JPH0517317B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

（技術分野） 本発明は、ランタン−ニツケル合金の製造方法
に係り、特に水素吸蔵ランタン−ニツケル合金用
の母合金に適した、ランタンの含有量が高く、不
純物や介在物の含有量の低いランタン−ニツケル
合金を連続的に製造する方法に関するものであ
る。 （発明の背景） ランタン−ニツケル水素吸蔵合金は、その水素
吸蔵特性が優れ、熱エネルギー貯蔵、水素貯蔵用
等に用いられ、さらに水素化触媒、電極用等に、
今後、需要の増大が期待される合金である。 ところで、希土類金属と高融点金属との合金の
製造方法としては、一般的に、次の４つの方法が
知られている。 まず、第一は、希土類金属を溶融塩電解法ある
いは活性金属による還元法等により製造し（希土
類金属あるいはそれらの合金として取り出す）、
他金属と混合溶解し、合金化する方法である。し
かして、この方法のうち、電解により希土類金属
あるいはそれらの合金を形成せしめる工程を経由
する方法にあつては、その電解原料として塩化物
を用いる場合、原料の取扱いが難しく、また操業
がバツチ式であるところに問題がある。また、フ
ツ化物電解浴を用いて希土類金属の酸化物を電解
する場合には、かかる酸化物原料の電解浴への溶
解度が小さく、そのために連続操業が難しく、電
解槽底部にスラツジが形成される問題が内在して
いる。特に、大量生産、連続操業を達成するに
は、生成メタルは液体状態であることが好ましい
が、高融点希土類金属の場合においては、そのた
めに電解温度を高くする必要があり、炉材等の不
純物が生成メタル中に混入し易く、現実的ではな
いのである。 一方、活性金属を用いて希土類金属原料を還元
する工程を含む上記方法にあつては、操業がバツ
チ式であり、連続的な大規模生産には適していな
い問題がある他、高価な還元剤の使用、還元装置
に高価な材料が必要であり、また、残留還元剤成
分の除去工程が必要な場合がある等の問題を内在
している。 また、第二は、希土類金属の化合物と合金化す
べき金属の化合物を混合し、適当な化合物（例え
ばSm−Co合金製造の場合では、水素化カルシウ
ム）で還元する方法であるが、この方法では、高
価な還元剤を用いること、操業がバツチ式であつ
て、連続的な大規模生産には適していないこと等
の問題がある。 さらに、第三に、溶融塩電解法で希土類金属の
化合物と合金化すべき金属の化合物を電解浴中に
溶融せしめ、両化合物を電解還元して、陰極上に
合金として析出させる方法（例えば、米国特許第
3298935号）があるが、この方法にも、次のよう
な問題が内在しているのである。すなわち、陰極
上に析出する合金の組成を、電解工程中長期間に
わたつて安定化させることが難しく、また酸化物
を原料とする場合には、電解浴への原料の溶解度
が小さいために、連続操業が難しい等の問題が内
在しているのである。 そしてまた、第四の方法は、所謂消耗電極法と
称されるものであつて、合金化すべき金属を固体
の陰極とする一方、希土類金属の化合物を適当な
溶融塩の電解浴中に溶解させて電解還元せしめ、
目的とする希土類金属を陰極上に析出させ、陰極
金属と合金化させる方法〔「U.S.ビユーロー・オ
ブ・マインズ、レポート・オブ・インベステイゲ
ーシヨンズ、No.7146（1968）、特許第837401号、特
許第967389号〕である。 しかしながら、この方法にあつても、次のよう
な欠点が内在している。すなわち、電解還元され
るべき希土類金属の化合物として酸化物原料が用
いられた場合にあつては、先に述べた如く、電解
浴中への酸化物の溶解度が低いことやスラツジが
生成する等の問題があり、そしてこの問題の回避
のためには、高温操業が必要となるのである。し
かして、この高温操業を行なうと、炉材等からの
不純物の混入が多くなつて、生成合金の品質を低
下せしめる、新たな問題を惹起することとなる。
しかも、この消耗電極法では、生成合金の回収
は、バツチ式等で行なわれ、連続化されておら
ず、大量生産には不適当である問題も内在してい
る。 かかる状況下、ランタン−ニツケル合金は、こ
れまで殆ど用途がなく、その製造方法としては、
上述の第一の方法が考えられるが、それを連続的
に製造する工業的な方法は充分に確立されていな
い。したがつて、前述した如き水素吸蔵合金用な
どの原料に適したランタン−ニツケル母合金の工
業的製造方法にあつても、充分に確立されていな
いのである。 （発明の概要） ここにおいて、本発明は、かかる事情を背景に
して為されたものであつて、その目的とするとこ
ろは、ランタン−ニツケル合金を、大規模に且つ
連続的に製造し得る方法を提供することにあり、
また他の目的とするところは、ランタンの含有量
が高く、不純物や介在物等の含有量の低いランタ
ン−ニツケル合金の、信頼性のある経済的な工業
的製造方法を提供することにある。 すなわち、本発明は、かかる目的を達成するた
めに、ニツケル陰極及び炭素陽極を用いて、ラン
タン化合物を溶融塩電解浴中において電解還元せ
しめ、生成するランタンを前記ニツケル陰極上に
析出させると共に、該陰極を構成するニツケルと
合金化せしめてランタン−ニツケル合金を形成さ
せるに際して、前記ランタン化合物としてフツ化
ランタンを用い、電解還元操作の進行に応じて前
記溶融塩電解浴中に供給するようにすると共に、
かかるフツ化ランタンを含む溶融塩電解浴が、実
質的に、35〜80重量％のフツ化ランタン、20〜60
重量％のフツ化リチウム、０〜40重量％のフツ化
バリウム及び０〜20重量％のフツ化カルシウムに
て構成されるように調整し、更に該溶融塩電解浴
を800〜970℃の温度に保持し、且つ陽極電流密
度：0.05〜1.0A／cm²、陰極電流密度：0.50〜
55A／cm²の条件下において、前記電解還元操作を
進行せしめることにより、前記ランタン−ニツケ
ル合金を前記ニツケル陰極上に液体状態で生成せ
しめ、そして該液体状態のランタン−ニツケル合
金を、液滴として該ニツケル陰極下方の電解浴中
に開口部を有する受器内に滴下せしめて、液層と
して溜め、更にこの受器内の液層より、ランタン
−ニツケル合金を液体状態で取り出すようにした
のである。 かくの如く、本発明に従えば、ランタン−ニツ
ケル合金が電解還元操作の一段階で製造でき、そ
して材料特性に悪影響を与える不純物や介在物等
の含有量が低く、且つランタン含有量の高いラン
タン−ニツケル合金が一段階で経済的に且つ大規
模、連続的に製造することができることとなつた
のである。より具体的には、固体の陰極を使用す
るため、陰極の取扱が容易であることは勿論、生
成合金を電解時の液体合金のままで取り出すため
に、実質上、電解を中断することなく、連続操業
が可能であり、そして、消耗陰極法の利点である
低温操業が連続的に行ない得る結果、電解成績並
びに生成合金品位が効果的に改善されるのであ
る。 また、かかる本発明に従えば、前述したカルシ
ウム等の活性金属による還元法では困難な、操業
の大型化、連続化が達成され、更に酸化ランタン
を原料とするフツ化物−酸化物混合溶融塩の電解
による製造方法における連続操業上の困難を悉く
回避することができることとなつたのである。 さらに、本発明に従えば、酸化ランタンを原料
とする電解より、低い温度での操業が可能であ
り、これによつて炉材等からの生成合金への不純
物、介在物の混入を効果的に抑制することがで
き、また同一温度でアノード電流密度を大きくと
ることができるところから、同一寸法のアノード
を用いた場合に、前記酸化物を原料する電解法に
比して、電流を増すことができ、生産性を向上せ
しめることができる利点がある。 なお、前記電解還元操作の実施される前記フツ
化物原料を含む溶融塩電解浴は、それが実質的に
フツ化ランタンとフツ化リチウムの二元系にて構
成される場合にあつては、該フツ化ランタンが少
なくとも40重量％、且つ該フツ化チリウムが少な
くとも20重量％以上、の割合で電解浴中に存在す
るように調整せしめられることが望ましいのであ
る。 また、かかる本発明を実施するに際しては、(a)
実質的に、フツ化ランタン及びフツ化リチウム、
並びに必要に応じて添加されたフツ化バリウム、
フツ化カルシウムからなる溶融塩電解浴を収容す
る、耐火性材料から構成された電解槽と、(b)該電
解槽の内面の接浴部に施されたライニングと、(c)
該電解槽の溶融塩電解浴中に挿入、浸漬される、
実質的に長さ方向に形状の変化のない長手の炭素
陽極と、(d)該電解槽の溶融塩電解浴中に挿入、浸
漬される、実質的に長さ方向に形状の変化のない
長手のニツケル陰極と、(e)開口部が、該ニツケル
陰極の下方に位置するように、前記電解槽の溶融
塩電解浴中に配置せしめられて、前記炭素陽極と
ニツケル陰極との間に印加される直流電流による
フツ化ランタンの電解還元によつて該ニツケル陰
極上に生じるランタン−ニツケル合金の液滴が滴
下せしめられる、生成合金液滴を集めるための合
金受器と、(f)該合金受器内の液体状態のランタン
−ニツケル合金を電解槽外に取り出すための液状
合金取出手段と、(g)前記ニツケル陰極を、前記ラ
ンタン−ニツケル合金の生成に伴なうその消耗に
従つて、前記電解槽の溶融塩電解浴中に所定の電
流密度が得られるように挿入するための陰極挿入
手段とを、含む装置が好適に用いられる。 尤も、このようなランタン−ニツケル合金の製
造装置は、更に前記炭素陽極を前記電解槽の溶融
塩電解浴中に、所定の電流密度が得られるように
挿入するための陽極挿入手段や、原料としてのフ
ツ化ランタンを、前記電解槽内に供給するための
原料供給手段を備えていることが望ましく、また
前記電解槽の内面に施されるライニングとして
は、モリブデン、タングステン等の難融金属材料
に代えて、安価なニツケル、また場合によつては
さらに安価な鉄材料が好適に用いられることとな
る。 また、本発明にあつては、電解槽内に配置され
た合金受器中に集められた液体状態のランタン−
ニツケル合金を、液体状態のままにおいて電解槽
外に効果的に取り出すために、前記液状合金取出
手段が該合金受器内の液状の生成合金中に挿入さ
れるパイプ状ノズルを有するように構成され、該
ノズルを通じて、真空吸引作用により該生成合金
を吸い上げて、電解槽外に取り出すようにするこ
とが、工業的な実施の観点から有利に採用される
こととなる。 （構成の具体的な説明） まず、第１図には、本発明を実施するための電
解システムの模式図が示されているが、そこにお
いて、その電解システムの主要部をなす電解槽２
へは、溶融塩電解浴を構成する溶剤４が装入せし
められるようになつている。そして、この溶剤４
としては、フツ化ランタン（LaF₃）とフツ化リ
チウム（LiF）が用いられるが、これらに加え
て、フツ化バリウム（BaF₂）並びにフツ化カル
シウム（CaF₂）を単独で或いは両者同時に添加
して用いることも可能である。一方、電解原料
は、原料供給装置６より電解槽２内の電解浴中に
供給されることとなるが、本発明では、この原料
として、酸化ランタン（La₂O₃）ではなくて、電
解浴の構成成分の一つでもあるフツ化ランタンが
使用されるのである。 また、電解槽２内の電解浴中へは、炭素陽極８
とニツケル陰極１０とがそれぞれ浸漬せしめられ
て、それら陽極８と陰極１０の間に直流の電力１
２が印加せしめられることにより、電解浴中のフ
ツ化ランタンの電解還元が行なわれる。そして、
この電解還元によつて陰極１０上に析出した金属
ランタンは、直ちに陰極１０を構成するニツケル
と液体状態の合金を生成せしめ、陰極１０表面よ
り滴下して、電解槽２内の電解浴中に設置した受
器に溜るようになる。なお、上記所定の溶剤組成
のものが溶融する温度では、ニツケル陰極１０上
に生成する合金は液体状態となるものであり、ま
たそのような溶融塩からなる電解浴の比重は、生
成合金のそれよりも小さくされているところか
ら、かかる液体状の合金がニツケル陰極１０上に
生成されるに従つて、それは陰極１０表面より下
方に落下するようになる。 従つて、ニツケル陰極１０から落下する液体合
金を受ける、該ニツケル陰極１０の下方に位置す
る開口部を有する受器内に溜められた液体合金
は、更に適当な合金取出手段１４によつて電解槽
２外へ取り出され、回収されることになるのであ
る。 なお、電解槽２へは、電解浴、生成合金、電極
（陽極８と陰極１０）、電解槽の構成材料等の変質
を防ぎ、生成合金への有害不純物や介在物の混入
を避けること等のために、保護ガス１６が導入さ
れる。また、電解還元操作にて電解槽２内に発生
したガスは、導入された保護ガスと共に廃ガス処
理装置１８に導かれ、所定の処理が施されるよう
になつている。 ところで、かくの如き本発明に従う電解システ
ムにおいては、上述のように、電解原料として、
酸化ランタンとは異なり、フツ化ランタンが使用
される。このフツ化ランタンを原料とする場合に
おいては、フツ化ランタン自体が電解浴の主要構
成成分でもあるところから、電解によつてそれが
消費される分を供給によつて補うことが容易であ
り、且つ酸化物電解の場合に比較した遥かに広い
原料濃度範囲で電解を継続することができるので
ある。なお、この原料フツ化ランタンの供給方法
としては、粉末の状態で電解浴の表面に添加する
のが一般的であり、電解浴への溶解速度も速く、
好ましいが、電解浴内にガスと共に導入する方
法、或いは粉末の成形体を電解浴中に浸漬する方
法でも、行なうことが可能である。また、酸化ラ
ンタンの電解の場合と比べて、フツ化ランタンの
電解操作においては、電極間の電解領域における
電解原料濃度の許容範囲が遥かに大きく、それ故
に供給した原料のかかる領域への移動に遅れがあ
つても、電解の継続に支障を来すことが少なく、
従つて原料フツ化ランタンの供給位置と電解電気
量当たりの供給量に関して、酸化ランタンを原料
とする場合のような細かい制約を受けず、より任
意に選択を行なうことができる利点を有する。 また、本発明において、不純物の少ないランタ
ン−ニツケル合金を製造するためには、電解温度
の低下が必要であり、このために、実質的に、35
〜80％（重量基準。以下同じ）のフツ化ランタ
ン、20〜60％のフツ化リチウム、０〜40％のフツ
化バリウム、及び０〜20％のフツ化カルシウムに
て構成される、実質的にフツ化物のみよりなる混
合溶融塩が電解浴として選ばれ、そしてそのよう
な電解浴に、上記した原料フツ化ランタンが添加
された場合にあつても、電解中は常にかかる組成
範囲の電解浴となるように調整されることとな
る。 なお、かかる本発明に従う電解浴組成における
フツ化ランタン濃度が下限未満、即ち35％に満た
ない場合には、電解成績が悪化し、またその上限
濃度（80％）を越えるようになると、電解浴の融
点が上がり過ぎる等の問題を惹起する。また、フ
ツ化リチウムは、その濃度があまりにも低い場合
には電解浴の融点が上がり過ぎ、一方その濃度が
あまりにも高い場合には生成合金との反応が激し
くなつて、電解成績が悪化する等の問題を惹起す
るため、その濃度としては20〜60％に調節する必
要があるのである。 さらに、フツ化バリウムやフツ化カルシウム
は、高価なフツ化リチウムの使用量を減少させ、
また形成される混合溶融塩の融解温度を調節する
等の目的をもつて加えられるものであり、それら
の添加量があまりにも多い場合には、電解浴の融
点が上がり過ぎるところから、前者のフツ化バリ
ウムは40％までの割合で、また後者のフツ化カル
シウムは20％までの割合で、それぞれ単独に或い
は共に用いられることとなる。そして、これら４
成分、即ちフツ化ランタン、フツ化チリウム、フ
ツ化バリウム及びフツ化カルシウムの合計量が実
質的に100％となるようにして、電解浴が形成さ
れるのである。 尤も、このような電解浴組成に関して、かかる
電解浴がフツ化ランタンとフツ化リチウムの二つ
の成分のみにて構成される二元系の場合において
は、フツ化ランタンは電解浴中において少なくと
も40％以上、フツ化リチウムは少なくとも20％以
上、それぞれ存在するように調整されることが望
ましい。そして、この電解浴成分として用いられ
る各フツ化物は、電解操作や生成合金の最終用途
の物品特性、例えば水素吸蔵合金特性等に悪影響
を及ぼす不純物を含まなければ、必ずしも高純度
のものである必要はなく、通常、工業原料に不可
避的に含まれる不純物は、それらが許容できるも
のである限りにおいて電解浴に含まれていても、
何等差支えないのである。なお、電解浴の組成
は、生成せしめられるランタン−ニツケル合金の
比重より小さな比重を電解浴が有するように選ば
れるものであるところから、電解時には、生成さ
れたランタン−ニツケル合金が、陰極より比重差
によつて電解浴中を落下し、陰極の下方に位置す
る開口部を有する生成合金の受器に容易に到達し
得るのである。 本発明にあつては、かくの如き組成の電解浴の
電解時の温度は、800℃〜970℃の範囲に調節せし
められることとなる。前述したように、電解浴温
度があまりにも高くなり過ぎると、生成合金への
不純物、介在物の混入がみられ、一方あまりにも
低い電解浴温度の場合にあつては、均質な溶融塩
電解浴を形成することが困難となり、電解浴の性
状が悪化し、電解を継続することが困難となるか
らである。この温度の範囲内でできるだけ低温の
方が炉材等からの不純物の混入の少ないLa−Ni
母合金の製造が可能であることは言うまでもな
い。 そして、かかる温度範囲では、ランタンを55重
量％以上含む、高ランタン濃度のランタン−ニツ
ケル合金が有利に生成せしめられ得るのであり、
またその生成合金はこの温度範囲において受器内
で液層を形成し、液体状態での取出しに適してい
るのである。そして、この受器内の液状合金は、
電解槽上部より、真空吸引方式によつて効果的に
取り出すことができる他、下方より流し出し方式
によつて取り出すことも可能である。しかも、こ
の取出に際しては、受器内の合金を特別に加熱す
る必要もなく、極めて容易に液状合金として電解
槽外に取り出すことができるのである。 また、本発明にあつては、電解用電極として、
陰極にニツケル、陽極に炭素、特に黒鉛が好適に
用いられる。陰極のニツケルは、不純物を含む
と、そのまま生成合金中に不純物を持ち込むこと
となるところから、該陰極のニツケル材料として
は、必要に応じて不純物の少ないものを用いるこ
とが好ましい。また、本発明に従えば、電解操作
の進行につれて、陰極を構成するニツケルは、ラ
ンタン−ニツケル合金を生成して、消費されるこ
ととなるが、かかる電解によつて消耗する部分の
ニツケルを補つて、順次、陰極を電解浴中に浸漬
するようにすれば、電解操作を中断することな
く、目的とするランタン−ニツケル合金を連続的
に製造することができるのである。その際、陰極
のニツケル部材の端部にネジ切り加工等を行なつ
ておいて、ネジ結合等によつて陰極を構成するニ
ツケル部材を順次接続せしめ、消耗した陰極分を
補うことは、勿論可能である。このように、固体
のニツケルが陰極として使用できることは、溶融
金属を陰極として使用する場合に比して、取扱が
容易であり、且つ電解炉を装置的にみて簡略化し
得るところから、工業化に際しては、電解炉の大
型化が容易であるという点で大きな利点となるも
のである。 また、かかる本発明に従う炭素陽極を用いるフ
ツ化ランタンの電解にあつては、陽極全表面にわ
たつての電流密度を、0.05〜1.0A／cm²の範囲内
に、電解操作中常に維持していることが必要であ
る。けだし、この電流密度が低過ぎる場合には、
陽極表面積が大き過ぎるか、陽極単位表面積当た
りの電流が小さ過ぎることとなり、このために生
産性が悪化し、工業的に有利ではなくなるからで
あり、またかかる電流密度が高くなり過ぎると、
酸化ランタンを原料とした場合の陽極効果ないし
はこれと類似の異常現象が発生し易くなるからで
ある。従つて、本発明にあつては、電解条件の一
つとしての陽極電流密度を上記の範囲に保つこと
によつて、そのような異常現象の発生を効果的に
回避することが、推奨されるのである。なお、陽
極表面における局部的な変動を考慮に入れると、
上記陽極全表面にわたつての電流密度は、0.10〜
0.70A／cm²の間に保持することがより好ましい。
さらに、フツ化ランタンを原料とした場合は酸化
ランタンを原料にした時よりも、同じ温度では、
アノード電流密度を大きくとることができ、生産
性の点から好ましい。 一方、陰極の電流密度は、陰極全表面にわたつ
ての電流密度として0.50〜55A／cm²の広い範囲に
わたつて許容される。しかし、陰極電流密度があ
まりにも低過ぎると、陰極単位表面積当たりの電
流が小さ過ぎて、生産性が悪化し、工業的ではな
くなる。また、この陰極電流密度が高くなり過ぎ
ると、電解電圧の上昇が甚だしくなり、電解成績
を悪化させる。なお、実際の電解操業の継続に当
たつては、更に1.5〜25A／cm²のより狭い陰極電
流密度の範囲に保つことが、電解電圧の変動幅を
狭く維持し、電解操業を容易にする上において、
より好ましいと言える。 さらに、本発明に従えば、電解浴の耐浴材とは
別の炭素を陽極として使用するものであるところ
から、電解浴の耐浴容器（耐浴材）と陽極を兼用
する場合とは異なり、陽極の消耗によつて電解を
終了せしめる必要はなく、ただその消耗分を補つ
て、更に陽極を電解浴中に浸漬するか、或いは複
数の陽極を使用するので、順次新しい陽極に交換
するだけで良い。また、陰極も同様に、その消耗
分を補つて電解浴中に浸漬するか、或いは新しい
陰極に交換するだけで良いのである。本発明で
は、好適に採用される陽極と陰極の表面電流密度
の比の大きな違いにより、陰極の周りに複数本の
陽極を配置して、陽極が陰極と対向するようにし
た電極配列が好適に採用されることとなるが、そ
のような場合において、陽極の交換を順次行なう
ようにすれば、実質上、電解操業を中断すること
なく、ランタン−ニツケル合金を連続的に製造す
ることができ、電解法の利点を充分に生かすこと
ができる。しかも、陽極形状、陰極形状とも、外
形上は実質的に長さ方向には変化がないものを用
いることができるところから、それらの連続的な
使用において何等の不都合が惹起されることもな
いのである。 本発明を実施する電解槽の構造の好適な一例
が、第２図に模式的に示されている。 かかる第２図において、電解槽２０は、下部槽
２２とその開口部を覆蓋する蓋体２４にて構成さ
れている。また、これら下部槽２２及び蓋体２４
の外側は、通常、鋼等の金属よりなる槽外枠２
６，２８より構成されている。さらに、下部槽２
２及び蓋体２４は、それぞれ外側にレンガやキヤ
スタブル・アルミナ等よりなる耐火断熱材層３
０，３２、及び内側に黒鉛、炭素質スタンプ材等
からなる耐浴材層３４，３６を配置して、構成さ
れている。 そして、下部層２２の内側耐浴材層３４の内面
の接浴面には、ライニング材３８が設けられて、
かかる接浴面を被覆している。このライニング材
３８は、耐浴材層３４からの不純物の混入を防ぐ
他、それがタングステンやモリブデン等の難融金
属にて形成されている場合には、生成する液状ラ
ンタン−ニツケル合金の受器を兼ねることもでき
る。尤も、本発明にあつては、かかるライニング
材３８として、難融金属より安価なニツケル、ま
た場合によつては更に安価な鉄材料を用いること
が推奨される。また、耐浴材層３４は、必ずしも
必要ではなく、耐火断熱材層３０上に直接にライ
ニング材３８を適用しても何等差支えない。 また、蓋体２４を貫通するように、１本若しく
は複数本のニツケル陰極４０と、このニツケル陰
極４０に対向して配置された複数本の炭素陽極４
２が設けられており、またそれら両電極４０，４
２は、下部槽２２内に収容される前記所定の溶融
塩からなる電解浴４４中に、所定電流密度となる
長さにわたつて浸漬されるようになつている。な
お、ここでは、炭素陽極４２，４２は、ニツケル
陰極４０と向かい合つて配置される陽極のうちの
２本が示されており、それらの材質としては黒鉛
が好適に用いられることとなる。 さらに、これら炭素陽極４２，４２は、棒状、
板状、管状等の形態で用いられ、電解浴４４への
浸漬部分の陽極表面積を大きくして陽極電流密度
を下げるために、公知のように溝付きとすること
もできる。なお、第２図では、炭素陽極４２に
は、電解による陽極消耗の跡を示して、陽極浸漬
部に僅かに傾斜が付けられている。この陽極４２
には、給電のために金属等の適当な導電体の電気
リードが取り付けられていても、何等差支えな
い。また、陽極４２は、陽極挿入手段としての陽
極昇降機構４６によつて上下動せしめられ得るよ
うになつており、これにより電解継続のための適
切な陽極電流密度が確保されるように、間欠的に
或いは連続的に、その浸漬部の表面積を浸漬深さ
で調整し得るようになつている。なお、陽極昇降
機構４６，４６は、陽極への電気接続機能を兼ね
備えることも出来る。 一方、陰極４０は、電解還元作用にて析出せし
められる金属ランタンと合金化させるべきニツケ
ルにて構成されており、ここではその１本が示さ
れている。また、第２図では、ランタン−ニツケ
ル合金の液滴生成による陰極消耗の跡を示して、
陰極浸漬部分が円錐形状で示してある。なお、電
解温度は、陰極４０のニツケルの融点以下に選ば
れるところから、このニツケル陰極４０は固体で
あり、線状、棒状、板状、管状等の形態で用いら
れる。このニツケル陰極４０は、また、陰極挿入
手段としての陰極昇降機構４８によつて合金生成
による消耗分を補つて、電解浴４４中へ連続的或
いは間欠的に送り込まれるようになつている。そ
して、この陰極昇降機構４８は、陰極への電気接
続機能を兼ね備えることもできる。さらに、かか
るニツケル陰極４０の浸漬部以外の表面は、防食
のために適当な保護スリーブ等で保護するように
しても、何等差支えない。 また、かかるニツケル陰極４０の下方に受器開
口部が位置するように、電解浴４４内において、
下部槽２２の底部上に生成合金受器５０が配置せ
しめられており、電解還元操作によつてニツケル
陰極４０上に生成された液状のランタン−ニツケ
ル合金５２は、陰極表面より滴下して、その直下
において開口する生成合金受器５０内に溜められ
る。なお、この生成合金受器５０は、生成合金５
２との反応性の小さな難融金属、例えばタングス
テン、タンタル、モリブデン、ニオブ、或いはそ
れらの合金等を用いて形成される他、窒化ホウ素
等のホウ化物や酸化物等のセラミツクス、或いは
サーメツト等の材料、さらにニツケルを用いて形
成することもできる。 なお、電解浴４４は、前記した本発明に従う組
成に調整された、フツ化ランタンを含有するフツ
化物混合溶融塩よりなるものであり、その組成
は、その比重が生成されるランタン−ニツケル合
金の比重以下となるように選ばれる。そして、電
解によつて消費される電解原料は、原料供給装置
５４から蓋体２４に設けられた原料供給孔５６を
通じて供給され、所定組成の電解浴４４が維持せ
しめられるようになつている。 また、ニツケル陰極４０から滴下して受器５０
内に溜められた生成合金５２は、それが所定量溜
まつた時に、液体状態のままで所定の合金回収機
構（取出手段）によつて電解槽２０外に取り出さ
れることとなるが、本発明にあつては、第２図に
示される如く、パイプ状の真空吸引ノズル５８
を、蓋体２４に設けられた生成合成吸引孔６０を
通じて電解浴４４内に差し入れ、該ノズル５８の
先端を生成合金受器５０内の生成合金５２中に浸
漬せしめ、図示されていない真空装置の真空吸引
作用を利用して吸引することにより生成合金５２
を吸い上げて電解炉２０外に取り出す手段が、有
利に採用されることとなる。 尤も、このような真空吸引による生成合金５２
の吸引取出し方式に代えて、電解槽２０（下部槽
２２）の下部を貫通する取出パイプを設け、この
取出パイプの先端を更に生成合金受器５０を貫通
させて、該受器５０内に開口せしめることによ
り、かかる取出パイプを通じて、生成合金５２を
炉外下方に流し出す合金回収機構を採用すること
も可能である。 なお、図示はされていないが、かかる電解炉２
０内には、保護ガスが供給されるようになつてお
り、また電解操作によつて発生するガスは、かか
る保護ガスと共に、廃ガス出口６２を通じて外部
に排出されるようになつている。また、このよう
な電解槽２０には、前記した電解温度に保持する
ための特別な加熱装置は設けられていないが、所
定の温度に維持するために、必要に応じて、この
電解槽２０内に或いはその外部に適当な加熱装置
を設けてもよいことは、言うまでもないところで
ある。 （実施例） 以下、本発明を更に具体的に明らかにするため
に、本発明に従う幾つかの実施例を示すが、本発
明がそのような実施例の記載によつて何等制限的
に解釈されるものでないことは、言うまでもない
ところである。 なお、本発明は、上述した本発明の具体的な説
明並びに以下の実施例の他にも、各種の態様にお
いて実施され得るものであり、本発明の趣旨を逸
脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて
種々なる態様において実施され得るものは、何れ
も本発明の範疇に属するものであることが、理解
されるべきである。 実施例 １ ランタン62％（重量基準。以下同じ）及びニツ
ケル38％の平均組成を有するランタン−ニツケル
（La−Ni）合金11.4Kgが、次のようにして得られ
る。 すなわち、第２図に示される電解槽と同様な構
成の装置において、電解槽の耐浴材として黒鉛る
つぼを用い、生成合金受器として黒鉛るつぼの底
部中央に設置したモリブデン容器を用いて、実質
上フツ化ランタンとフツ化リチウムの二元系フツ
化物混合溶融塩よりなる電解浴を、平均840℃の
電解温度にて不活性ガス雰囲気中で電解した。陰
極としては、黒鉛るつぼ中央部の電解浴中に同心
円状に配置して（平面形態において）浸漬した、
３本の12mmφのニツケル線を用い、陽極として
は、かかる陰極の周りに同心円状に配列して（平
面形態において）電解浴中に浸漬した、５本の60
mmφの黒鉛棒を用いた。 そして、フツ化ランタンを原料として、その粉
末を電解浴に連続的に供給しつつ、下記第１表に
示される範囲内の電解条件を保持して、24時間、
電解を行なつた。この間、電解操業は極めて良好
に継続することができ、液体状のランタン−ニツ
ケル合金が順次滴下して、電解浴内に配置された
モリブデンの受器内に溜められた。この溜められ
た合金は、８時間毎に、真空吸引ノズルを有する
真空吸引式合金回収装置にて電解炉の外部に取り
出された。 かかる電解操作により得られた電解成績並びに
生成合金の分析結果を、下記第１表及び第２表に
示す。 なお、比較のために、同様の製造装置におい
て、原料として酸化ランタンの粉末を用い、これ
を陰極−陽極間の陽極ガス発生部分（電解領域）
の電解浴に連続供給して、略同様の電解条件下で
電解を行なつたが、その場合には、アノード電流
密度を上記フツ化物原料電解時のときの1/2以下
にしないと、陽極効果が頻発し、酸化物電解は継
続不可能であつた。このため、酸化ランタンを過
剰に供給せざるを得ず、結果として、電解槽底部
にスラツジを形成した。 実施例 ２ ランタン58％及びニツケル42％の平均組成を有
するランタン−ニツケル合金の7.4Kgが、次のよ
うな電解操作により得られた。 まず、耐浴材としての黒鉛るつぼの内面にニツ
ケルをライニングしたものを、電解浴の容器とし
て用い、更にこの底部中央に設置したモリブデン
製容器を生成合金の受器として用いて、実質上フ
ツ化ランタンとフツ化リチウムの二元系フツ化物
混合溶融塩よりなる電解浴を、平均954℃の電解
温度にて不活性ガス雰囲気中で電解した。そし
て、陰極としては、実施例１と同様に配置した３
本の12mmφのニツケル棒を用い、また陽極として
は、実施例１と同様の５本の60mmφの黒鉛棒を用
いた。 そして、フツ化ランタンを原料として、電解浴
に連続的にその供給を行ないつつ、下記第１表に
示される範囲内に電解条件を保持したところ、16
時間にわたり、良好な電解操業が継続された。ま
た、液状体のランタン−ニツケル合金が順次滴下
して、モリブデン製受器内に集められた。さら
に、この集められた受器内の生成合金は、実施例
１と同様に液体状態で取り出すことができた。 かかる電解操作によつて得られた電解成績並び
に生成合金の分析結果を、それぞれ下記第１表及
び第２表に示す。 なお、比較のために、原料として酸化ランタン
を用いて同様な電解還元操作を繰り返したとこ
ろ、陽極効果が惹起されて、アノード電流密度を
上記フツ化物電解の時よりも約1/2程度に下げざ
るを得なかつた。また、酸化ランタンを過剰に供
給せざるを得なかつたために、結果として電解槽
底部にスラツジを形成した。

【表】

【表】

【表】 かかる第１表及び第２表の結果から明らかなよ
うに、本発明に従つてフツ化ランタンを電解する
ことにより、ランタン含有量の高いランタン−ニ
ツケル合金が一挙に製造され得るのであり、また
そのような生成合金は、合金特性を悪化させる不
純物の含有量の低いランタン−ニツケル合金であ
ることが認められる。なお、第２表中の合金含有
成分の数値は、８時間毎に取り出された合金の分
析値の平均値である。 また、以上の実施例では、更に長時間にわたつ
て継続して電解を行なうことが容易であり、その
ような場合にあつても、それぞれの実施例と同様
な結果が得られることが確認されている。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を実施するための具体的な電解
システムを示す模式図であり、第２図は本発明を
実施するための電解槽の構造の一例を示す断面図
である。 ２：電解槽、４：溶剤、６：原料供給装置、
８：炭素陽極、１０：ニツケル陰極、１２：電
力、１４：合金取出手段、１６：保護ガス、１
８：廃ガス処理装置、２０：電解槽、２２：下部
槽、２４：蓋体、３０，３２：耐火断熱材層、３
４，３６：耐浴材層、３８：ライニング材、４
０：ニツケル陰極、４２：炭素陽極、４４：電解
浴、４６：陽極昇降機構、４８：陰極昇降機構、
５０：生成合金受器、５２：生成合金、５４：原
料供給装置、５８：真空吸引ノズル、６０：生成
合金吸引孔。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ニツケル陰極及び炭素陽極を用いて、ランタ
   ン化合物を溶融塩電解浴中において電解還元せし
   め、生成するランタンを前記ニツケル陰極上に析
   出させると共に、該陰極を構成するニツケルと合
   金化せしめて、ランタン−ニツケル合金を形成さ
   せるに際して、 前記ランタン化合物としてフツ化ランタンを用
   い、電解還元操作の進行に応じて前記溶融塩電解
   浴中に供給するようにすると共に、かかるフツ化
   ランタンを含む溶融塩電解浴が、実質的に、35〜
   80重量％のフツ化ランタン、20〜60重量％のフツ
   化リチウム、０〜40重量％のフツ化バリウム及び
   ０〜20重量％のフツ化カルシウムにて構成される
   ように調整し、更に該溶融塩電解浴を800〜970℃
   の温度に保持し、且つ陽極電流密度：0.05〜
   1.0A／cm²、陰極電流密度：0.50〜55A／cm²の条件
   下において、前記電解還元操作を進行せしめるこ
   とにより、前記ランタン−ニツケル合金を前記ニ
   ツケル陰極上に液体状態で生成せしめ、そして該
   液体状態のランタン−ニツケル合金を、液滴とし
   て該ニツケル陰極下方の電解浴中に開口部を有す
   る受器内に滴下せしめて、液層として溜め、更に
   この受器内の液層より、ランタン−ニツケル合金
   を液体状態で取り出すようにしたことを特徴とす
   るランタン−ニツケル合金の連続的製造方法。 ２ 前記炭素陽極が、黒鉛電極である特許請求の
   範囲第１項に記載の製造方法。 ３ 前記ランタン化合物を含む溶融塩電解浴が、
   実質的にフツ化ランタンとフツ化リチウムにて構
   成され、且つ該フツ化ランタンが少なくとも40重
   量％以上、該フツ化リチウムが少なくとも20重量
   ％以上、それぞれ存在するように調整せしめられ
   る特許請求の範囲第１項または第２項に記載の製
   造方法。