JPS63251908A - 磁気ヘツドとその製造方法 - Google Patents
磁気ヘツドとその製造方法Info
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- JPS63251908A JPS63251908A JP62084609A JP8460987A JPS63251908A JP S63251908 A JPS63251908 A JP S63251908A JP 62084609 A JP62084609 A JP 62084609A JP 8460987 A JP8460987 A JP 8460987A JP S63251908 A JPS63251908 A JP S63251908A
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- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- silica sol
- film pattern
- soft magnetic
- adhesive
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気記憶装置に用いられる磁気ヘッドとその製
造方法に関する。
造方法に関する。
近年、磁気テープ、磁気ディスク等の磁気記憶媒体に磁
気的情報を書き込んだり読み出したりするため、薄膜磁
気ヘッド、磁気抵抗効果型磁気ヘッド等の軟磁性薄膜を
用いた磁気ヘッドが開発。
気的情報を書き込んだり読み出したりするため、薄膜磁
気ヘッド、磁気抵抗効果型磁気ヘッド等の軟磁性薄膜を
用いた磁気ヘッドが開発。
実用化されつつある。この種の軟磁性薄膜を用いた磁気
ヘッドは、一般に磁界の検知部となる軟磁性薄膜パター
ンを形成した基板と保護板とを接着剤により貼り合わせ
ることにより検知部を保護し、その後切削加工、研摩工
程を経て磁気記録媒体摺動面を形成していた。この様な
保護板は特に磁気テープ装置、フロッピーディスク装置
等の磁気記憶媒体と磁気ヘッドとが常に接触する場合に
必要であり、従って保護板と基板とを接着する技術も極
めて重要となる。この保護板と軟磁性薄膜パターンを形
成した基板とを貼り合わせるための接着剤は、次の様な
条件を満たす必要がある。
ヘッドは、一般に磁界の検知部となる軟磁性薄膜パター
ンを形成した基板と保護板とを接着剤により貼り合わせ
ることにより検知部を保護し、その後切削加工、研摩工
程を経て磁気記録媒体摺動面を形成していた。この様な
保護板は特に磁気テープ装置、フロッピーディスク装置
等の磁気記憶媒体と磁気ヘッドとが常に接触する場合に
必要であり、従って保護板と基板とを接着する技術も極
めて重要となる。この保護板と軟磁性薄膜パターンを形
成した基板とを貼り合わせるための接着剤は、次の様な
条件を満たす必要がある。
（１）接着剤の厚みが極めて薄く形成できること。
（２）摺動面に接着剤が露出するため、耐摩耗性を向上
させるため適度な硬度を有すること。
させるため適度な硬度を有すること。
（３）磁気記憶媒体との接触を良好にするため、温度、
湿度に対し、膨張及び収縮等の変化がないこと。
湿度に対し、膨張及び収縮等の変化がないこと。
（４）接着作業時の温度により軟磁性薄膜パターンの特
性劣化及び破壊がないこと。
性劣化及び破壊がないこと。
以上のような条件を満たす接着剤で従来より使用されて
いるものとして、酸化鉛等を含有した低融点ガラス、あ
るいはエポキシ系の接着剤が用いられていた。
いるものとして、酸化鉛等を含有した低融点ガラス、あ
るいはエポキシ系の接着剤が用いられていた。
上述した従来の磁気ヘッドの接着剤において、酸化鉛等
を含有した低融点ガラスは、前記の（１）。
を含有した低融点ガラスは、前記の（１）。
（２）、 （３）の条件は満たすことができるものの
、接着温度が極めて高いため、軟磁性薄膜パターンを用
いた磁気ヘッドには適用できなかった。
、接着温度が極めて高いため、軟磁性薄膜パターンを用
いた磁気ヘッドには適用できなかった。
すなわち、磁気ヘッドに用いられる低融点ガラスは接着
作業温度として４００〜５００°Ｃ以上の温度が要求さ
れるため、軟磁性薄膜パターンに用いられている多結晶
軟磁性膜（パーマロイ、センダスト等）の結晶成長、ア
モルファス軟磁性膜（Ｌｏ−メタル系アモルファス）の
結晶化を促し、その磁気特性、ひいては、その電磁変換
能力を大きく劣化させていた。また、薄膜磁気ヘッド等
の様に薄膜パターン中に有機系の充填剤を含む軟磁性薄
膜パターンでは、充填剤が体積変化をおこすため軟磁性
薄膜パターンそのものが破壊されてしまう場合もあった
。低融点ガラスの酸化鉛等の含有量を変えて、接着作業
温度を下げることもできるが、保護板または基板との熱
膨張係数の違いにより、接着面にクランクが生じ、接着
剤としての機能を果たさなくなっていた。更に鉛が含有
されているため耐食性に乏しく、磁気ヘッドの信頼性を
低下させていた。
作業温度として４００〜５００°Ｃ以上の温度が要求さ
れるため、軟磁性薄膜パターンに用いられている多結晶
軟磁性膜（パーマロイ、センダスト等）の結晶成長、ア
モルファス軟磁性膜（Ｌｏ−メタル系アモルファス）の
結晶化を促し、その磁気特性、ひいては、その電磁変換
能力を大きく劣化させていた。また、薄膜磁気ヘッド等
の様に薄膜パターン中に有機系の充填剤を含む軟磁性薄
膜パターンでは、充填剤が体積変化をおこすため軟磁性
薄膜パターンそのものが破壊されてしまう場合もあった
。低融点ガラスの酸化鉛等の含有量を変えて、接着作業
温度を下げることもできるが、保護板または基板との熱
膨張係数の違いにより、接着面にクランクが生じ、接着
剤としての機能を果たさなくなっていた。更に鉛が含有
されているため耐食性に乏しく、磁気ヘッドの信頼性を
低下させていた。
一方、エポキシ接着剤は、その硬化作業温度が１００〜
２００℃と低いため、前述した（４）の条件は満たすこ
とができるものの、（１）〜（３）の条件を満たすこと
ができず、信顛性、耐久性が劣るなどの欠点があった。
２００℃と低いため、前述した（４）の条件は満たすこ
とができるものの、（１）〜（３）の条件を満たすこと
ができず、信顛性、耐久性が劣るなどの欠点があった。
本発明の目的は、上述のような欠点のない磁気ヘッドと
その製造方法を提供することにある。
その製造方法を提供することにある。
第１の本発明は、構成部材が接着剤で接合された磁気ヘ
ッドにおいて、少なくとも一箇所の接合部において用い
られる接着剤が、高分子量無水珪酸のコロイド溶液であ
るシリカゾルであることを特徴とする。
ッドにおいて、少なくとも一箇所の接合部において用い
られる接着剤が、高分子量無水珪酸のコロイド溶液であ
るシリカゾルであることを特徴とする。
第２の本発明は、構成部材を貼り合わせる工程を含む磁
気ヘッドの製造方法において、シリカゾルを磁気ヘッド
構成部材の接合すべき面に塗布する工程と、シリカゾル
が塗布された接合面同士を接触せしめた後、これを加熱
処理する工程とを有することを特徴とする。
気ヘッドの製造方法において、シリカゾルを磁気ヘッド
構成部材の接合すべき面に塗布する工程と、シリカゾル
が塗布された接合面同士を接触せしめた後、これを加熱
処理する工程とを有することを特徴とする。
本発明により従来技術の問題点を解決した。すなわち、
本発明では、軟磁性薄膜パターンが形成された基板と保
護板とを貼り合わせる際の接着剤として、シリカゾル（
高分子量無水珪酸のコロイド溶液）を用いている。この
シリカゾルはゾル状態から水分を蒸発させることにより
、すなわち加熱処理することで、コロイド粒子は接合面
の凹部に強固に付着し、また粒子同士もシロキサン結合
を形成して強固な結合を作るために、非常に良好な接着
剤になり得る。さらに粒子径は数百人の小粒子であり接
着層を極めて薄（形成できること、シロキサン結合を形
成するとコロイド溶液はＳｉＯ□となり、熱膨張係数が
磁気ヘッド構成部材に近くなること、また前記加熱処理
する温度は、軟磁性薄膜パターンめ特性が劣化する温度
以下に設定することができる等の特徴を有している。
本発明では、軟磁性薄膜パターンが形成された基板と保
護板とを貼り合わせる際の接着剤として、シリカゾル（
高分子量無水珪酸のコロイド溶液）を用いている。この
シリカゾルはゾル状態から水分を蒸発させることにより
、すなわち加熱処理することで、コロイド粒子は接合面
の凹部に強固に付着し、また粒子同士もシロキサン結合
を形成して強固な結合を作るために、非常に良好な接着
剤になり得る。さらに粒子径は数百人の小粒子であり接
着層を極めて薄（形成できること、シロキサン結合を形
成するとコロイド溶液はＳｉＯ□となり、熱膨張係数が
磁気ヘッド構成部材に近くなること、また前記加熱処理
する温度は、軟磁性薄膜パターンめ特性が劣化する温度
以下に設定することができる等の特徴を有している。
従って、軟磁性薄膜パターンの磁気特性を劣化させるこ
となく、耐摩耗性、耐久性が改善され、しかも耐熱性、
耐湿性に優れ、信頼性のある磁気ヘッドが得られる。
となく、耐摩耗性、耐久性が改善され、しかも耐熱性、
耐湿性に優れ、信頼性のある磁気ヘッドが得られる。
シリカゾルはさらに、軟磁性薄膜パターンに対する影響
を考慮しなくてよい磁気ヘッド構成部材の接着面の接着
にも非常に有効な接着剤となる。
を考慮しなくてよい磁気ヘッド構成部材の接着面の接着
にも非常に有効な接着剤となる。
次に本発明の実施例について図面を参照して説明する。
第１図は、本発明の一実施例における磁気ヘッドの構造
を示す図である。第１図において、ＡｌｔＯ，−ＴｉＣ
系セラミックスから成る基板１上に、電磁変換機能を有
する軟磁性薄膜パターン３と、これを保護するため／ｌ
！２０．スパッタ膜より成る絶縁Ｎ２が形成され、軟磁
性薄膜パターン３からは、外部の記録再生回路（図示せ
ず）と電気的接続を行うためのリード線８が導出されて
いる。
を示す図である。第１図において、ＡｌｔＯ，−ＴｉＣ
系セラミックスから成る基板１上に、電磁変換機能を有
する軟磁性薄膜パターン３と、これを保護するため／ｌ
！２０．スパッタ膜より成る絶縁Ｎ２が形成され、軟磁
性薄膜パターン３からは、外部の記録再生回路（図示せ
ず）と電気的接続を行うためのリード線８が導出されて
いる。
保護板４はＡｆｆ、０３−ＴｉＣ系セラミックスから成
り、Ｌ字型に加工されている。保護板４には絶縁層２と
接着する面に、リード線８を逃がすための凹部９と、シ
リカゾルの溶媒の蒸発を促すように溝７が形成されてい
る。保護板４の溝７が形成されている接合面と基板１の
接合面は接着剤で強固に接着されている。この磁気ヘッ
ドの摺動面（軟磁性薄膜パターン３が露出している面）
は、平面研１９． Ｒ面研磨されている。
り、Ｌ字型に加工されている。保護板４には絶縁層２と
接着する面に、リード線８を逃がすための凹部９と、シ
リカゾルの溶媒の蒸発を促すように溝７が形成されてい
る。保護板４の溝７が形成されている接合面と基板１の
接合面は接着剤で強固に接着されている。この磁気ヘッ
ドの摺動面（軟磁性薄膜パターン３が露出している面）
は、平面研１９． Ｒ面研磨されている。
このような構造の磁気ヘッドで、基板１と保護板４との
接着は、次のようにして行った。すなわち、基板１の接
合部にシリカゾルを塗布し、保護板４と接着した。この
場合の接着条件としては、 □接合面を約５００ｇ／ｃ
ｍ”で加圧しながら、３００’Ｃ，２時間の加熱を行っ
た。その結果、シリカゾルはシラキサン結合を形成し縮
合物６となり強固に接合した。
接着は、次のようにして行った。すなわち、基板１の接
合部にシリカゾルを塗布し、保護板４と接着した。この
場合の接着条件としては、 □接合面を約５００ｇ／ｃ
ｍ”で加圧しながら、３００’Ｃ，２時間の加熱を行っ
た。その結果、シリカゾルはシラキサン結合を形成し縮
合物６となり強固に接合した。
第２図は本発明の製造方法の一例を示す図である。
第２図（ａ）に示すように、セラミックス、フェライト
等の部材より成る基板１上に、薄膜磁気ヘッド、磁気抵
抗効果型磁気ヘッド等の電磁変換機能を有する軟磁性薄
膜パターン３がフォトリソグラフィ技術を用いて形成す
る。なお、軟磁性薄膜パターン３は、周囲と電気的また
は磁気的に分離するためＳｉＯ□、 Ａ ｌ ｔ ０２
等の絶縁層２で被覆する。絶縁層２の表面にシリカゾル
５を塗布する。続いて、前述のシリカゾル５が塗布され
た面にセラミックス、フェライト等より成る保護板４を
接着する。保護板４は、接合面側に溝７を設けておき、
その溝７によって接着層内部の溶媒の諺発を促している
。次に、加重Ｐを印加した状態で加熱処理する。この加
熱処理により、溶媒を蒸発させ、さらに粒子同士のシロ
キサン結合を形成させ縮合物６となし、接着層を形成し
た。この場合、加熱する程、硬い接着層が得られる。ま
た加熱温度は、軟磁性薄膜パターン３の熱による特性劣
化を考慮して３００℃が望ましい。また接着強度は磁気
ヘッドの使用に充分耐えられる強度であり、接着層の厚
さについてはシリカゾルの濃度、粘度を調整するか、更
には接着面に前もってシリカゾルをスピンコードの後、
加熱し、薄膜化、してお（ことで接着層の厚さを制御す
ることができる。
等の部材より成る基板１上に、薄膜磁気ヘッド、磁気抵
抗効果型磁気ヘッド等の電磁変換機能を有する軟磁性薄
膜パターン３がフォトリソグラフィ技術を用いて形成す
る。なお、軟磁性薄膜パターン３は、周囲と電気的また
は磁気的に分離するためＳｉＯ□、 Ａ ｌ ｔ ０２
等の絶縁層２で被覆する。絶縁層２の表面にシリカゾル
５を塗布する。続いて、前述のシリカゾル５が塗布され
た面にセラミックス、フェライト等より成る保護板４を
接着する。保護板４は、接合面側に溝７を設けておき、
その溝７によって接着層内部の溶媒の諺発を促している
。次に、加重Ｐを印加した状態で加熱処理する。この加
熱処理により、溶媒を蒸発させ、さらに粒子同士のシロ
キサン結合を形成させ縮合物６となし、接着層を形成し
た。この場合、加熱する程、硬い接着層が得られる。ま
た加熱温度は、軟磁性薄膜パターン３の熱による特性劣
化を考慮して３００℃が望ましい。また接着強度は磁気
ヘッドの使用に充分耐えられる強度であり、接着層の厚
さについてはシリカゾルの濃度、粘度を調整するか、更
には接着面に前もってシリカゾルをスピンコードの後、
加熱し、薄膜化、してお（ことで接着層の厚さを制御す
ることができる。
以上の工程の結果、第２図（ｂ）に示す如く、保護板４
と絶縁層２が縮合物６で接合された磁気ヘッドが得られ
る。
と絶縁層２が縮合物６で接合された磁気ヘッドが得られ
る。
本発明で用いられるシリカゾルは、軟磁性薄膜パターン
に対する影響を考慮しなくてよい磁気ヘッド、たとえば
、バルクヘッドのようにコイルを使用した磁気ヘッドの
組立用の接着剤としても非常に有効である。また接着層
を薄くできるので、狭ギャップのギャップ形成剤として
使用することもできる。
に対する影響を考慮しなくてよい磁気ヘッド、たとえば
、バルクヘッドのようにコイルを使用した磁気ヘッドの
組立用の接着剤としても非常に有効である。また接着層
を薄くできるので、狭ギャップのギャップ形成剤として
使用することもできる。
以上説明したように、本発明では磁気ヘッド構成部材の
接着、特に軟磁性薄膜パターンが形成された基板と保護
板とを貼り合わせる際の接着剤として、シリカゾル（高
分子量無水珪酸のコロイド溶液）を使用することで軟磁
性薄膜パターンの熱による特性劣化を防止することがで
き、製造歩留まりが大きく向上した。
接着、特に軟磁性薄膜パターンが形成された基板と保護
板とを貼り合わせる際の接着剤として、シリカゾル（高
分子量無水珪酸のコロイド溶液）を使用することで軟磁
性薄膜パターンの熱による特性劣化を防止することがで
き、製造歩留まりが大きく向上した。
また、コロイド粒子径が小径（数百人）のため接着層が
薄くすることができ、接着精度が大きく向上し、接着層
すなわちシリカゾルの熱によるシロキサン結合を形成し
た縮合層は、高硬度であり、無機質の接着層を形成し、
従来の接着剤に比べ、耐候性に優れ、高信顛性の磁気ヘ
ッドが得られた。
薄くすることができ、接着精度が大きく向上し、接着層
すなわちシリカゾルの熱によるシロキサン結合を形成し
た縮合層は、高硬度であり、無機質の接着層を形成し、
従来の接着剤に比べ、耐候性に優れ、高信顛性の磁気ヘ
ッドが得られた。
第１図は本発明の磁気ヘッドの一例を示す図、第２図は
本発明の磁気ヘッド製造方法の工程を示す図である。 １・・・・・基板 ２・・・・・絶縁層 ３・・・・・軟磁性薄膜パターン ４・・・・・保護板 ５・・・・・シリカゾル ６・・・・・縮合物 ７・・・・・溝 ８・・・・・リード線 ９・・・・・凹部 代理人 弁理士 岩 佐 義 幸 ３軟磁牲簿７嘆ノぐターン 第１図
本発明の磁気ヘッド製造方法の工程を示す図である。 １・・・・・基板 ２・・・・・絶縁層 ３・・・・・軟磁性薄膜パターン ４・・・・・保護板 ５・・・・・シリカゾル ６・・・・・縮合物 ７・・・・・溝 ８・・・・・リード線 ９・・・・・凹部 代理人 弁理士 岩 佐 義 幸 ３軟磁牲簿７嘆ノぐターン 第１図
Claims (3)
- （１）構成部材が接着剤で接合された磁気ヘッドにおい
て、少なくとも一箇所の接合部において用いられる接着
剤が、高分子量無水珪酸のコロイド溶液であるシリカゾ
ルであることを特徴とする磁気ヘッド。 - （２）シリカゾルを用いた接着剤により接合される磁気
ヘッド構成部材のうち少なくとも一方の構成部材の接合
面上またはその近傍には、軟磁性薄膜パターンが形成さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
磁気ヘッド。 - （３）構成部材を貼り合わせる工程を含む磁気ヘッドの
製造方法において、シリカゾルを磁気ヘッド構成部材の
接合すべき面に塗布する工程と、シリカゾルが塗布され
た接合面同士を接触せしめた後、これを加熱処理する工
程とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62084609A JPS63251908A (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気ヘツドとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62084609A JPS63251908A (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気ヘツドとその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63251908A true JPS63251908A (ja) | 1988-10-19 |
Family
ID=13835434
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62084609A Pending JPS63251908A (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 磁気ヘツドとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63251908A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5423455A (en) * | 1977-07-25 | 1979-02-22 | Atari Inc | Oscillation modulator |
| JPS5745705A (en) * | 1980-09-02 | 1982-03-15 | Seikosha Co Ltd | Oscillator |
-
1987
- 1987-04-08 JP JP62084609A patent/JPS63251908A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5423455A (en) * | 1977-07-25 | 1979-02-22 | Atari Inc | Oscillation modulator |
| JPS5745705A (en) * | 1980-09-02 | 1982-03-15 | Seikosha Co Ltd | Oscillator |
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