧を5.0■とし、カソ
ード電位を−2,0■(Aa/AaCj参照電極に対し
て)とし、その他の条件については下記表に示す。5n
Ct)4を液体としてアルゴン流に注入し、カソードに
供給した。塩溶融物の上方をアルゴン雰囲気に維持した
。何れの場合も6F1モルー8nCR4の電流を使用し
た。
冷却したカソード生成物および電解液のミクO分析およ
び化学分析により次の結果を得た。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は、液体亜鉛カソードで金属錫を製
造すべく四塩化錫を電気分解するための電解セルの概略
図である。 1・・・・・・セル、3・・・・・・カソード、6・・
・・・・分配器、7・・・・・・7ノード。

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アノードと1種もしくはそれ以上の金属Mを含む
    液体金属カソードと1種もしくはそれ以上のアルカリ金
    属もしくはアルカリ土類金属ハロゲン化物の塩溶融物を
    含む電解液とからなるセルにて電気分解することにより
    金属Meもしくは金属Meを含有する合金を金属ハロゲ
    ン化物MeX_n(ここでMeは周期表の2b族、ラン
    タン系列およびアクチニウム系列を含めた3b族、7b
    族および8族並びにCr、Cu、Au、Ga、Pb、S
    nおよびBiから選択された金属を示し、Xはハロゲン
    を示し、かつnは金属Meの原子価を示す)から製造す
    る方法であって、前記金属ハロゲン化物MeX_nを液
    体金属カソード中へ導入し、MeもしくはMeを含有す
    る合金を金属カソード材料から単離することを特徴とす
    る方法。
  2. (2)Meが周期表2b族の金属である請求項1記載の
    方法。
  3. (3)Meが周期表のランタン系列およびアクチニウム
    系列を含めた3b族の金属である請求項1記載の方法。
  4. (4)Meが周期表7b族の金属である請求項1記載の
    方法。
  5. (5)Meが周期表8族の金属である請求項1記載の方
    法。
  6. (6)MeをCr、Cu、Au、Ga、PbおよびBi
    から選択する請求項1記載の方法。
  7. (7)Xが塩素を示す請求項1〜6のいずれか一項に記
    載の方法。
  8. (8)MをZn、Cd、Al、Sn、Pb、In、Bi
    もしくはGa、このましくはZn、SnもしくはPbか
    ら選択する請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
  9. (9)金属ハロゲン化物MeX_nをガス状で液体カソ
    ード材料に分配する請求項1〜8のいずれか一項に記載
    の方法。
  10. (10)ダイヤフラムを備えない電解セルで行なう請求
    項1〜9のいずれか一項に記載の方法。
  11. (11)特に実施例を参照して実質的に明細書中に記載
    した請求項1記載の方法。
JP63077965A 1987-04-01 1988-03-30 金属の電解製造方法 Pending JPS63262493A (ja)

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GB8707782 1987-04-01
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DE (1) DE3868663D1 (ja)
DK (1) DK174488A (ja)
ES (1) ES2032531T3 (ja)
FI (1) FI881523A (ja)
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