JPS6324601A - 描画用抵抗体組成物 - Google Patents
描画用抵抗体組成物Info
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- JPS6324601A JPS6324601A JP61168348A JP16834886A JPS6324601A JP S6324601 A JPS6324601 A JP S6324601A JP 61168348 A JP61168348 A JP 61168348A JP 16834886 A JP16834886 A JP 16834886A JP S6324601 A JPS6324601 A JP S6324601A
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Landscapes
- Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
- Non-Adjustable Resistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はラジオ受信機、テレビ受像機、通信機、計測機
などに用いることのできる厚膜回路に使用される描画用
抵抗体組成物に関するものである。
などに用いることのできる厚膜回路に使用される描画用
抵抗体組成物に関するものである。
従来の技術
一般に抵抗体組成物として特性を考慮して金属酸化物が
広く使用されている。特に金属酸化物としては、ルテニ
ウムの酸化物が使われている。
広く使用されている。特に金属酸化物としては、ルテニ
ウムの酸化物が使われている。
抵抗ペーストの構成を大別すると、ルテニウム酸化物、
ガラスフリット、バインダー、溶剤、および添加剤から
出来ておシ、ルテニウム酸化物として、酸化ルテニウム
、ルテニウム酸鉛、ルテニウム酸ビスマス等が使われ、
ガラスフリットは、ホウケイ酸鉛系、バインダーは、エ
チルセルロース、メチルセルロース等が使われ、溶剤と
してはテルピネオール、エチルセルロースアセテート等
であり、その他特性改質を目的として、種々の添加剤が
使われている。これらを混練しペーストとする製造法と
して、特開昭53−100496号に、ルテニウム酸化
物とガラスフリットを予じめ加熱溶融後に粉砕し、ペー
ストにする製造法が提案されている。上記製造方法によ
シ得られたペーストの塗布方法とし従来のスクリーン印
刷法に変わり、抵抗値精度の向上、機種切替を迅速に行
なうことを目的として、ノズルからペーストを吐出する
描画法が提案されている。
ガラスフリット、バインダー、溶剤、および添加剤から
出来ておシ、ルテニウム酸化物として、酸化ルテニウム
、ルテニウム酸鉛、ルテニウム酸ビスマス等が使われ、
ガラスフリットは、ホウケイ酸鉛系、バインダーは、エ
チルセルロース、メチルセルロース等が使われ、溶剤と
してはテルピネオール、エチルセルロースアセテート等
であり、その他特性改質を目的として、種々の添加剤が
使われている。これらを混練しペーストとする製造法と
して、特開昭53−100496号に、ルテニウム酸化
物とガラスフリットを予じめ加熱溶融後に粉砕し、ペー
ストにする製造法が提案されている。上記製造方法によ
シ得られたペーストの塗布方法とし従来のスクリーン印
刷法に変わり、抵抗値精度の向上、機種切替を迅速に行
なうことを目的として、ノズルからペーストを吐出する
描画法が提案されている。
発明′が解決しようとする問題点
ルテニウム酸化物、ガラスフリット、バインダー、溶剤
等を単に混練したペーストと、ルテニウム酸化物とガラ
スフリットを予じめ加熱溶融し、冷却後微粉砕しバイン
ダー、溶剤等を加えて混練する製造法のいずれのペース
トに於いても、ノズルにペーストを充填し吐出するさい
に、ガラスフリットの粒径が1〜10μmの範囲のガラ
スフリットを使用しているため吐出口で粒径の大きいガ
ラスフリットによりノズルつまりを発生し安定吐出が出
来にくい問題があった。
等を単に混練したペーストと、ルテニウム酸化物とガラ
スフリットを予じめ加熱溶融し、冷却後微粉砕しバイン
ダー、溶剤等を加えて混練する製造法のいずれのペース
トに於いても、ノズルにペーストを充填し吐出するさい
に、ガラスフリットの粒径が1〜10μmの範囲のガラ
スフリットを使用しているため吐出口で粒径の大きいガ
ラスフリットによりノズルつまりを発生し安定吐出が出
来にくい問題があった。
さらには、細いガラスフリットが優先的に吐出され粗い
ガラスフリットが吐出しにくいためセラミック基板上に
吐出された抵抗ペーストの分散がミクロ的には、不均一
であるため焼成後の初期抵抗値ばらつきが大きい等の問
題があった。
ガラスフリットが吐出しにくいためセラミック基板上に
吐出された抵抗ペーストの分散がミクロ的には、不均一
であるため焼成後の初期抵抗値ばらつきが大きい等の問
題があった。
問題点を解決するだめの手段
上記従来の問題点を解決するため、木簡1の発明では、
ルテニウム酸化物、ガラスフリット、バインダー、溶剤
を含む抵抗体組成物において、ガラスフリットもしくは
ルテニウム酸化物を含有するガラスフリットの粒径を6
μm以下にしたものである。
ルテニウム酸化物、ガラスフリット、バインダー、溶剤
を含む抵抗体組成物において、ガラスフリットもしくは
ルテニウム酸化物を含有するガラスフリットの粒径を6
μm以下にしたものである。
また、本発明の第2の発明は、上記に加え、ガラスフリ
ットもしくは、ルテニウム酸化物を含有するガラスフリ
ットの粒形を丸くしたことを特徴とする抵抗体組成物で
ある。
ットもしくは、ルテニウム酸化物を含有するガラスフリ
ットの粒形を丸くしたことを特徴とする抵抗体組成物で
ある。
作 用
本発明に於ける第1の発明の作用は、ガラスフリットの
粒径が6μm以下であるためノズル吐出口よりガラスフ
リットが吐出されるさいに、ガラスフリットがスムース
に移行できその結果、安定な吐出が可能となる。
粒径が6μm以下であるためノズル吐出口よりガラスフ
リットが吐出されるさいに、ガラスフリットがスムース
に移行できその結果、安定な吐出が可能となる。
又、本発明に於ける第2の発明の作用は、加えてガラス
フリットの粒径が丸くなっているため、吐出されるさい
に、ガラスフリット相互間の抵抗が少なくなり、いわゆ
るガラスフリット間のからみがなく安定吐出ができる。
フリットの粒径が丸くなっているため、吐出されるさい
に、ガラスフリット相互間の抵抗が少なくなり、いわゆ
るガラスフリット間のからみがなく安定吐出ができる。
実施例
(実施例1)
ボールミルで粉砕分級した粒径1〜5μmで平均粒径2
μmの硼珪酸鉛系ガラスフリッ)(PbO8o重量%、
Al2O36重量%、82032重量%、810212
重量%)70重量%、酸化ルテニウム4重量%、エチル
セルロースのテルピネオール溶液を26重量%の配合比
で三本ロールによシ混練しペーストを製作し、このペー
ストを内径12簡、吐出口寸法が1.0 mm X 0
.1 amのノズルに充填し、吐出圧力2.5 K9/
cd描画速度30 rran / Secで、予じめA
v′P d電極が形成されたアルミナ基板上に抵抗体幅
1mで長さ2rtrmの描画を行ない、150℃、10
分乾燥を行なった後、焼成温度850’(:、、ピーク
温度4分、トータル焼成時間15分の近赤外線ヒーター
による焼成を行なった。その結果、ノズルつまりも全く
発生せず、シート抵抗値ωKo/Dで抵抗値ばらつき(
3σ/!X100)が100−の抵抗体が得ちれた。
μmの硼珪酸鉛系ガラスフリッ)(PbO8o重量%、
Al2O36重量%、82032重量%、810212
重量%)70重量%、酸化ルテニウム4重量%、エチル
セルロースのテルピネオール溶液を26重量%の配合比
で三本ロールによシ混練しペーストを製作し、このペー
ストを内径12簡、吐出口寸法が1.0 mm X 0
.1 amのノズルに充填し、吐出圧力2.5 K9/
cd描画速度30 rran / Secで、予じめA
v′P d電極が形成されたアルミナ基板上に抵抗体幅
1mで長さ2rtrmの描画を行ない、150℃、10
分乾燥を行なった後、焼成温度850’(:、、ピーク
温度4分、トータル焼成時間15分の近赤外線ヒーター
による焼成を行なった。その結果、ノズルつまりも全く
発生せず、シート抵抗値ωKo/Dで抵抗値ばらつき(
3σ/!X100)が100−の抵抗体が得ちれた。
次に、粒径0.6〜1μmで平均粒径0.8μmの硼珪
酸鉛系ガラスフリット(Pb08o重量%、At 20
3 e 重i%、 B2O22重量%、S i02 1
2重量%)70重量%、酸化ルテニ’)ム 4M量%、
エチルセルロースのテルピネオール溶液を26重量−の
配合比で三本ロールにより混練しペーストを製作した。
酸鉛系ガラスフリット(Pb08o重量%、At 20
3 e 重i%、 B2O22重量%、S i02 1
2重量%)70重量%、酸化ルテニ’)ム 4M量%、
エチルセルロースのテルピネオール溶液を26重量−の
配合比で三本ロールにより混練しペーストを製作した。
このペーストラ前述の描画方法と同様に描画を行ない同
様の結果が得られた。
様の結果が得られた。
又、比較のために、粒径6〜10μmで平均粒径8μm
の前述と同じ硼珪酸ガラスを同様の配合比でペーストを
製作し、同じように描画を行なった。その結果、抵抗体
を60点描画後にノズルっまシが一部発生し、描画され
た抵抗体にカスレが発生した。これの抵抗値ばらつきは
30%と極めて悪く実用性に乏しいものであった。
の前述と同じ硼珪酸ガラスを同様の配合比でペーストを
製作し、同じように描画を行なった。その結果、抵抗体
を60点描画後にノズルっまシが一部発生し、描画され
た抵抗体にカスレが発生した。これの抵抗値ばらつきは
30%と極めて悪く実用性に乏しいものであった。
(実施例2)
次に、酸化ルテニウム4重量%と硼珪酸系ガラス7o重
量%を予じめ900℃で加熱溶融しその後冷却、粉砕し
粒径1〜5μmで平均粒径2μmの混合物を70重量%
、エチルセルロースのパインオイル溶液を30重量%加
えて三本ロール混練しペーストを製作し、実施例1と同
様に描画、乾燥、焼成を行ない、ノズルつまりが全く発
生せず、抵抗値ばらつき10%の極めて抵抗値精度の良
い抵抗体が得られた。図に粒径と抵抗値ばらつきの関係
を示す。
量%を予じめ900℃で加熱溶融しその後冷却、粉砕し
粒径1〜5μmで平均粒径2μmの混合物を70重量%
、エチルセルロースのパインオイル溶液を30重量%加
えて三本ロール混練しペーストを製作し、実施例1と同
様に描画、乾燥、焼成を行ない、ノズルつまりが全く発
生せず、抵抗値ばらつき10%の極めて抵抗値精度の良
い抵抗体が得られた。図に粒径と抵抗値ばらつきの関係
を示す。
以上のことから、描画法に用いるペーストに於いて抵抗
体の抵抗値ばらつきに寄因するものはペースト中に含有
される物質の粒子の大きさが極めて重要であり、特に粒
径の小さい方が良いことが判る。ペーストの製造プロセ
スは、酸化ルテニウムとガラスフリットの単なる混合物
でも良く、予じめ酸化ルテニウムをガラスフリットと加
熱溶融した物質のどちらでも良く、いずれの場合でも粒
径が6μm以下であることが重要なポイントである。
体の抵抗値ばらつきに寄因するものはペースト中に含有
される物質の粒子の大きさが極めて重要であり、特に粒
径の小さい方が良いことが判る。ペーストの製造プロセ
スは、酸化ルテニウムとガラスフリットの単なる混合物
でも良く、予じめ酸化ルテニウムをガラスフリットと加
熱溶融した物質のどちらでも良く、いずれの場合でも粒
径が6μm以下であることが重要なポイントである。
(実施例3)
次に、アトマイズ法によシ作製した球状で粒径が1〜5
μmの硼珪酸ガラスフリット70重量%、酸化ルテニウ
ム4重量%、エチルセルロースパインオイル溶液26重
量%を三本ロールで混練し、ペーストを作製した。この
ペーストを実施例1と同様に描画、乾燥、焼成を行なっ
た。その結果、吐出安定性が極めて良好で、ノズルつま
りが全く発生せず、抵抗値ばらつきが10チの抵抗体が
得られた。これも、描画法に適用するペーストに於いて
、抵抗値ばらつきを小さくするには、吐出量を常に一定
にする事が大事であり、ペースト中に含有される物質が
球状をなしているため吐出口で安定吐出が可能となり、
その結果、吐出量が変わらず抵抗値ばらつきが小さくな
るものである。よって、ガラスフリットが球状になって
いることが重要なポイントである。
μmの硼珪酸ガラスフリット70重量%、酸化ルテニウ
ム4重量%、エチルセルロースパインオイル溶液26重
量%を三本ロールで混練し、ペーストを作製した。この
ペーストを実施例1と同様に描画、乾燥、焼成を行なっ
た。その結果、吐出安定性が極めて良好で、ノズルつま
りが全く発生せず、抵抗値ばらつきが10チの抵抗体が
得られた。これも、描画法に適用するペーストに於いて
、抵抗値ばらつきを小さくするには、吐出量を常に一定
にする事が大事であり、ペースト中に含有される物質が
球状をなしているため吐出口で安定吐出が可能となり、
その結果、吐出量が変わらず抵抗値ばらつきが小さくな
るものである。よって、ガラスフリットが球状になって
いることが重要なポイントである。
発明の効果
以上のことから本発明の効果は、描画法に於ける抵抗ペ
ーストの安定吐出を可能ならしめるものであり、その結
果抵抗ペースト中の導電物(ルテニウム酸化物)と絶縁
物(ガラスフリット)の分散状態が良好となり、又、抵
抗ペーストの吐出量が常に一定になっているために極め
て抵抗値精度が良好となシ、後の工程で抵抗トリミング
等をするさいのカット本数の低減、カット長さの短縮に
よるトリミング時間の短縮と信頼性の向上、さらにはト
リミング不要にすることも可能となる。
ーストの安定吐出を可能ならしめるものであり、その結
果抵抗ペースト中の導電物(ルテニウム酸化物)と絶縁
物(ガラスフリット)の分散状態が良好となり、又、抵
抗ペーストの吐出量が常に一定になっているために極め
て抵抗値精度が良好となシ、後の工程で抵抗トリミング
等をするさいのカット本数の低減、カット長さの短縮に
よるトリミング時間の短縮と信頼性の向上、さらにはト
リミング不要にすることも可能となる。
図はガラスフリットの粒径と抵抗値ばらつきの関係を示
したグラフである。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名□辷
径(lJrn )
したグラフである。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名□辷
径(lJrn )
Claims (2)
- (1)ルテニウム酸化物、ガラスフリット、バインダー
、溶剤を含む抵抗体組成物において、ガラスフリットも
しくは、ルテニウム酸化物を含有するガラスフリットの
粒径を5μm以下にしたことを特徴とする描画用抵抗体
組成物。 - (2)ルテニウム酸化物、ガラスフリット、バインダー
、溶剤を含む抵抗体組成物において、ガラスフリットも
しくは、ルテニウム酸化物を含有するガラスフリットの
粒径を5μm以下とし、かつ粒形を球状にしたことを特
徴とする描画用抵抗体組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61168348A JPS6324601A (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | 描画用抵抗体組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61168348A JPS6324601A (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | 描画用抵抗体組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6324601A true JPS6324601A (ja) | 1988-02-02 |
Family
ID=15866395
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61168348A Pending JPS6324601A (ja) | 1986-07-17 | 1986-07-17 | 描画用抵抗体組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6324601A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021221175A1 (ja) * | 2020-05-01 | 2021-11-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 厚膜抵抗ペースト、厚膜抵抗体、及び電子部品 |
WO2021221173A1 (ja) * | 2020-05-01 | 2021-11-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 厚膜抵抗ペースト、厚膜抵抗体、及び電子部品 |
WO2021221174A1 (ja) * | 2020-05-01 | 2021-11-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 厚膜抵抗ペースト、厚膜抵抗体、及び電子部品 |
WO2021221172A1 (ja) * | 2020-05-01 | 2021-11-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 厚膜抵抗ペースト、厚膜抵抗体、及び電子部品 |
-
1986
- 1986-07-17 JP JP61168348A patent/JPS6324601A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021221175A1 (ja) * | 2020-05-01 | 2021-11-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 厚膜抵抗ペースト、厚膜抵抗体、及び電子部品 |
WO2021221173A1 (ja) * | 2020-05-01 | 2021-11-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 厚膜抵抗ペースト、厚膜抵抗体、及び電子部品 |
WO2021221174A1 (ja) * | 2020-05-01 | 2021-11-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 厚膜抵抗ペースト、厚膜抵抗体、及び電子部品 |
WO2021221172A1 (ja) * | 2020-05-01 | 2021-11-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 厚膜抵抗ペースト、厚膜抵抗体、及び電子部品 |
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