JPS632538B2 - - Google Patents

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JPS632538B2
JPS632538B2 JP18756483A JP18756483A JPS632538B2 JP S632538 B2 JPS632538 B2 JP S632538B2 JP 18756483 A JP18756483 A JP 18756483A JP 18756483 A JP18756483 A JP 18756483A JP S632538 B2 JPS632538 B2 JP S632538B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contact
formula
dihalogenohexafluoropropane
temperature
compound
Prior art date
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Expired
Application number
JP18756483A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6078925A (ja
Inventor
Yonosuke Aisaka
Takashi Totsuka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Kogyo Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Kogyo Co Ltd filed Critical Daikin Kogyo Co Ltd
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Publication of JPS6078925A publication Critical patent/JPS6078925A/ja
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、2・2−ジハロゲノヘキサフルオロ
プロパンの製法に関する。
2・2−ジハロゲノヘキサフルオロプロパン
は、非常に安定な溶媒として有用であり、その安
定性は、三酸化硫黄と150℃で一昼夜接触させて
も変化しない程である。
従来、CF3CFBrCF2BrとAlBr3を150〜200℃で
一昼夜接触させると50%がCF3CBr2CF3となるこ
とが知られている。
また、CF2ClCFCl2を40℃でAlCl3と接触させる
とCF3CCl3に変換できることも知られている。
しかし、CF3CFClCF2Clは、AlCl3に100℃で2
昼夜接触させても転移化合物は得られない。
本発明者らは、2・2−ジハロゲノヘキサフル
オロプロパンの効率的な製法について研究を重ね
た結果、本発明を完成したものである。
本発明の要旨は、式: CF3CFXCF2X () 〔式中、Xは塩素または臭素を表わす。〕 で示される化合物を高温でフツ素化アルミナに接
触させて式: CF3CX2CF3 () 〔式中、Xは前記と同意義。〕 で示される化合物を得ることを特徴とする2・2
−ジハロゲノヘキサフルオロプロパンの製法に存
する。
原料となる化合物()は、たとえばヘキサフ
ルオロプロピレンに塩素または臭素を光照射下に
付加させることにより容易に製造することができ
る。
フツ素化アルミナは、市販のものが使用でき
る。
接触は、好ましくは300〜500℃の高温で行われ
る。300℃以下では目的化合物()の収率が低
下し、一方500℃を越えると副生物の増加や、触
媒の劣化が見られ好ましくない。
圧力は、上記温度範囲で反応系が気相状態を保
つ様に選ばれる。通常、常圧が採用される。
接触時間または空間速度は、フツ化素アルミナ
の量、温度などにより適宜当業者ならば容易に定
められる。
原料化合物()は、不活性ガス、たとえば窒
素などで希釈して用いてもよい。
本発明によれば、従来のAlCl3を用いる方法で
は得られなかつた2・2−ジクロロヘキサフルオ
ロプロパンを収率50%以上で得ることができ、ま
た、2・2−ジブロモヘキサフルオロプロパンも
短時間で60%以上の収率で得られる。
次に実施例を示し本発明を具体的に説明する。
実施例 1 3/4インチ−ハステロイC製反応管にフツ素化
アルミナ48.0gを充填し、これを400℃に保つた。
この反応管に、窒素ガスに同伴させた1・2−ジ
クロロヘキサフルオロプロパン(入口ガス組成、
窒素:1・2−ジクロロヘキサフルオロプロパン
=36:64(容量))を100ml/minで流し、出口ガ
スを氷冷却トラツプおよびドライアイス/メタノ
ール冷却トラツプで捕集した。原料化合物の仕込
量が136.0gになつたところで反応を停止した。
両トラツプには反応混合物計78.8gが捕集され、
NMRの結果、95モル%は2・2−ジクロロヘキ
サフルオロプロパンであり、残部は原料化合物で
あることがわかつた。これより収率は55%と計算
された。
実施例 2 フツ素化アルミナの量を40.0g、接触温度を
430℃、仕込流速を80ml/min、仕込量を83.0g
とする以外は実施例と同様の手順を繰り返したと
ころ、2・2−ジクロロヘキサフルオロプロパン
47.5gが得られた。収率57%。
実施例 3 実施例1と同様の反応管にフツ素化アルミナ50
gを充填し、400℃に保つた。これに、1・2−
ジブロモヘキサフルオロプロパンを定量ポンプに
より30g/hrの速度で4時間流した。出口ガスを
氷冷却トラツプで捕集して反応混合物100gを得
た。このうち75モル%は目的化合物、2%は未反
応原料であつた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式: CF3CFXCF2X 〔式中、Xは塩素または臭素を表わす。〕 で示される化合物を高温でフツ素化アルミナに接
    触させて 式: CF3CX2CF3 〔式中、Xは前記と同意義。〕 で示される化合物を得ることを特徴とする2・2
    −ジハロゲノヘキサフルオロプロパンの製法。 2 接触温度が300〜500℃である特許請求の範囲
    第1項記載の製法。 3 Xが塩素である特許請求の範囲第1項または
    第2項記載の製法。
JP18756483A 1983-10-06 1983-10-06 2,2−ジハロゲノヘキサフルオロプロパンの製法 Granted JPS6078925A (ja)

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JPS6078925A JPS6078925A (ja) 1985-05-04
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JPS6078925A (ja) 1985-05-04

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