JPS63242322A - 排ガスの洗浄方法 - Google Patents
排ガスの洗浄方法Info
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- JPS63242322A JPS63242322A JP62080521A JP8052187A JPS63242322A JP S63242322 A JPS63242322 A JP S63242322A JP 62080521 A JP62080521 A JP 62080521A JP 8052187 A JP8052187 A JP 8052187A JP S63242322 A JPS63242322 A JP S63242322A
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Landscapes
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- Gas Separation By Absorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、排ガスを、アルカリ剤を注入せる洗浄水のス
プレー領域内を通過させることにより、排ガス中の硫黄
酸化物及び塩化水素を洗浄除去させるようにした排ガス
の洗浄方法に関するものである。
プレー領域内を通過させることにより、排ガス中の硫黄
酸化物及び塩化水素を洗浄除去させるようにした排ガス
の洗浄方法に関するものである。
(従来の技術)
従来一般に、都市ごみ焼却炉の排ガス等を洗浄処理する
場合若しくは重油焚きボイラ等の排ガスを脱硫処理する
場合には水酸化ナトリウム(NaOH)がアルカリ剤と
して使用されていたが、近年、後者の如き脱硫処理分野
においては、高価な水酸化ナトリウムに代えて安価な水
酸化マグネシウム(Mg(OH)2)を使用する傾向に
ある。
場合若しくは重油焚きボイラ等の排ガスを脱硫処理する
場合には水酸化ナトリウム(NaOH)がアルカリ剤と
して使用されていたが、近年、後者の如き脱硫処理分野
においては、高価な水酸化ナトリウムに代えて安価な水
酸化マグネシウム(Mg(OH)2)を使用する傾向に
ある。
しかるに、前者の如き洗浄処理分野においては、相変ら
ず高価な水酸化ナトリウムが使用されている。
ず高価な水酸化ナトリウムが使用されている。
これは、硫黄酸化物(SOx )の除去のみを目的とす
る脱硫処理においては、水酸化ナトリウムに代えて水酸
化マグネシウムを使用しても硫黄酸化物の除去効果が殆
ど変わらず、水酸化マグネシウムによる硫黄酸化物の除
去処理技術が確立されているが、都市ごみ焼却炉排ガス
の如く硫黄酸化物のみならず高濃度の塩化水素(H(1
)を含む排ガス(硫黄酸化物20〜200ppm+塩化
水素200〜2000ppm、水分5〜50%を含む温
度150〜350’Cの排ガス)を洗浄処理する場合に
は、アルカリ剤として水酸化マグネシウムを使用すると
、水酸化ナトリウムを使用した場合に比して硫黄酸化物
の除去率が大幅に低下して。
る脱硫処理においては、水酸化ナトリウムに代えて水酸
化マグネシウムを使用しても硫黄酸化物の除去効果が殆
ど変わらず、水酸化マグネシウムによる硫黄酸化物の除
去処理技術が確立されているが、都市ごみ焼却炉排ガス
の如く硫黄酸化物のみならず高濃度の塩化水素(H(1
)を含む排ガス(硫黄酸化物20〜200ppm+塩化
水素200〜2000ppm、水分5〜50%を含む温
度150〜350’Cの排ガス)を洗浄処理する場合に
は、アルカリ剤として水酸化マグネシウムを使用すると
、水酸化ナトリウムを使用した場合に比して硫黄酸化物
の除去率が大幅に低下して。
硫黄酸化物及び塩化水素の除去を効果的に行い得ないか
らである。
らである。
このように、硫黄酸化物及び高濃度の塩化水素を含む排
ガスの洗浄処理分野においては、アルカリ剤として高価
な水酸化ナトリウムを使用せざるを得ず、どうしても経
済的な処理を行い得ないでいるのが実情である。
ガスの洗浄処理分野においては、アルカリ剤として高価
な水酸化ナトリウムを使用せざるを得ず、どうしても経
済的な処理を行い得ないでいるのが実情である。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明はかかる実情に鑑みてなされたもので、硫黄酸化
物及び高濃度の塩化水素を含む都市ごみ焼却炉排ガス等
、つまり硫黄酸化物20〜200P P m z塩化水
素20〜200ppm、水分5〜50%を含む温度15
0〜350℃の排ガスを効果的且つ経済的に洗浄処理し
うる排ガスの洗浄方法を提供することを目的とするもの
である。
物及び高濃度の塩化水素を含む都市ごみ焼却炉排ガス等
、つまり硫黄酸化物20〜200P P m z塩化水
素20〜200ppm、水分5〜50%を含む温度15
0〜350℃の排ガスを効果的且つ経済的に洗浄処理し
うる排ガスの洗浄方法を提供することを目的とするもの
である。
(問題点を解決するための手段)
すなわち、この課題を解決した本発明の洗浄方法におい
ては、特に、排ガスを第1及び第2スプレー領域を順次
通過させるようにし、アルカリ剤として第1スプレー領
域においては水酸化マグネシウムを又第2スプレー領域
においては水酸化ナトリウムを夫々使用するのである。
ては、特に、排ガスを第1及び第2スプレー領域を順次
通過させるようにし、アルカリ剤として第1スプレー領
域においては水酸化マグネシウムを又第2スプレー領域
においては水酸化ナトリウムを夫々使用するのである。
水酸化ナトリウム、水酸化マグネシウムの注入量は、通
常、予め設定した運転pH値に基づいて調整するが、特
に、水酸化ナトリウム注入量は第2スプレー領域を経過
した処理済み排ガス中の硫黄酸化物濃度に基づいて調整
制御するようにすることが好ましい。
常、予め設定した運転pH値に基づいて調整するが、特
に、水酸化ナトリウム注入量は第2スプレー領域を経過
した処理済み排ガス中の硫黄酸化物濃度に基づいて調整
制御するようにすることが好ましい。
さらに、水酸化ナトリウムは洗浄水のスプレー管内に注
入させるようにすることが好ましい。
入させるようにすることが好ましい。
(作用)
まず、排ガスが第1スプレー領域にもたらされると、水
酸化マグネシウムは次の反応式により消費される。
酸化マグネシウムは次の反応式により消費される。
Mg(OH)、+2HCQ−+MgCQ、+2H,0M
g(OH)、+SO2+−0.4Mg5O,+H20こ
のとき、前述したように硫黄酸化物はさほど除去されず
、主として塩化水素が除去されることになる。
g(OH)、+SO2+−0.4Mg5O,+H20こ
のとき、前述したように硫黄酸化物はさほど除去されず
、主として塩化水素が除去されることになる。
次いで、排ガスが第2スプレー領域にもたらされると1
次の反応式により硫黄酸化物、塩化水素が除去され、第
2スプレー領域において除去困難な硫黄酸化物が効果的
に処理されることになる。
次の反応式により硫黄酸化物、塩化水素が除去され、第
2スプレー領域において除去困難な硫黄酸化物が効果的
に処理されることになる。
NaOH+HCfi−+NaCf1+H,0このとき、
水酸化ナトリウム注入量の調整制御及び水酸化ナトリウ
ム注入位置を前記した如くしておくと、応答性を高めて
効率良く処理することができる。
水酸化ナトリウム注入量の調整制御及び水酸化ナトリウ
ム注入位置を前記した如くしておくと、応答性を高めて
効率良く処理することができる。
このように、高濃度の塩化水素を主として安価な水酸化
マグネシウムで処理し、塩化水素に比して低濃度ではあ
るが水酸化マグネシウムによっては処理し切れない硫黄
酸化物を水酸化ナトリウムで処理するようにしたことか
ら、高価な水酸化ナトリウムの使用量を大幅に削減し得
て、全体としてアルカリ剤に要する費用の低減を実現す
ることができる。
マグネシウムで処理し、塩化水素に比して低濃度ではあ
るが水酸化マグネシウムによっては処理し切れない硫黄
酸化物を水酸化ナトリウムで処理するようにしたことか
ら、高価な水酸化ナトリウムの使用量を大幅に削減し得
て、全体としてアルカリ剤に要する費用の低減を実現す
ることができる。
(実施例)
以下、本発明の方法を第1図及び第2図に示す各実施例
に基づいて具体的に説明する。
に基づいて具体的に説明する。
第1実施例においては、第1図に示す第1洗浄装置を使
用した。
用した。
まず、この第1洗浄装置の構成について説明する。
すなわち、第1図において、1は第1洗浄塔。
2は第2洗浄塔、3は一次処理用アルカリ剤であるMg
(OH)2 を貯蔵した第1アルカリ剤佇槽、4は二次
処理用アルカリ剤であるN a OHを貯蔵した第2ア
ルカリ剤貯禮である。
(OH)2 を貯蔵した第1アルカリ剤佇槽、4は二次
処理用アルカリ剤であるN a OHを貯蔵した第2ア
ルカリ剤貯禮である。
第1及び第2洗浄塔1.2の上部には、排ガス導入管5
及びガス排出管6が接続されており1両塔1,2の下端
側部分間は連結ダクト7を介して連通接続されている。
及びガス排出管6が接続されており1両塔1,2の下端
側部分間は連結ダクト7を介して連通接続されている。
なお、排出管6及びダクト7には夫々デミスタ6a、7
aが介装されている。
aが介装されている。
各洗浄塔1,2の上部には、連結ダクト7下の洗浄水貯
溜部1a、2aから導いたスプレー管8゜9の端部ノズ
ル部8a、9aが配設されていて。
溜部1a、2aから導いたスプレー管8゜9の端部ノズ
ル部8a、9aが配設されていて。
第1及び第2洗浄塔1,2内に洗浄水による第1及び第
2スプレー領域1b、2bを形成するようになっている
。なお、洗浄水は循環ポンプ10゜11により循環せし
められる。また、各洗浄水貯溜部1a、2aには洗浄水
補給管14が分岐14a、14bして導かれていて、各
洗浄水貯溜部1a、2aの水位を、補給管14a、’1
4bに介設せる弁15a、15bを水位コントローラ1
2゜13により開閉制御することによって、一定範囲に
維持するようになっている。
2スプレー領域1b、2bを形成するようになっている
。なお、洗浄水は循環ポンプ10゜11により循環せし
められる。また、各洗浄水貯溜部1a、2aには洗浄水
補給管14が分岐14a、14bして導かれていて、各
洗浄水貯溜部1a、2aの水位を、補給管14a、’1
4bに介設せる弁15a、15bを水位コントローラ1
2゜13により開閉制御することによって、一定範囲に
維持するようになっている。
各アルカリ剤貯槽3,4には、塔1,2内に導いた注入
管20.21が接続されている。各注入管20,21に
は、注入ポンプ16.17及び注入量制御弁18.19
を介設されている。各制御弁18,19は、PHコント
ローラ22.23によりスプレー管8,9内の循環水p
Hに基づいて制御され、アルカリ剤の注入量を、循環水
が予め設定した運転pHに維持されるように調整制御し
ろるようになっている。
管20.21が接続されている。各注入管20,21に
は、注入ポンプ16.17及び注入量制御弁18.19
を介設されている。各制御弁18,19は、PHコント
ローラ22.23によりスプレー管8,9内の循環水p
Hに基づいて制御され、アルカリ剤の注入量を、循環水
が予め設定した運転pHに維持されるように調整制御し
ろるようになっている。
なお、各スプレー管8,9には汚水取出管24゜25が
分岐接続されていて、循環水の塩分濃度がアルカリ剤の
注入に伴って上昇した場合に、その一部を引き抜いて汚
水装置(図示せず)に供給すると共に各洗浄水貯溜部1
a、2aに引き抜き量(洗浄水貯溜部1aについては引
き抜き量及び蒸発水分量)に応じた補給水を補給管14
a、14bから供給して、li環水の塩分濃度を一定濃
度例えば5%に維持するようになっている。
分岐接続されていて、循環水の塩分濃度がアルカリ剤の
注入に伴って上昇した場合に、その一部を引き抜いて汚
水装置(図示せず)に供給すると共に各洗浄水貯溜部1
a、2aに引き抜き量(洗浄水貯溜部1aについては引
き抜き量及び蒸発水分量)に応じた補給水を補給管14
a、14bから供給して、li環水の塩分濃度を一定濃
度例えば5%に維持するようになっている。
この実施例においては、第1表に示す条件の排ガスを排
ガス導入lW5から第1洗浄塔l内に導入して、第1ス
プレー領域1bにおいて一次洗浄処理を行った上、第1
スプレー領域1bを通過した排ガス(以下「−次処理排
ガス」という)を連結ダクト7から第2洗浄塔2内に導
いて、第2スプレー領域2bにおいて二次洗浄処理を行
い、第2スプレー領域2bを通過した排ガス(以下r二
次処理排ガス」という)をガス排出管6から排出させた
。−次洗浄処理における運転pHは6.7に、また二次
洗浄処理における運転pHは8に夫々設定した。
ガス導入lW5から第1洗浄塔l内に導入して、第1ス
プレー領域1bにおいて一次洗浄処理を行った上、第1
スプレー領域1bを通過した排ガス(以下「−次処理排
ガス」という)を連結ダクト7から第2洗浄塔2内に導
いて、第2スプレー領域2bにおいて二次洗浄処理を行
い、第2スプレー領域2bを通過した排ガス(以下r二
次処理排ガス」という)をガス排出管6から排出させた
。−次洗浄処理における運転pHは6.7に、また二次
洗浄処理における運転pHは8に夫々設定した。
第1表
置を使用したが、この洗浄装置は、注入管21をスプレ
ー管9に接続すると共に注入量調整弁19をSOx濃度
コントローラ26により制御するようにした点を除いて
、前記第1洗浄装置と同様楕成のものである。
ー管9に接続すると共に注入量調整弁19をSOx濃度
コントローラ26により制御するようにした点を除いて
、前記第1洗浄装置と同様楕成のものである。
この実施例においては、上記第1実施例と同様に、第1
表に示す条件の排ガスを第1及び第2スプレー領域1b
、2bを順次通過させて、−次洗浄処理及び二次洗浄処
理を行った。
表に示す条件の排ガスを第1及び第2スプレー領域1b
、2bを順次通過させて、−次洗浄処理及び二次洗浄処
理を行った。
このときMg(OH)2の注入量は第1実施例における
と同様に運転PHを6.7に設定して調整制御したが、
N a OHの注入量は二次処理排ガスのSOx濃度に
基づいて調整制御した。すなわち。
と同様に運転PHを6.7に設定して調整制御したが、
N a OHの注入量は二次処理排ガスのSOx濃度に
基づいて調整制御した。すなわち。
調整弁19をコントローラ26により制御することによ
って、このSOx濃度を設定値(第2表に示す如<9p
pmに設定した)に維持させた。その結果、二次洗浄処
理における運転pHは5〜8に変化した。
って、このSOx濃度を設定値(第2表に示す如<9p
pmに設定した)に維持させた。その結果、二次洗浄処
理における運転pHは5〜8に変化した。
さらに、比較例として、前記第1洗浄装置を用いて1次
のような実験を行った。
のような実験を行った。
すなわち、第1比較例においては、第1及び第2アルカ
リ剤貯槽3,4の何れにもNaOHを収容し、第1表の
排ガスについて第1実施例と同様にして一次洗浄処理及
び二次洗浄処理を行った。
リ剤貯槽3,4の何れにもNaOHを収容し、第1表の
排ガスについて第1実施例と同様にして一次洗浄処理及
び二次洗浄処理を行った。
なお、−次洗浄処理における運転pHは7に、また二次
洗浄処理における運転pHは8に夫々設定した。
洗浄処理における運転pHは8に夫々設定した。
また、第2比較例においては、第1及び第2アルカリ剤
貯槽3,4の何れにもMg(OH)xを収容し、第1表
の排ガスについて第1比較例と同様にして一次洗浄処理
及び二次洗浄処理を行った。
貯槽3,4の何れにもMg(OH)xを収容し、第1表
の排ガスについて第1比較例と同様にして一次洗浄処理
及び二次洗浄処理を行った。
なお、−次洗浄処理における運転PHは6.7に。
また二次洗浄処理における運転PHは7に夫々設定した
。
。
そして、上記各実施例及び比較例について、−次処理排
ガス及び二次洗浄処理排ガスにおけるSOx、HCΩ濃
度を測定したところ、第2表に示す結果が得られた(代
表値を示す)。なお、SOx、HCQ濃度は、−次処理
排ガスについては第1濃度測定器27により連通管7に
おけるデミスタ7a通過直後の位置で、また二次処理排
ガスについては第2濃度測定器28によりガス排出管6
におけるデミスタ6a通過直後の位置で夫々測定した。
ガス及び二次洗浄処理排ガスにおけるSOx、HCΩ濃
度を測定したところ、第2表に示す結果が得られた(代
表値を示す)。なお、SOx、HCQ濃度は、−次処理
排ガスについては第1濃度測定器27により連通管7に
おけるデミスタ7a通過直後の位置で、また二次処理排
ガスについては第2濃度測定器28によりガス排出管6
におけるデミスタ6a通過直後の位置で夫々測定した。
第2表
(単位:ppm)
また、−次洗浄処理及び二次洗浄処理におけるアルカリ
剤使用量は第3表に示す通りであった。
剤使用量は第3表に示す通りであった。
さらに、Mg(OH)、、NaOHのIKg価格を夫々
60円、70円として時間当り使用されるアルカリ剤の
価格を試算してみると、第4表に示す如くとなった。
60円、70円として時間当り使用されるアルカリ剤の
価格を試算してみると、第4表に示す如くとなった。
第3表
(単位:Kg/h)
第4表
(単位:円/h)
したがって、第3表及び第4表から明らかなように、第
1比較例の如<NaOHのみを使用した場合は甚だ不経
済であるが1本発明の方法によれば、−次洗浄処理にお
いて安価なM g (OH)zを使用していることと二
次洗浄処理において使用する高価なNaOHの使用量が
極く僅か済むことから、全体としてアルカリ剤に要する
費用を大幅に低減し得て、経済的な処理を行いつる。
1比較例の如<NaOHのみを使用した場合は甚だ不経
済であるが1本発明の方法によれば、−次洗浄処理にお
いて安価なM g (OH)zを使用していることと二
次洗浄処理において使用する高価なNaOHの使用量が
極く僅か済むことから、全体としてアルカリ剤に要する
費用を大幅に低減し得て、経済的な処理を行いつる。
また、第2表から明らかなように、第2比較例の如<
M g (OH)zのみを使用した場合はSOxの除去
率が極めて低いが、本発明の方法によれば、HCQを主
としてM g (OH)zで中和処理し、またMg(O
H)zで除去し難い5Oxt&NaOHで中和処理する
ことから、HCQ、SOxの何れをも効果的に除去しう
る。
M g (OH)zのみを使用した場合はSOxの除去
率が極めて低いが、本発明の方法によれば、HCQを主
としてM g (OH)zで中和処理し、またMg(O
H)zで除去し難い5Oxt&NaOHで中和処理する
ことから、HCQ、SOxの何れをも効果的に除去しう
る。
ところで、Mg(OH)、を使用した場合、NaOHを
使用した場合に比してSOxの除去率が低くなる原因は
次の点にあると考えられる。
使用した場合に比してSOxの除去率が低くなる原因は
次の点にあると考えられる。
すなわち、注入されたMg(OH)2は、その大部分が
固体で存在して、洗浄水への溶解度が極めて低く、HC
QやSOxが洗浄水に溶けてそのPHが低下すると、洗
浄水中に溶は出して中和する役割を果たすに過ぎない。
固体で存在して、洗浄水への溶解度が極めて低く、HC
QやSOxが洗浄水に溶けてそのPHが低下すると、洗
浄水中に溶は出して中和する役割を果たすに過ぎない。
また、SOxはHCflと異なって水への溶解度が極め
て低く、その大部分はガス状のまま存在することになる
。したがって、固体状のMg(OH)2では、溶解性に
富むHCQに対してはNaOH同様の除去作用を行いつ
るが、溶解性に乏しいSOxとはその大部分に対して直
接反応せず、これを効果的に除去し得ない。
て低く、その大部分はガス状のまま存在することになる
。したがって、固体状のMg(OH)2では、溶解性に
富むHCQに対してはNaOH同様の除去作用を行いつ
るが、溶解性に乏しいSOxとはその大部分に対して直
接反応せず、これを効果的に除去し得ない。
なお、NaOHは液体で存在し、HCQ、SOxがガス
状である時点においても気液反応を起してこれらを良好
に除去しうる。
状である時点においても気液反応を起してこれらを良好
に除去しうる。
したがって、主としてHCQをMg(OH)2で且つS
OxをN a OHで除去処理するようにした本発明の
方法によれば、排ガス中のHCQ、SOxを効果的に且
つ経済的に除去処理し得ることが理解される。
OxをN a OHで除去処理するようにした本発明の
方法によれば、排ガス中のHCQ、SOxを効果的に且
つ経済的に除去処理し得ることが理解される。
特に、第2実施例の如<、NaOHをスプレー管9内に
注入させ且つその注入量を二次処理排ガスのSOx濃度
に基づいて制御させるようにしておくと、第1実施例の
ようにした場合に比して洗浄処理性能及び経済性を更に
向上させることができる。
注入させ且つその注入量を二次処理排ガスのSOx濃度
に基づいて制御させるようにしておくと、第1実施例の
ようにした場合に比して洗浄処理性能及び経済性を更に
向上させることができる。
すなわち、NaOHをスプレー管9内に注入させると、
第1実癌例の如<NaOHを大量の洗浄水中に注入させ
る場合に比してNaOHの稀釈底が小さくなり、応答性
が向上する。なお、第2実施例において、NaOHの注
入個所を第1実施例と同様にすると、NaOH濃度の追
随性が悪いため、二次洗浄処理における運転PH及びS
Ox濃度が夫々pH4〜9及び3〜15ppmに変動し
、NaOH使用量も12 K g / hと増加するこ
とが確認されている。また、第2実施例において二次洗
浄処理の運転pHを7.5以上例えば8程度に設定して
おくと、排ガス中の炭酸ガスを吸収して、洗浄水の循環
系にスケールを生じる等の不都合を生じる他、必要以上
のNaOHが消費されることになる6しかし、N a
OHの注入個所及び注入量制御を第2実施例の如くして
おくと、−次処理排ガスのSox′a度が低い場合には
、二次洗浄処理を低pH運転させても二次処理排ガスの
SOx濃度を低く維持することができ且つNaOHの使
用量を少なくしうる。なお、HC(1の除去はpHが5
程度に低下しても殆ど影響を受けない。
第1実癌例の如<NaOHを大量の洗浄水中に注入させ
る場合に比してNaOHの稀釈底が小さくなり、応答性
が向上する。なお、第2実施例において、NaOHの注
入個所を第1実施例と同様にすると、NaOH濃度の追
随性が悪いため、二次洗浄処理における運転PH及びS
Ox濃度が夫々pH4〜9及び3〜15ppmに変動し
、NaOH使用量も12 K g / hと増加するこ
とが確認されている。また、第2実施例において二次洗
浄処理の運転pHを7.5以上例えば8程度に設定して
おくと、排ガス中の炭酸ガスを吸収して、洗浄水の循環
系にスケールを生じる等の不都合を生じる他、必要以上
のNaOHが消費されることになる6しかし、N a
OHの注入個所及び注入量制御を第2実施例の如くして
おくと、−次処理排ガスのSox′a度が低い場合には
、二次洗浄処理を低pH運転させても二次処理排ガスの
SOx濃度を低く維持することができ且つNaOHの使
用量を少なくしうる。なお、HC(1の除去はpHが5
程度に低下しても殆ど影響を受けない。
(発明の効果)
以上の説明から容易に理解されるように1本発明の方法
によれば、第1スプレー領域で一次洗浄処理した排ガス
を更に第2スプレー領域で二次洗浄処理して、−次洗浄
処理においては、安価な水酸化マグネシウムを大量使用
することによって、高濃度であり大量のアルカリ剤を必
要とする塩化水素を主として除去し、二次洗浄処理にお
いては、高価な水酸化ナトリウムを少量使用することに
よって、水酸化マグネシウムで処理し得なかった硫黄酸
化物を主として除去するようにしたから、水酸化ナトリ
ウムのみを使用する従来方法による場合に比して、排ガ
ス中の塩化水素及び硫黄酸化物の処理性能を略同様に確
保することができ、しかもアルカリ剤に要する費用を大
幅に低減させることができる。このように、本発明の方
法は都市ごみ焼却炉の排ガス等を効果的且つ経済的に洗
浄処理しうるものであり、その実用的価値極めて大なる
ものである。
によれば、第1スプレー領域で一次洗浄処理した排ガス
を更に第2スプレー領域で二次洗浄処理して、−次洗浄
処理においては、安価な水酸化マグネシウムを大量使用
することによって、高濃度であり大量のアルカリ剤を必
要とする塩化水素を主として除去し、二次洗浄処理にお
いては、高価な水酸化ナトリウムを少量使用することに
よって、水酸化マグネシウムで処理し得なかった硫黄酸
化物を主として除去するようにしたから、水酸化ナトリ
ウムのみを使用する従来方法による場合に比して、排ガ
ス中の塩化水素及び硫黄酸化物の処理性能を略同様に確
保することができ、しかもアルカリ剤に要する費用を大
幅に低減させることができる。このように、本発明の方
法は都市ごみ焼却炉の排ガス等を効果的且つ経済的に洗
浄処理しうるものであり、その実用的価値極めて大なる
ものである。
第1図は本発明の方法を実施するに好適な洗浄装置の一
例を示す系統図、第2図はその変形例を示す系統図であ
る。 1.2・・・・洗浄塔、la、2a・・・・スプレー領
域、3,4・・・・アルカリ剤貯槽、5・・・・排ガス
導入管、6・・・・ガス排出管、7・・・・連結ダクト
、8゜9・・・・スプレー管、18.19・・・・注入
量制御弁、20.21・・・・注入管、22.23・・
・・p Hコントローラ、26・・・・SOx濃度コン
トローラ。
例を示す系統図、第2図はその変形例を示す系統図であ
る。 1.2・・・・洗浄塔、la、2a・・・・スプレー領
域、3,4・・・・アルカリ剤貯槽、5・・・・排ガス
導入管、6・・・・ガス排出管、7・・・・連結ダクト
、8゜9・・・・スプレー管、18.19・・・・注入
量制御弁、20.21・・・・注入管、22.23・・
・・p Hコントローラ、26・・・・SOx濃度コン
トローラ。
Claims (3)
- (1)排ガスを、アルカリ剤を注入せる洗浄水のスプレ
ー領域内を通過させることにより、排ガス中の硫黄酸化
物及び塩化水素を洗浄除去させるようにした排ガスの洗
浄方法において、排ガスを第1及び第2スプレー領域を
順次通過させるようにし、アルカリ剤として第1スプレ
ー領域においては水酸化マグネシウムを又第2スプレー
領域においては水酸化ナトリウムを夫々使用したことを
特徴とする排ガスの洗浄方法。 - (2)水酸化ナトリウムの注入量を、第2スプレー領域
を経過した処理済み排ガス中の硫黄酸化物濃度に基づい
て調整制御するようにしたことを特徴とする、特許請求
の範囲第1項に記載する排ガスの洗浄方法。 - (3)水酸化ナトリウムを、洗浄水のスプレー管内に注
入させるようにしたことを特徴とする、特許請求の範囲
第1項又は第2項に記載する排ガスの洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62080521A JPS63242322A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 排ガスの洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62080521A JPS63242322A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 排ガスの洗浄方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63242322A true JPS63242322A (ja) | 1988-10-07 |
Family
ID=13720615
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62080521A Pending JPS63242322A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 排ガスの洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63242322A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014528827A (ja) * | 2011-09-30 | 2014-10-30 | アルファ−ラヴァル・コーポレート・アーベー | スクラバシステム及び方法 |
CN110075669A (zh) * | 2019-05-29 | 2019-08-02 | 湖南长宏新能源材料有限责任公司 | 一种有色冶炼HCl废气的净化治理和回收利用工艺 |
JPWO2021111957A1 (ja) * | 2019-12-04 | 2021-06-10 |
-
1987
- 1987-03-31 JP JP62080521A patent/JPS63242322A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014528827A (ja) * | 2011-09-30 | 2014-10-30 | アルファ−ラヴァル・コーポレート・アーベー | スクラバシステム及び方法 |
CN110075669A (zh) * | 2019-05-29 | 2019-08-02 | 湖南长宏新能源材料有限责任公司 | 一种有色冶炼HCl废气的净化治理和回收利用工艺 |
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