JPS6325769B2 - - Google Patents
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- Cookers (AREA)
Description
本発明は加熱調理の際に付着した食品の分解生
成物の汚れを除去する自己浄化性被覆層の改良に
関する。 自己浄化性被覆層は電気オーブン、電子オーブ
ンレンジ、ガスオーブン等のオーブン内壁に被着
され、食品の調理加熱中に生成分解して飛散した
油分、タンパク質、デンプン等の汚れを調理中に
酸化分解し、オーブン壁を浄化する作用をする。 従来この種の自己浄化性被覆層は、第2図に示
すように、アルミメツキ層2aを施した下地金属
1aの表面に低融点ホーローの下地層4を被着
し、次に酸化触媒やクラツキング触媒作用をする
セラミツクスを含有した低融点ホーローの浄化層
3aを25〜60%の多孔質マツト状に被着した2層
ホーロー方式と、第3図に示すように、アルミメ
ツキ層2bを施した下地金属1b表面に酸化触媒
やクラツキング触媒の作用をするセラミツクスを
水ガラスやシリコーンワニス等の結合剤に分散さ
せて塗布した浄化層3bからなる1層塗料方式と
がある。しかしながら、2層ホーロー方式の浄化
層は25〜60%の気孔率を有する多孔質層であるこ
とから、第1に繰返し食品の調理を行うと気孔中
に食品の分解生成物が堆積して浄化機能が著しく
低下すること、第2に皮膜硬度が小さくかつ耐摩
耗性に劣り、浄化層表面が過度に汚れても清掃が
できない等の欠点の他に、被覆層の厚みが200〜
250μmの厚さになつてしまうことから、機械的及
び熱的衝撃のストレスに弱く、剥離し易い欠点が
あつた。また1層塗料方式の浄化層は下地金属と
の密着性に乏しく、クラツクや剥離を起し易く耐
久性の点で劣る他、浄化層の厚みを150〜300μに
しないと自己浄化機能を十分果さず、かつ調理の
繰返しによつて食品の分解生物が気孔中に堆積し
て浄化機能が著しく低下する等の欠点があつた。 本発明は上述の従来の欠点を改良するためにな
されたもので、下地金属と、440〜560℃に融点を
有するホーローからなる浄化層とからなるものに
おいて、この浄化層が酸化触媒あるいはクラツキ
ング触媒の作用を有するセラミツクスの少なくと
もいずれか一方を含有するとともに、浄化層の厚
みを20〜90μmとしかつ気孔率を25%以下とした
構成により、自己浄化性能とその耐久性、機械的
耐久性、清掃性等を改良するものである。 以下、本発明の詳細につき説明する。 第1図は、アルミメツキ層2を施したアルミメ
ツキ鋼板からなる下地金属1の表面に、低融点ホ
ーローの浄化層3を被着してなる自己浄化性被覆
層の断面を示したものである。低融点ホーローの
浄化層の被着工程を詳細に述べると、先ず、下地
金属1を弱アルカリ浴槽中で脱脂洗浄する第1工
程と、自然乾燥する第2工程と、低融点のガラス
フリツト、酸化触媒作用およびクラツキング触媒
作用をするセラミツクスの少なくともいずれか一
方、浄化層3の気孔率を調節する水酸化アルミニ
ウム(Al2(OH)3)、ミル剤、および水等からな
る混合物のスリツプをスプレー塗布あるいは浸漬
塗布により所定の厚みに被着する第3工程と、被
着物を乾燥する第4工程と、560〜620℃の炉中で
焼成する第5工程とにより浄化層3が被着形成さ
れる。低融点のガラスフリツトは例えば表1に示
す組成のもので、融点は440〜560℃、好ましくは
460〜520℃であることが必要である。融点が440
℃未満になると、実使用時の耐熱性が低下して浄
化層3が熱変形し易くなり、また融点が560℃以
上になると、焼成温度を620〜700℃に上げなけれ
ばホーロー皮膜が形成できなくなるが、その際ア
ルミメツキ鋼板のアルミはAl―Feの合金層に成
長することから、下地金属1とホーローの浄化層
3との密着性が低下し、いずれも好ましくない。
浄化層3の厚みは20〜90μ、好ましくは30〜60μ
が適している。浄化層3の厚さが20μ未満になる
と下地金属1が露出したり、ピンホールが多くな
り耐食性や耐熱性が低下し、また厚さが90μ以上
になると、浄化層3の機械的や熱的衝撃性が低下
したり、あるいは発泡して密着性の低下をまねく
等から好ましくない。 浄化層3の組成である酸化触媒のセラミツクス
は酸化マンガン、酸化ニツケル、酸化銅、酸化バ
ナジウム、酸化モリブデン、酸化亜鉛、およびイ
ツトリウム、ランタン、セリウム等の酸化物等が
適している。またパラジウムや白金等の貴金属も
適している。しかし酸化触媒の低温活性度、原材
料の入手難易度およびコスト等から考慮すると、
酸化マンガン、酸化銅、酸化バナジウムの単独あ
るいはそれらの組合せが適している。特に、酸化
マンガンはγ―MnO2が優れた酸化触媒作用を示
し、電解二酸化マンガンが良い。酸化触媒の添加
量はガラスフリツト100重量%に対して3〜50重
量%好ましくは5〜35重量%が良い。添加量が3
%未満の場合は触媒性能が実用上なくなり、添加
量が50重量%以上になると浄化層の強度が弱くな
り、いずれも好ましくない。 更に、浄化層3に添加されるクラツキング触媒
は食品の分解生成物を低分子に分解する作用をす
るもので、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化
マグネシウム等の単体あるいはムライト、コージ
ライト等の複合体の少なくとも1種類以上を添加
し、フリツト100重量%に対して、0〜50重量%
好ましくは0〜25重量%が適している。添加量が
0重量%で良い理由は、フリツト中にSiO2を含
むことから、クラツキング性能は低いが実使用上
は特に大きなデメリツトにならないことによる。
また添加量が50重量%以上になると、浄化層3が
もろくなるため好ましくない。 浄化層3の気孔率は、スリツプ材料に添加する
水酸化アルミニウム(Al2(OH)3)の添加量と、
加熱温度条件によつて決まる。すなわち、水酸化
アルミニウムは加熱すると、比較的容易に水を失
つて酸化アルミニウムになり、一般には、約150
℃以上で水を放出し始め、約300℃で急に水を失
う。浄化層3の処理工程において具体的に述べる
と、次のようになる。下地金属1の表面に塗布し
た焼成前の浄化層3は、乾燥工程において塗膜中
に含まれた水分が脱水し、次の焼成工程前半の
150〜300℃の温度領域において、Al(OH)3が
Al2O3・nH2O+H2Oの脱水反応を起こし、その
時の膨張によつて気泡が生成して表面層までの通
気孔を形成する。この状態の皮膜が焼成工程後半
の300〜620℃の温度領域を通過すると、ガラス成
分が溶融してお互いが溶着し、通気孔の一部が封
止されて表面がマツト状態の浄化層3になる。従
つて、浄化層3の気孔率は、添加する水酸化アル
ミニウムの量と、焼成条件によつて調節される。 上述した浄化層3のスリツプ材料配合の一実施
例を示すと表2のようになる。 また、浄化層3の気孔率を25%以下好ましくは
15%以下にする理由は、皮膜の硬度、耐摩耗性、
清掃性を考慮して設定したものである。気孔率が
25%以上になると、皮膜硬度の低下と耐摩耗性の
低下および食品の分解生成物が気孔中に堆積して
清掃しても落ちにくくなる。従つて長時間使用し
た際の自己浄化性能と耐久性が劣ることになる。 本実施例のごとく、浄化層3の材質を酸化触媒
あるいはクラツキング触媒を有するホーローと
し、浄化層3の厚みを20〜90μmとするとともに
気孔率を25%以下にすることによつて、食品の分
解飛散物が少量付着した場合は触媒の作用によつ
て自己浄化し、多量に付着した場合は触媒の作用
によつて、容易に汚れが除去できる。すなわち、
浄化層3の気孔率が小さいため、皮膜の硬度が大
きく、機械的にこすつても耐摩耗性があることか
ら、通常の食品調理で飛散した汚れは清掃によつ
て除去できる。また、浄化層3の厚みが90μm以
下に設定されていることと、下地金属1のアルミ
メツキ層2のアルミニウムと浄化層3のホーロー
質中のシリカ成分とが化学的に反応した一種の合
金層を形成して密着力が確実になつていることか
ら、機械的および熱的衝撃に対して耐久性を有す
る。更に、浄化層3の気孔率を25%以下に抑えた
ことにより、ホーロー皮膜が下地金属1をカバー
することから、耐食性が向上し、発錆が原因とな
つて皮膜が剥離するような不都合が防止できる。 以上述べたごとく、本発明の自己浄化性被覆層
は、浄化層を酸化触媒あるいはクラツキング触媒
の作用をするセラミツクスを含有したホーローと
し、アルミメツキ層を施した下地金属に設けると
ともに、この浄化層の厚みを20〜90μmとしかつ
気孔率を25%以下とすることによつて、次の効果
が期待できる。 (1) 浄化層の硬度が大きく耐摩耗性が優れること
から、著しく庫内が汚れた場合は機械的にこす
つて付着した汚れを除去でき、従つて自己浄化
性能の耐久寿命が長くなり、また庫内を清潔に
保てる。 (2) 浄化層と下地金属の密着性が優れかつ浄化層
の厚みが薄いことから、機械的および熱的スト
レスに耐えて長期間使用することができる。 (3) 気孔率を25%以下に抑えたことから、下地金
属の耐食性を向上できる。
成物の汚れを除去する自己浄化性被覆層の改良に
関する。 自己浄化性被覆層は電気オーブン、電子オーブ
ンレンジ、ガスオーブン等のオーブン内壁に被着
され、食品の調理加熱中に生成分解して飛散した
油分、タンパク質、デンプン等の汚れを調理中に
酸化分解し、オーブン壁を浄化する作用をする。 従来この種の自己浄化性被覆層は、第2図に示
すように、アルミメツキ層2aを施した下地金属
1aの表面に低融点ホーローの下地層4を被着
し、次に酸化触媒やクラツキング触媒作用をする
セラミツクスを含有した低融点ホーローの浄化層
3aを25〜60%の多孔質マツト状に被着した2層
ホーロー方式と、第3図に示すように、アルミメ
ツキ層2bを施した下地金属1b表面に酸化触媒
やクラツキング触媒の作用をするセラミツクスを
水ガラスやシリコーンワニス等の結合剤に分散さ
せて塗布した浄化層3bからなる1層塗料方式と
がある。しかしながら、2層ホーロー方式の浄化
層は25〜60%の気孔率を有する多孔質層であるこ
とから、第1に繰返し食品の調理を行うと気孔中
に食品の分解生成物が堆積して浄化機能が著しく
低下すること、第2に皮膜硬度が小さくかつ耐摩
耗性に劣り、浄化層表面が過度に汚れても清掃が
できない等の欠点の他に、被覆層の厚みが200〜
250μmの厚さになつてしまうことから、機械的及
び熱的衝撃のストレスに弱く、剥離し易い欠点が
あつた。また1層塗料方式の浄化層は下地金属と
の密着性に乏しく、クラツクや剥離を起し易く耐
久性の点で劣る他、浄化層の厚みを150〜300μに
しないと自己浄化機能を十分果さず、かつ調理の
繰返しによつて食品の分解生物が気孔中に堆積し
て浄化機能が著しく低下する等の欠点があつた。 本発明は上述の従来の欠点を改良するためにな
されたもので、下地金属と、440〜560℃に融点を
有するホーローからなる浄化層とからなるものに
おいて、この浄化層が酸化触媒あるいはクラツキ
ング触媒の作用を有するセラミツクスの少なくと
もいずれか一方を含有するとともに、浄化層の厚
みを20〜90μmとしかつ気孔率を25%以下とした
構成により、自己浄化性能とその耐久性、機械的
耐久性、清掃性等を改良するものである。 以下、本発明の詳細につき説明する。 第1図は、アルミメツキ層2を施したアルミメ
ツキ鋼板からなる下地金属1の表面に、低融点ホ
ーローの浄化層3を被着してなる自己浄化性被覆
層の断面を示したものである。低融点ホーローの
浄化層の被着工程を詳細に述べると、先ず、下地
金属1を弱アルカリ浴槽中で脱脂洗浄する第1工
程と、自然乾燥する第2工程と、低融点のガラス
フリツト、酸化触媒作用およびクラツキング触媒
作用をするセラミツクスの少なくともいずれか一
方、浄化層3の気孔率を調節する水酸化アルミニ
ウム(Al2(OH)3)、ミル剤、および水等からな
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塗布により所定の厚みに被着する第3工程と、被
着物を乾燥する第4工程と、560〜620℃の炉中で
焼成する第5工程とにより浄化層3が被着形成さ
れる。低融点のガラスフリツトは例えば表1に示
す組成のもので、融点は440〜560℃、好ましくは
460〜520℃であることが必要である。融点が440
℃未満になると、実使用時の耐熱性が低下して浄
化層3が熱変形し易くなり、また融点が560℃以
上になると、焼成温度を620〜700℃に上げなけれ
ばホーロー皮膜が形成できなくなるが、その際ア
ルミメツキ鋼板のアルミはAl―Feの合金層に成
長することから、下地金属1とホーローの浄化層
3との密着性が低下し、いずれも好ましくない。
浄化層3の厚みは20〜90μ、好ましくは30〜60μ
が適している。浄化層3の厚さが20μ未満になる
と下地金属1が露出したり、ピンホールが多くな
り耐食性や耐熱性が低下し、また厚さが90μ以上
になると、浄化層3の機械的や熱的衝撃性が低下
したり、あるいは発泡して密着性の低下をまねく
等から好ましくない。 浄化層3の組成である酸化触媒のセラミツクス
は酸化マンガン、酸化ニツケル、酸化銅、酸化バ
ナジウム、酸化モリブデン、酸化亜鉛、およびイ
ツトリウム、ランタン、セリウム等の酸化物等が
適している。またパラジウムや白金等の貴金属も
適している。しかし酸化触媒の低温活性度、原材
料の入手難易度およびコスト等から考慮すると、
酸化マンガン、酸化銅、酸化バナジウムの単独あ
るいはそれらの組合せが適している。特に、酸化
マンガンはγ―MnO2が優れた酸化触媒作用を示
し、電解二酸化マンガンが良い。酸化触媒の添加
量はガラスフリツト100重量%に対して3〜50重
量%好ましくは5〜35重量%が良い。添加量が3
%未満の場合は触媒性能が実用上なくなり、添加
量が50重量%以上になると浄化層の強度が弱くな
り、いずれも好ましくない。 更に、浄化層3に添加されるクラツキング触媒
は食品の分解生成物を低分子に分解する作用をす
るもので、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化
マグネシウム等の単体あるいはムライト、コージ
ライト等の複合体の少なくとも1種類以上を添加
し、フリツト100重量%に対して、0〜50重量%
好ましくは0〜25重量%が適している。添加量が
0重量%で良い理由は、フリツト中にSiO2を含
むことから、クラツキング性能は低いが実使用上
は特に大きなデメリツトにならないことによる。
また添加量が50重量%以上になると、浄化層3が
もろくなるため好ましくない。 浄化層3の気孔率は、スリツプ材料に添加する
水酸化アルミニウム(Al2(OH)3)の添加量と、
加熱温度条件によつて決まる。すなわち、水酸化
アルミニウムは加熱すると、比較的容易に水を失
つて酸化アルミニウムになり、一般には、約150
℃以上で水を放出し始め、約300℃で急に水を失
う。浄化層3の処理工程において具体的に述べる
と、次のようになる。下地金属1の表面に塗布し
た焼成前の浄化層3は、乾燥工程において塗膜中
に含まれた水分が脱水し、次の焼成工程前半の
150〜300℃の温度領域において、Al(OH)3が
Al2O3・nH2O+H2Oの脱水反応を起こし、その
時の膨張によつて気泡が生成して表面層までの通
気孔を形成する。この状態の皮膜が焼成工程後半
の300〜620℃の温度領域を通過すると、ガラス成
分が溶融してお互いが溶着し、通気孔の一部が封
止されて表面がマツト状態の浄化層3になる。従
つて、浄化層3の気孔率は、添加する水酸化アル
ミニウムの量と、焼成条件によつて調節される。 上述した浄化層3のスリツプ材料配合の一実施
例を示すと表2のようになる。 また、浄化層3の気孔率を25%以下好ましくは
15%以下にする理由は、皮膜の硬度、耐摩耗性、
清掃性を考慮して設定したものである。気孔率が
25%以上になると、皮膜硬度の低下と耐摩耗性の
低下および食品の分解生成物が気孔中に堆積して
清掃しても落ちにくくなる。従つて長時間使用し
た際の自己浄化性能と耐久性が劣ることになる。 本実施例のごとく、浄化層3の材質を酸化触媒
あるいはクラツキング触媒を有するホーローと
し、浄化層3の厚みを20〜90μmとするとともに
気孔率を25%以下にすることによつて、食品の分
解飛散物が少量付着した場合は触媒の作用によつ
て自己浄化し、多量に付着した場合は触媒の作用
によつて、容易に汚れが除去できる。すなわち、
浄化層3の気孔率が小さいため、皮膜の硬度が大
きく、機械的にこすつても耐摩耗性があることか
ら、通常の食品調理で飛散した汚れは清掃によつ
て除去できる。また、浄化層3の厚みが90μm以
下に設定されていることと、下地金属1のアルミ
メツキ層2のアルミニウムと浄化層3のホーロー
質中のシリカ成分とが化学的に反応した一種の合
金層を形成して密着力が確実になつていることか
ら、機械的および熱的衝撃に対して耐久性を有す
る。更に、浄化層3の気孔率を25%以下に抑えた
ことにより、ホーロー皮膜が下地金属1をカバー
することから、耐食性が向上し、発錆が原因とな
つて皮膜が剥離するような不都合が防止できる。 以上述べたごとく、本発明の自己浄化性被覆層
は、浄化層を酸化触媒あるいはクラツキング触媒
の作用をするセラミツクスを含有したホーローと
し、アルミメツキ層を施した下地金属に設けると
ともに、この浄化層の厚みを20〜90μmとしかつ
気孔率を25%以下とすることによつて、次の効果
が期待できる。 (1) 浄化層の硬度が大きく耐摩耗性が優れること
から、著しく庫内が汚れた場合は機械的にこす
つて付着した汚れを除去でき、従つて自己浄化
性能の耐久寿命が長くなり、また庫内を清潔に
保てる。 (2) 浄化層と下地金属の密着性が優れかつ浄化層
の厚みが薄いことから、機械的および熱的スト
レスに耐えて長期間使用することができる。 (3) 気孔率を25%以下に抑えたことから、下地金
属の耐食性を向上できる。
【表】
【表】
第1図は本発明の一実施例を示す1層の浄化層
を施した加熱調理器用自己浄化性被覆層の断面
図、第2図と第3図は従来の加熱調理器用自己浄
化性被覆層の断面図を示す。 1…下地金属、3…浄化層。
を施した加熱調理器用自己浄化性被覆層の断面
図、第2図と第3図は従来の加熱調理器用自己浄
化性被覆層の断面図を示す。 1…下地金属、3…浄化層。
Claims (1)
- 1 下地金属と、440〜560℃に融点を有するホー
ローからなる浄化層とからなるものにおいて、該
浄化層が酸化触媒あるいはクラツキング触媒の作
用を有するセラミツクスの少なくともいずれか一
方を有するとともに、前記浄化層の厚みを20〜
90μmとしかつ気孔率を25%以下にしたことを特
徴とする加熱調理器用自己浄化性被覆層。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12649580A JPS5752425A (en) | 1980-09-11 | 1980-09-11 | Self-cleaning type coating layer for heat cooker |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12649580A JPS5752425A (en) | 1980-09-11 | 1980-09-11 | Self-cleaning type coating layer for heat cooker |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5752425A JPS5752425A (en) | 1982-03-27 |
JPS6325769B2 true JPS6325769B2 (ja) | 1988-05-26 |
Family
ID=14936614
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12649580A Granted JPS5752425A (en) | 1980-09-11 | 1980-09-11 | Self-cleaning type coating layer for heat cooker |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5752425A (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02118090A (ja) * | 1988-10-27 | 1990-05-02 | Inax Corp | メタリック調塗装を施した水栓 |
JP2662013B2 (ja) * | 1989-02-07 | 1997-10-08 | 古河電気工業株式会社 | CuまたはCu合金の屋根板材 |
JP2662014B2 (ja) * | 1989-02-07 | 1997-10-08 | 古河電気工業株式会社 | 早期に緑青を形成するCuまたはCu合金の屋根板材 |
JPH07265697A (ja) * | 1994-03-28 | 1995-10-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 脱臭エレメントの製造法 |
EP2236471A1 (en) * | 2009-03-06 | 2010-10-06 | Electrolux Home Products Corporation N.V. | Enamel coating, coated article and method of coating an article |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52127913A (en) * | 1976-04-20 | 1977-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Product coated with an layer of selffcleaning type |
JPS5436320A (en) * | 1977-08-24 | 1979-03-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Articles having selffcleanable coated layer |
-
1980
- 1980-09-11 JP JP12649580A patent/JPS5752425A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52127913A (en) * | 1976-04-20 | 1977-10-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Product coated with an layer of selffcleaning type |
JPS5436320A (en) * | 1977-08-24 | 1979-03-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Articles having selffcleanable coated layer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5752425A (en) | 1982-03-27 |
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