JPS63252319A - 超電導体の劣化防止方法 - Google Patents

超電導体の劣化防止方法

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JPS63252319A
JPS63252319A JP62087454A JP8745487A JPS63252319A JP S63252319 A JPS63252319 A JP S63252319A JP 62087454 A JP62087454 A JP 62087454A JP 8745487 A JP8745487 A JP 8745487A JP S63252319 A JPS63252319 A JP S63252319A
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superconductive
superconducting
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Mikio Nakagawa
中川 三紀夫
Yoshimitsu Ikeno
池野 義光
Nobuyuki Sadakata
伸行 定方
Masaru Sugimoto
優 杉本
Tsukasa Kono
河野 宰
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Fujikura Ltd
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  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、たとえば超電導マグネ、ットや超電導ケーブ
ル、あるいは超伝導記憶素子等の超電導デバイスに用い
られる超電導体の劣化防止方法に関するものである。
し従来の技術] 近来、常電導状態から超電導状態へ遷移する臨界温度(
T c)がき゛わめで高い酸化物系の超電導材料が種々
発見されつつある。
この超電導材料の中には、・A−B−Cu−0系(ただ
し、AはL a、 CeSY等のIIIa族元素を示し
、BはSr、Ba等のアルカリ土類金属元素を示す)ペ
ロブスカイト型化合物の材料からなる酸化物系のもの−
がある。
第2図はこのような材料によって作られた薄膜状の超電
導体の一例を示しており、これは、サファイア等からな
る基板1の上に、超電導薄@2が形成されたものである
。この超電導薄膜2は、上記超電導材料からなるターゲ
ットに加速イオンを衝突させ、その表面から叩き出され
た原子を基板l上に薄膜2として付着させる高周波スパ
ッタ法によって作られたものである。
[発明が解決しようとする問題点] ところで、上記系の材料からなる超電導薄膜2は、大気
に置かれた場合、その表面が大気に露出するため、酸素
原子が大気中に抜は出て結晶格子中に酸素空格子点が多
数存在する傾向があり、この酸素空格子点の量によって
臨界温度(T c)等の超電導特性が大きく変化する。
また、上記超電導材料の中のへ元素やB元素の酸化物等
が薄膜2の結晶粒界等に存在すると、これらが大気中の
水分および炭酸ガスと反応して水酸化物や炭酸化物とな
り、このため、薄膜2が変質することにより劣化して満
足な超電導特性が得られなくなる可能性がある。
このように、上記超電導薄膜2は大気に露出することに
より、大気中に含まれる成分と反応してその超電導特性
に影響を受け、特に体積に比べて表面積が大きい薄膜で
あるから、大気露出による経時的な特性変化は著しいも
のであった。
[問題点を解決するための手段] 本発明は上記問題点を解決するためになされた乙のであ
って、酸化物系の超電導体の表面に、該超電導体および
大気中に含まれる成分とも反応性を有しない安定な材質
からなる防食層を形成したことを特徴としている。
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
第1図は、本発明をLa −S r −Cu −0系の
超電導薄膜に適用した例を説明するためものであり、符
号2で示されるしのがその超電導薄膜である。
この超電導薄膜2は、La、5rSCu、Oのそれぞれ
が所定の組成に配合された超電導材料のターゲットT、
をスパッタ装置にセットし、Arガス+0.ガスの雰囲
気で高周波マグネトロンスパッタリングを行なうことに
より、サファイア等からなる基板1上に形成されたもの
である。
次に、この超電導体2の劣化を防止する方法の一例を本
発明に沿って説明する。
まず、Pt等からなる防食層材料のターゲットT!を用
意する。そして、このターゲ′ットT、をスパッタ装置
にセットし、上記と同様にしてスパッタリングを行なう
ことにより、前記超電導薄@2の上にPtからなる防食
層3を形成する。
このように、超電導体2の上にPtの防食層3を形成し
たことにより、超電導薄膜2は、大気中において酸素原
子が抜は出ることがなく、このため、臨界温度(T c
)等の超電導特性が劣化することがない。また、超電導
薄膜2と大気中に含まれる水分および炭酸ガスとの反応
を防止でき、超電導薄膜2が変質して劣化することがほ
とんどない。
また、超電導薄膜2の上に防食層3として形成されたP
tは、大気中に含まれる01、水分および二酸化炭素ガ
ス等に対してきわめて安定であり、さらに超電導体2に
含まれる各成分とも拡散等の反応をほとんど示さずきわ
めて安定な材質であるため、超電導薄@2に対して、組
成を変化させる等の影響をおよぼすことがない。したが
って、超電導薄膜2の経時的な劣化を防止することがで
き、長期に亙って超電導特性が高いものが得られる。
なお、上記の場合、基板Iと超電導薄膜2との間に形成
する防食層3としてPtを用いたが、この代わりにPt
−Au合金、Au、またはこれらにCuが適宜量添加さ
れた合金、あるいはA1等、大気および超電導薄膜2に
含まれるいずれの成分に対しても反応性を有することの
ない安定な材質であれば何を用いてもよい。
また、La−8r−Cu−0系の超電導材料に適用した
が、Laの代わりに、Y、5csCe、Pr、Nd。
P IN E u、 G dlT J D Yz Ha
s E r、 T m5Ybz L u等の■a族元素
の1種以上、また、Srの代わりに、Ba、Be、、M
g、Ra等のアルカリ土類金属元素の1種以上が用いら
れた酸化物系のものに適用してもよい。
[実施例コ 次に、本発明の一実施例を具体的に説明する。
まず、L aSS r、 Cu) Oのそれぞれが!、
85:0.f 5:1.0:4.0の組成比率に配合さ
れた超電導材料からなるターゲットを、高周波マグネト
ロンスパッタ法によりA r50%、0t50%−圧力
0.6Paのガス雰囲気下で、サファイアからなる基板
の上に超電導薄膜を形成する。この状態で、この超電導
薄膜の臨界温度(T c)は26Kを示した。
続いて、Ptのターゲットを高周波マグネトロンスパッ
タ法により、A r100%の雰囲気で上記超電導薄膜
の上に膜厚が約1μm0′)Ptからなる防食層を形成
する。
このようにptからなる防食層が表面に形成された超電
導薄膜は、10日間大気中放置後、臨界温度(T c)
は26にと変化がなかった。一方、Pt防食層を形成し
なかった超電導薄膜は、臨界温度(T c)が9にと下
がっていた。
[発明の効果コ 以上、説明したように、本発明の超電導体の劣化防止方
法によれば、超電導体の表面に、該超電導体および大気
中に含まれるあらゆる成分とも反応性を有しない安定な
材質からなる防食層を形成したことにより、大気中にお
いて超電導体から酸素原子が抜は出ることがな(、この
ため、臨界温度(T c)等の超電導特性が劣化するこ
とがない。また、超電導体と大気中に含まれる水分およ
び炭酸ガス等の不純物が反応することを防止でき、この
ため超電導体が変質して劣化することがほとんどない。
この結果、超電導体の経時的な劣化を防止することがで
き、長期に亙って超電導特性が安定した製品を得ること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を説明するためのもので超電
導薄膜の断面図、第2図は従来の超電導薄膜の断面図で
ある。 l・・・・・・基板、2・・・・・・La −S r 
−Cu −0系の超電導材料−からなる薄膜(超電導体
)、3・・・・・・防食層。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 酸化物系の超電導体の表面に、該超電導体および大気中
    に含まれる成分と反応しない安定な材質からなる防食層
    を形成したことを特徴とする超電導体の劣化防止方法。
JP62087454A 1987-04-09 1987-04-09 超電導体の劣化防止方法 Expired - Lifetime JP2579311B2 (ja)

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JPS63252319A true JPS63252319A (ja) 1988-10-19
JP2579311B2 JP2579311B2 (ja) 1997-02-05

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5116809A (en) * 1988-07-13 1992-05-26 Ngk Insulators, Ltd. Oxide series superconductive sintered body and method of producing the same
CN115835768A (zh) * 2023-02-10 2023-03-21 材料科学姑苏实验室 一种超导量子芯片制备用保护层及超导量子芯片

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63248010A (ja) * 1987-04-03 1988-10-14 Hitachi Ltd 超電導線材及びその製造法

Patent Citations (1)

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