JPS63243238A - 半導体装置のボンデイングワイヤ用Au合金極細線 - Google Patents
半導体装置のボンデイングワイヤ用Au合金極細線Info
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- JPS63243238A JPS63243238A JP62077998A JP7799887A JPS63243238A JP S63243238 A JPS63243238 A JP S63243238A JP 62077998 A JP62077998 A JP 62077998A JP 7799887 A JP7799887 A JP 7799887A JP S63243238 A JPS63243238 A JP S63243238A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、高温強度を有し、かつ耐熱性C:もすぐれ
たAu合金極細線に関するものであって、特に、これを
半導体装置のボンディングワイヤとして用いた場合に、
ワイヤボンディング時のワイヤーループ高さを窩〈保ち
、ループの変形、さらに樹脂モールド時のワイヤ流れや
ワイヤネック部の切れを防止することができる半導体装
置のボンディングワイヤ用Au合金極細線に関するもの
である。
たAu合金極細線に関するものであって、特に、これを
半導体装置のボンディングワイヤとして用いた場合に、
ワイヤボンディング時のワイヤーループ高さを窩〈保ち
、ループの変形、さらに樹脂モールド時のワイヤ流れや
ワイヤネック部の切れを防止することができる半導体装
置のボンディングワイヤ用Au合金極細線に関するもの
である。
従来、一般に、ICやLSIなどの半導体装置は、
(al まず、リード素材として板厚: 0.1〜0
.3 mm程度のCuおよびCu合金、あるいはNiお
よびNi合金の帯材を用意し、 (bl ついで、上記リード素材よりプレス打抜き加
工により製造せんとする半導体装置の形状(二適合した
リードフレームを形成し。
.3 mm程度のCuおよびCu合金、あるいはNiお
よびNi合金の帯材を用意し、 (bl ついで、上記リード素材よりプレス打抜き加
工により製造せんとする半導体装置の形状(二適合した
リードフレームを形成し。
(C1上記リードフレームの所定個所C二高純度Siあ
るいはGeなどの半導体素子をAgペーストなどの導電
性樹脂を用いて加熱接着するかあるいは予め上記リード
素材の片面(ニメツキしておいたAu 、 Ag。
るいはGeなどの半導体素子をAgペーストなどの導電
性樹脂を用いて加熱接着するかあるいは予め上記リード
素材の片面(ニメツキしておいたAu 、 Ag。
Niあるいはこれらの合金のメッキ層を介して加熱圧着
するかし。
するかし。
(dl 上記半導体素子と上記リードフレームに渡っ
て純Au極細線C二よるワイヤポンディングを施し、(
el 引き続いて、上記半導体素子、ポンディングワ
イヤ、および半導体素子が接着された部分のリードフレ
ームを、これらを保護する目的で、プラスチックを用い
て樹脂モールドし、 (fl 上記リードフレームにおける相互に連なる部
分を切除してリード材を形成し、 fg) 最終的に、上記リード材の脚部f二、半導体
装置の基板への接続を行なうためのはんだ材の被覆溶着
を行なう。
て純Au極細線C二よるワイヤポンディングを施し、(
el 引き続いて、上記半導体素子、ポンディングワ
イヤ、および半導体素子が接着された部分のリードフレ
ームを、これらを保護する目的で、プラスチックを用い
て樹脂モールドし、 (fl 上記リードフレームにおける相互に連なる部
分を切除してリード材を形成し、 fg) 最終的に、上記リード材の脚部f二、半導体
装置の基板への接続を行なうためのはんだ材の被覆溶着
を行なう。
以上fat〜(glの主要工程によって製造され、特(
二、上記の(d)工程におけるワイヤボンディングは1
手動式あるいは自動式のポンディングマシンを用いAu
極細線からなるボンディングワイヤを、酸水素炎または
電気的に溶断し、その際にできる先端部のボール部を温
度:150〜350℃の温度に加熱された状態にある半
導体素子とリードフレームのそれぞれの表面に押圧する
ことC二より行なわれている。
二、上記の(d)工程におけるワイヤボンディングは1
手動式あるいは自動式のポンディングマシンを用いAu
極細線からなるボンディングワイヤを、酸水素炎または
電気的に溶断し、その際にできる先端部のボール部を温
度:150〜350℃の温度に加熱された状態にある半
導体素子とリードフレームのそれぞれの表面に押圧する
ことC二より行なわれている。
上記のように、半導体装置の製造には、ボンディングワ
イヤとして純Au極細線が用いられているが、近年のポ
ンディング技術の向上に伴う高速化、集積度の高密度化
、さら(二経済性などの面から、ボンディングワイヤ(
二も強度、特に高温強度や、耐熱性が要求されるように
なっているが、上記の純Au極細線においては、特に高
温強度が不足しているため(二、上記の半導体装置の製
造工程(二おける(dl工程のワイヤポンディング時に
、ワイヤループにショート(短絡)の原因となる“たる
み”や1だれ”などの変形が発生し易いほか、ループの
高さが不安定でバラツキが大きく、半導体素子とのエツ
ジショートの発生の可能性が大きく、また、耐熱性不足
が原因で、同じく上記(el工程の樹脂モールド時に、
同じくショートの原因となるワイヤ流れや、ワイヤネッ
ク切れが生じ易く、上記“たるみ”、@だれ”、ワイヤ
流れま・たはワイヤネック切れは、半導体装置C二欠陥
を生じせしめ、半導体装置の製造における歩出りの低下
の原因となっているのが現状であった。
イヤとして純Au極細線が用いられているが、近年のポ
ンディング技術の向上に伴う高速化、集積度の高密度化
、さら(二経済性などの面から、ボンディングワイヤ(
二も強度、特に高温強度や、耐熱性が要求されるように
なっているが、上記の純Au極細線においては、特に高
温強度が不足しているため(二、上記の半導体装置の製
造工程(二おける(dl工程のワイヤポンディング時に
、ワイヤループにショート(短絡)の原因となる“たる
み”や1だれ”などの変形が発生し易いほか、ループの
高さが不安定でバラツキが大きく、半導体素子とのエツ
ジショートの発生の可能性が大きく、また、耐熱性不足
が原因で、同じく上記(el工程の樹脂モールド時に、
同じくショートの原因となるワイヤ流れや、ワイヤネッ
ク切れが生じ易く、上記“たるみ”、@だれ”、ワイヤ
流れま・たはワイヤネック切れは、半導体装置C二欠陥
を生じせしめ、半導体装置の製造における歩出りの低下
の原因となっているのが現状であった。
そこで、本発明者等は、上述のような観点から、特に高
温強度および耐熱性にすぐれ、かつまたループ高さを高
く、かつ高さのバラツキを小さく安定(二保つことので
きるボンディングワイヤを開発すべく研究を行なった結
果、上記純Au極細線に、合金成分として、重量%で(
以下、俤は重量%を示す)、 La :O,0OO05〜0.005 %、を含有させ
、さら(二、 Agおよび8iのうちの1種または2種:O,0003
〜0.elチ、 を含有させると、純Au極細線のもつすぐれた伸線加工
性および接合強度を保持した状態で、強度、特に高温強
度および耐熱性が著しく向上するよう(二なり、かかる
Au合金極細線をボンディングワイヤとして用いた場合
には、ポンディングの高速化、並び(二手導体装置の高
密度化および大型化にかかわらず、ポンディング時のワ
イヤループの変形が防止され、さらに樹脂モールド時に
おいてもワイヤ流れやワイヤネック切れが著しく抑制さ
れるよう(二なり、ループ高さも高く、バラツキも小さ
く安定C二保てるようになるという知見を得たのである
。
温強度および耐熱性にすぐれ、かつまたループ高さを高
く、かつ高さのバラツキを小さく安定(二保つことので
きるボンディングワイヤを開発すべく研究を行なった結
果、上記純Au極細線に、合金成分として、重量%で(
以下、俤は重量%を示す)、 La :O,0OO05〜0.005 %、を含有させ
、さら(二、 Agおよび8iのうちの1種または2種:O,0003
〜0.elチ、 を含有させると、純Au極細線のもつすぐれた伸線加工
性および接合強度を保持した状態で、強度、特に高温強
度および耐熱性が著しく向上するよう(二なり、かかる
Au合金極細線をボンディングワイヤとして用いた場合
には、ポンディングの高速化、並び(二手導体装置の高
密度化および大型化にかかわらず、ポンディング時のワ
イヤループの変形が防止され、さらに樹脂モールド時に
おいてもワイヤ流れやワイヤネック切れが著しく抑制さ
れるよう(二なり、ループ高さも高く、バラツキも小さ
く安定C二保てるようになるという知見を得たのである
。
この発明は、上記知見にもとづいてなされたものであっ
て、 La : 0.00005〜0.005 %、を含有し
、さら(二、 AgおよびSiのうちの1種または2種:O,0003
〜0.01チ、 を含有し、残1]がAuと不可避不純物からなる組成を
有するAu合金からなる半導体装置のポンディングワイ
ヤ用Au合金極細線(二特徴を有するものである。
て、 La : 0.00005〜0.005 %、を含有し
、さら(二、 AgおよびSiのうちの1種または2種:O,0003
〜0.01チ、 を含有し、残1]がAuと不可避不純物からなる組成を
有するAu合金からなる半導体装置のポンディングワイ
ヤ用Au合金極細線(二特徴を有するものである。
つぎに、この発明のAu合金極細線(二おいて、成分組
成範囲を上記の通りに限定した理由を説明する。
成範囲を上記の通りに限定した理由を説明する。
(11La
La cは、細線の常温および高温強度を向上させる均
等的作用があるが、その含有量が0.00005チ未満
では、所望の高い常温および高温強度を確保することが
できず、一方、0.005%を越えて含有させると脆(
ヒがみられるようになって線引加工性などが劣化するよ
うC二なることから、その含有量を0.00005〜0
.005チと定・めた。
等的作用があるが、その含有量が0.00005チ未満
では、所望の高い常温および高温強度を確保することが
できず、一方、0.005%を越えて含有させると脆(
ヒがみられるようになって線引加工性などが劣化するよ
うC二なることから、その含有量を0.00005〜0
.005チと定・めた。
(2) AgおよびSi
これらの成分には、Laとの共存において、細線の軟(
ヒ温度を高め、もってボンディング時の細線自体の脆化
並びに変形ループの発生を抑制すると共に、ループ高さ
を高く安定(二保つ均等的作用があるが、その含有量が
0.0003%未満では前記作用に所望の効果が得られ
ず、一方0.01%を越えて含有させると、脆化して線
引加工性などが劣化するようになるばかりでなく、ボン
ディング時の加熱温度で結晶粒界破断を起し易くなるこ
とから、その含有量を0.0003〜0.01%と定め
た。
ヒ温度を高め、もってボンディング時の細線自体の脆化
並びに変形ループの発生を抑制すると共に、ループ高さ
を高く安定(二保つ均等的作用があるが、その含有量が
0.0003%未満では前記作用に所望の効果が得られ
ず、一方0.01%を越えて含有させると、脆化して線
引加工性などが劣化するようになるばかりでなく、ボン
ディング時の加熱温度で結晶粒界破断を起し易くなるこ
とから、その含有量を0.0003〜0.01%と定め
た。
つぎC二、この発明のAu合金極細線を実施例により具
体的に説明する。
体的に説明する。
通常の溶解法により、それぞれ′iE1表(二示される
成分組成をもった溶湯を調製し、鋳造した後、公知の溝
型圧延機を用いて圧延し、引続いて線引加工を行なうこ
と(二よって直径:0.025mの本発明Au合金極細
線1〜6、比較Au合金極細線1〜6、および従来純A
u極細線をそれぞれ製造した。
成分組成をもった溶湯を調製し、鋳造した後、公知の溝
型圧延機を用いて圧延し、引続いて線引加工を行なうこ
と(二よって直径:0.025mの本発明Au合金極細
線1〜6、比較Au合金極細線1〜6、および従来純A
u極細線をそれぞれ製造した。
この結果得られた各種の極細線について、常温引張試験
、並びに極細線がボンディング時にさらされる条件(:
相当する条件、すなわち温度=250℃に20秒間保持
した条件での高温引張試験を行ない、それぞれ破断強度
と伸びを測定した。
、並びに極細線がボンディング時にさらされる条件(:
相当する条件、すなわち温度=250℃に20秒間保持
した条件での高温引張試験を行ない、それぞれ破断強度
と伸びを測定した。
さらC:、これらの極細線をボンディングワイヤとして
用い、高速自動ボンダーにてボンディングした後、半導
体素子との接合強度、ループ話さ、ループ高さのバラツ
キ、ループ変形の有無および樹脂モールド後のワイヤ流
れ鼠をそれぞれ測定した。
用い、高速自動ボンダーにてボンディングした後、半導
体素子との接合強度、ループ話さ、ループ高さのバラツ
キ、ループ変形の有無および樹脂モールド後のワイヤ流
れ鼠をそれぞれ測定した。
なお、ループ変形の有無は、顕微鏡検査により、第1図
に概略正面図で示されるように、半導体素子Sとリード
フレームLとに渡ってボンディングされたワイヤWに、
耐熱性不足が原因でタレが生じ、これが半導体素子(二
接触(エツジショート)している場合を「有J、接触し
ていない場合をr Ill Jとして判定した。
に概略正面図で示されるように、半導体素子Sとリード
フレームLとに渡ってボンディングされたワイヤWに、
耐熱性不足が原因でタレが生じ、これが半導体素子(二
接触(エツジショート)している場合を「有J、接触し
ていない場合をr Ill Jとして判定した。
また、接合強度は、同じく第2図c二概略正面図で示さ
れるように、半導体素子SとリードフレームLとに渡っ
てボンディングされたワイヤWにバネばかりをひっかけ
、これを引き上げ、ワイヤ破断が生じた時点の荷重をも
って表わした。一般C二直径:25μmのワイヤの場合
、52以上の接合強度が要求されるが、これは接合強度
が52未満だとワイヤボンディング後の樹脂掛止などの
工程ζ二際して受ける熱影響や振動などによって結線破
断を引き起すようになるという理由からである。
れるように、半導体素子SとリードフレームLとに渡っ
てボンディングされたワイヤWにバネばかりをひっかけ
、これを引き上げ、ワイヤ破断が生じた時点の荷重をも
って表わした。一般C二直径:25μmのワイヤの場合
、52以上の接合強度が要求されるが、これは接合強度
が52未満だとワイヤボンディング後の樹脂掛止などの
工程ζ二際して受ける熱影響や振動などによって結線破
断を引き起すようになるという理由からである。
また、ループ高さは、ボンディング後の第2図に示され
るrhJをZ軸測微計を用いて測定した結果を示し、最
適高さ=170〜250μm 、 3σnの最適値:3
0以下とされている。
るrhJをZ軸測微計を用いて測定した結果を示し、最
適高さ=170〜250μm 、 3σnの最適値:3
0以下とされている。
さらに、ループ流れ量は、樹脂モールド後の結線(ワイ
ヤW)を直上からX線撮影し、この結果のX線写真にも
とづいて4つのコーナ一部における半導体素子とリード
フレームのボンディング点を結んだ直線C二対するワイ
ヤ最大膨出量をそれぞれ測定し、これらの平均値をもっ
て表わした。
ヤW)を直上からX線撮影し、この結果のX線写真にも
とづいて4つのコーナ一部における半導体素子とリード
フレームのボンディング点を結んだ直線C二対するワイ
ヤ最大膨出量をそれぞれ測定し、これらの平均値をもっ
て表わした。
第1表に示される結果から、本発明Au合金極細線1〜
6は、いずれも従来の純Au極細線に比して、一段と高
い常温および高温強度を有するので、ワイヤボンディン
グ時のループ変形が皆無であ0、かつ従来の純Au極細
線の約2倍の接合強度を示し、さらC:耐熱性にもすぐ
れているので樹脂モールド後のワイヤループ流れがきわ
めて少ないものであった。
6は、いずれも従来の純Au極細線に比して、一段と高
い常温および高温強度を有するので、ワイヤボンディン
グ時のループ変形が皆無であ0、かつ従来の純Au極細
線の約2倍の接合強度を示し、さらC:耐熱性にもすぐ
れているので樹脂モールド後のワイヤループ流れがきわ
めて少ないものであった。
また、比較Au合金極細線1〜6(1見られるように、
構成成分のいずれかの成分含有量でもこの発明の範囲か
ら外れて少ないと、上記特性が劣ったものになるか、あ
るいは、ループ高さが高く安定に保てないことが明らか
である。
構成成分のいずれかの成分含有量でもこの発明の範囲か
ら外れて少ないと、上記特性が劣ったものになるか、あ
るいは、ループ高さが高く安定に保てないことが明らか
である。
」二連のように、この発明のAu合金極細線は、すぐれ
た常温および高温強度並びに耐熱性を有し、さらC二接
合強度にもすぐれ、かつループ高さを高く安定C二保つ
ことができるので、これを半導体装置のボンディングワ
イヤとして用いた場合には、ボンディングの高速化、並
びC二手導体装置の大型化C二もかかわらず、ボンディ
ング時のワイヤループの変形が防止され、さらに樹脂モ
ールド時においてもワイヤ流れやワイヤネック切れが著
しく抑制され、かつタブショートやエツジショートの発
生が少なくなって高い信頼性が得られるものであり、さ
らC二伸線加工性にもすぐれているので、直径:0.0
5n++s以下の極細線への加工も容易であるなど工業
上有用な特性を有するものである。
た常温および高温強度並びに耐熱性を有し、さらC二接
合強度にもすぐれ、かつループ高さを高く安定C二保つ
ことができるので、これを半導体装置のボンディングワ
イヤとして用いた場合には、ボンディングの高速化、並
びC二手導体装置の大型化C二もかかわらず、ボンディ
ング時のワイヤループの変形が防止され、さらに樹脂モ
ールド時においてもワイヤ流れやワイヤネック切れが著
しく抑制され、かつタブショートやエツジショートの発
生が少なくなって高い信頼性が得られるものであり、さ
らC二伸線加工性にもすぐれているので、直径:0.0
5n++s以下の極細線への加工も容易であるなど工業
上有用な特性を有するものである。
第1図はループ変形の状態を示す概略正面図、第2図は
接合強度の測定態様を示す概略正面図である。 S・・・半導体素子、 L・・・リードフレーム、
W・・・ワイヤ。
接合強度の測定態様を示す概略正面図である。 S・・・半導体素子、 L・・・リードフレーム、
W・・・ワイヤ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 La:0.00005〜0.005%、 を含有し、さらに AgおよびSiのうちの1種または2種:0.0003
〜0.01%、 を含有し、残りがAuと不可避不純物からなる組成(以
上重量%)を有するAu合金からなることを特徴とする
半導体装置のボンディングワイヤ用Au合金極細線。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62077998A JPH0830229B2 (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 半導体装置のボンデイングワイヤ用Au合金極細線 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62077998A JPH0830229B2 (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 半導体装置のボンデイングワイヤ用Au合金極細線 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63243238A true JPS63243238A (ja) | 1988-10-11 |
JPH0830229B2 JPH0830229B2 (ja) | 1996-03-27 |
Family
ID=13649471
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62077998A Expired - Lifetime JPH0830229B2 (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 半導体装置のボンデイングワイヤ用Au合金極細線 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0830229B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02170931A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-07-02 | Mitsubishi Metal Corp | 金バンプ用金合金細線 |
US4938923A (en) * | 1989-04-28 | 1990-07-03 | Takeshi Kujiraoka | Gold wire for the bonding of a semiconductor device |
JPH03227543A (ja) * | 1990-02-01 | 1991-10-08 | Mitsubishi Electric Corp | ワイヤボンデイング方法 |
US6045635A (en) * | 1995-04-07 | 2000-04-04 | Ogasa; Kazuo | High-purity hardened gold alloy and a process of producing the same |
-
1987
- 1987-03-31 JP JP62077998A patent/JPH0830229B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02170931A (ja) * | 1988-09-29 | 1990-07-02 | Mitsubishi Metal Corp | 金バンプ用金合金細線 |
US4938923A (en) * | 1989-04-28 | 1990-07-03 | Takeshi Kujiraoka | Gold wire for the bonding of a semiconductor device |
JPH03227543A (ja) * | 1990-02-01 | 1991-10-08 | Mitsubishi Electric Corp | ワイヤボンデイング方法 |
US6045635A (en) * | 1995-04-07 | 2000-04-04 | Ogasa; Kazuo | High-purity hardened gold alloy and a process of producing the same |
US6077366A (en) * | 1995-04-07 | 2000-06-20 | Ogasa; Kazuo | Process for producing a high-purity hard gold alloy |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0830229B2 (ja) | 1996-03-27 |
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