JPS6324086A - 不溶性陽極の製造方法 - Google Patents
不溶性陽極の製造方法Info
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- JPS6324086A JPS6324086A JP61055634A JP5563486A JPS6324086A JP S6324086 A JPS6324086 A JP S6324086A JP 61055634 A JP61055634 A JP 61055634A JP 5563486 A JP5563486 A JP 5563486A JP S6324086 A JPS6324086 A JP S6324086A
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Landscapes
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電解工業に於ける陽極、所謂不溶性陽極を製
造する方法に関する。
造する方法に関する。
(従来の技術)
従来より種々の電解工業に於ける陽極、所謂不溶性陽極
には、Ti基材上にPtめっきを施したPtめっき/T
i電極や、Pt族基塩化物有機)電媒に溶かし、これを
Ti基材上に塗布し、熱分解してTi基材の表面上にそ
のPt族又はPt族酸化物を析出させて被覆した、所謂
熱分解法によってPt族又はPt族酸化物を被覆したT
i電極が用いられてきた。
には、Ti基材上にPtめっきを施したPtめっき/T
i電極や、Pt族基塩化物有機)電媒に溶かし、これを
Ti基材上に塗布し、熱分解してTi基材の表面上にそ
のPt族又はPt族酸化物を析出させて被覆した、所謂
熱分解法によってPt族又はPt族酸化物を被覆したT
i電極が用いられてきた。
(発明が解決しようとする問題点)
ところで、Ptめっき/Ti電極の場合は、めっきされ
るPt族に制限があり、しかも合金めっきが困難である
こと、酸化物の被覆ができないことなどの為に、近時熱
分解法による被覆が主流となっている。
るPt族に制限があり、しかも合金めっきが困難である
こと、酸化物の被覆ができないことなどの為に、近時熱
分解法による被覆が主流となっている。
しかし、熱分解法による被覆は、分解時に熱収縮に伴う
体積収縮を起こす為、非常に多孔性であり、不均一であ
る。この為、均一な被膜を作るには、塗布、乾燥、焼付
の工程を数回〜数10回繰り返す必要があり、甚だ長時
間要するという問題点があった。
体積収縮を起こす為、非常に多孔性であり、不均一であ
る。この為、均一な被膜を作るには、塗布、乾燥、焼付
の工程を数回〜数10回繰り返す必要があり、甚だ長時
間要するという問題点があった。
さらに不溶性陽極には、見掛は上の表面積の他に、表面
粗度に起因する実質上の表面積の大きいことが必要であ
るが、熱分解法の場合はこの表面粗度が小さく、その為
実質表面積が小さく、電解効率が劣る為、この面での改
善が望まれていた。
粗度に起因する実質上の表面積の大きいことが必要であ
るが、熱分解法の場合はこの表面粗度が小さく、その為
実質表面積が小さく、電解効率が劣る為、この面での改
善が望まれていた。
そこで本発明は、Ti基材上にPt(!:Pt族金属酸
化物より成る被膜を容易に短時間で形成でき、しかも表
面粗度が極めて大きくて電解効率の極めて高い不溶性陽
極を製造する方法を提供しようとするものである。
化物より成る被膜を容易に短時間で形成でき、しかも表
面粗度が極めて大きくて電解効率の極めて高い不溶性陽
極を製造する方法を提供しようとするものである。
(問題点を解決するための手段)
上記問題点を解決するための本発明の技術的手段は、T
i基材上にPtとPt以外のPt族酸化吻より成る被膜
を有する不溶性陽極を製造するに於いて、Ti基材上に
、PtとPt基以外Pt族金属との合金の線材又は板材
を線爆溶射して、即ちPtとPt以外のPt族金属との
合金の線材又は板材に大気中又は雰囲気ガス中で衝撃大
電流を通じて放電爆発させ、これによって飛散するPt
とPt基以外Pt族金属との合金の粒子を高速度で溶射
して、Ti基材上に衝突させPtとPt以外のPt族金
属との合金を被覆し、然る後300〜900℃、酸素分
圧175気圧以上で内部酸化処理して、PtとPt基以
外Pt族酸酸化物り成る被膜を備えた不溶性陽極を得る
ものである。
i基材上にPtとPt以外のPt族酸化吻より成る被膜
を有する不溶性陽極を製造するに於いて、Ti基材上に
、PtとPt基以外Pt族金属との合金の線材又は板材
を線爆溶射して、即ちPtとPt以外のPt族金属との
合金の線材又は板材に大気中又は雰囲気ガス中で衝撃大
電流を通じて放電爆発させ、これによって飛散するPt
とPt基以外Pt族金属との合金の粒子を高速度で溶射
して、Ti基材上に衝突させPtとPt以外のPt族金
属との合金を被覆し、然る後300〜900℃、酸素分
圧175気圧以上で内部酸化処理して、PtとPt基以
外Pt族酸酸化物り成る被膜を備えた不溶性陽極を得る
ものである。
上記本発明の技術的手段に於いて、Ti基板上に線爆溶
射によりPtとPt基以外Pt族金属との合金を被覆し
た後、内部酸化処理する理由は、Ptを除(Pt族金属
を酸化物にすることにより塩素過電圧を小さく、また酸
素過電圧を大きくでき、電解効率が向上するからである
。一般にPtとPt基以外Pt族金属との合金は内部酸
化が難しいとされているが、本発明による被膜は気孔率
が最大数%存在する為、この気孔を通して酸素が侵入し
、Pt基以外Pt族金属だけ、内部酸化されるものであ
る。
射によりPtとPt基以外Pt族金属との合金を被覆し
た後、内部酸化処理する理由は、Ptを除(Pt族金属
を酸化物にすることにより塩素過電圧を小さく、また酸
素過電圧を大きくでき、電解効率が向上するからである
。一般にPtとPt基以外Pt族金属との合金は内部酸
化が難しいとされているが、本発明による被膜は気孔率
が最大数%存在する為、この気孔を通して酸素が侵入し
、Pt基以外Pt族金属だけ、内部酸化されるものであ
る。
上記内部酸化処理の温度を300〜900℃とした理由
は、300℃未満ではPt基以外Pt族金属の酸化が不
十分であり、900℃を超えると不安定になったり分解
したりするPt族酸化吻が多いからである。さらに酸素
分圧175気圧以上とした理由は、175気圧未満だと
内部酸化に長時間要するかからである。また酸化時間は
30分未満だと低温の場合不十分な内部酸化しか起こら
ないので30分以上が好ましい。
は、300℃未満ではPt基以外Pt族金属の酸化が不
十分であり、900℃を超えると不安定になったり分解
したりするPt族酸化吻が多いからである。さらに酸素
分圧175気圧以上とした理由は、175気圧未満だと
内部酸化に長時間要するかからである。また酸化時間は
30分未満だと低温の場合不十分な内部酸化しか起こら
ないので30分以上が好ましい。
(作用)
上記本発明の不溶性陽極の製造方法では、Ti基材上に
、線爆溶射によってPtとPt基以外Pt族金属との合
金を被覆するのであるから、その被膜は溶融飛散する粒
子が非常に小さいことと、飛散速度が非常に速いことに
より、気孔率が小さく、密着強度が大きく、しかも表面
粗度は非常に大きいものとなる。そしてこの線爆溶射に
よって被膜を内部酸化処理して得た被膜は、密着強度、
緻密性が必要且つ十分なものとなり、表面粗度が非常に
大きい為、実質上の表面積が極めて大きいものとなり、
しかも塩素過電圧が小さく酸素過電圧の大きいPt基以
外Pt族金属酸化物が分散しているので、電解効率の高
い不溶性陽極が得られる。
、線爆溶射によってPtとPt基以外Pt族金属との合
金を被覆するのであるから、その被膜は溶融飛散する粒
子が非常に小さいことと、飛散速度が非常に速いことに
より、気孔率が小さく、密着強度が大きく、しかも表面
粗度は非常に大きいものとなる。そしてこの線爆溶射に
よって被膜を内部酸化処理して得た被膜は、密着強度、
緻密性が必要且つ十分なものとなり、表面粗度が非常に
大きい為、実質上の表面積が極めて大きいものとなり、
しかも塩素過電圧が小さく酸素過電圧の大きいPt基以
外Pt族金属酸化物が分散しているので、電解効率の高
い不溶性陽極が得られる。
(実施例)
本発明による不溶性陽極の製造方法の実施例を従来例と
共に説明する。先ず、第1の実施例について説明すると
、幅101■長さ100關、厚さ1龍のTi板に、P
t −1r25wt%合金を線爆溶射した。
共に説明する。先ず、第1の実施例について説明すると
、幅101■長さ100關、厚さ1龍のTi板に、P
t −1r25wt%合金を線爆溶射した。
線爆溶射の条件は、コンデンサ容量C=80μFのコン
デンサに充電電圧V=7.2KVで充電させ、このエネ
ルギー2073.6ジユールを1龍φ×601−のP
t −1r25wt%線材に瞬時に与え、Pt−1r2
5−t%を溶融飛散させてTi板に被覆した。この時の
溶射距離は113mmであり、線爆溶射されたPtrr
25wt%t膜は5μmで均一であった。線爆溶射の時
間は5秒以内であり、両面溶射でも10秒以内で終了し
た。この溶射被膜をもったTi1iを700°C,酸素
分圧9気圧で1時間内部酸化した。
デンサに充電電圧V=7.2KVで充電させ、このエネ
ルギー2073.6ジユールを1龍φ×601−のP
t −1r25wt%線材に瞬時に与え、Pt−1r2
5−t%を溶融飛散させてTi板に被覆した。この時の
溶射距離は113mmであり、線爆溶射されたPtrr
25wt%t膜は5μmで均一であった。線爆溶射の時
間は5秒以内であり、両面溶射でも10秒以内で終了し
た。この溶射被膜をもったTi1iを700°C,酸素
分圧9気圧で1時間内部酸化した。
X線回折によるとIrは全て酸化され、Pt−1rO□
30w t%被被膜できた。この被膜の厚さは5μであ
り表面粗さは第1図に示す通りであり、全工程に要した
時間は2時間以内であった。
30w t%被被膜できた。この被膜の厚さは5μであ
り表面粗さは第1図に示す通りであり、全工程に要した
時間は2時間以内であった。
次に第2の実施例について説明すると、幅Ioms長さ
1001m、厚さ1鶴のTi板に1 ms’ X 5Q
ta’のP t −P d26wt%合金の線材を第1
の実施例と同−条件で、線爆溶射し、さらに650°C
,酸素分圧9気圧で1.5時間内部酸化した。X線回折
によるとPdは全て酸化され、Pt−Pd030wt%
の被膜ができた。この被膜の厚さは5〜7μmであり、
表面粗さは第2図に示す通りであり、全工程に要した時
間は2時間以内であった。
1001m、厚さ1鶴のTi板に1 ms’ X 5Q
ta’のP t −P d26wt%合金の線材を第1
の実施例と同−条件で、線爆溶射し、さらに650°C
,酸素分圧9気圧で1.5時間内部酸化した。X線回折
によるとPdは全て酸化され、Pt−Pd030wt%
の被膜ができた。この被膜の厚さは5〜7μmであり、
表面粗さは第2図に示す通りであり、全工程に要した時
間は2時間以内であった。
一方、第1の従来例について説明すると、幅10關、長
さ100龍、厚さ1flのTi板に、塩化Pt酸のブク
ノール溶液に塩化1rを溶解させたものを塗布し、10
0℃乾燥、500℃熱分解を20回繰り返し、Pt−1
rO□30w t%の被膜を得た。この被膜の厚さは5
μmであり、表面粗さは第3図に示す通りであり、全工
程に要した時間は8時間であった。
さ100龍、厚さ1flのTi板に、塩化Pt酸のブク
ノール溶液に塩化1rを溶解させたものを塗布し、10
0℃乾燥、500℃熱分解を20回繰り返し、Pt−1
rO□30w t%の被膜を得た。この被膜の厚さは5
μmであり、表面粗さは第3図に示す通りであり、全工
程に要した時間は8時間であった。
第2の従来例について説明すると、幅Ion、長さ10
0關、厚さl mmのTi板に電気めっきにより5μm
のPt被被膜得た。この被膜の表面粗さは第4図に示す
通りであり、被膜形成時間は4時間であった。
0關、厚さl mmのTi板に電気めっきにより5μm
のPt被被膜得た。この被膜の表面粗さは第4図に示す
通りであり、被膜形成時間は4時間であった。
上記の如く被覆された第1、第2実施例及び第1、第2
従来例の不溶性陽極と、通常のT1板を陰極として組合
わせて、電極面積20112、極間距離4重態、電解電
流15A/dm2で3%NaC1を電解し、塩素発生効
率を調べた処、第5図のグラフのような結果を得た。
従来例の不溶性陽極と、通常のT1板を陰極として組合
わせて、電極面積20112、極間距離4重態、電解電
流15A/dm2で3%NaC1を電解し、塩素発生効
率を調べた処、第5図のグラフのような結果を得た。
第5図のグラフで明らかなように実施例の不l容性陽極
は従来例の不溶性陽極に比し、電解効率が25%〜12
5%向上していることが判る。これはひとえにTi仮に
対しPtとPt以外のPt族金属との合金を線爆溶射し
て被膜を形成し、その被膜を内部酸化処理することによ
って、不溶性陽極の実質表面積が増大し、しかも塩素過
電圧が小さく、酸素過電圧が大きくなって、電解効率が
向上したからにほかならない。
は従来例の不溶性陽極に比し、電解効率が25%〜12
5%向上していることが判る。これはひとえにTi仮に
対しPtとPt以外のPt族金属との合金を線爆溶射し
て被膜を形成し、その被膜を内部酸化処理することによ
って、不溶性陽極の実質表面積が増大し、しかも塩素過
電圧が小さく、酸素過電圧が大きくなって、電解効率が
向上したからにほかならない。
(発明の効果)
以上詳記した通り本発明の不溶性陽極の製造方法によれ
は、Ti基村上にPt以外Pt族酸化物をより成る被膜
を容易に且つ短時間に形成でき、しかも実質表面積が大
きく、塩素過電圧が小さく酸素過電圧が大きくて、電解
効率の極めて高い不溶性陽極を製造できるので、従来の
製造方法にて代わることができ、種々の電解工業及びめ
っき工業に貢献するところ大なるものがある。
は、Ti基村上にPt以外Pt族酸化物をより成る被膜
を容易に且つ短時間に形成でき、しかも実質表面積が大
きく、塩素過電圧が小さく酸素過電圧が大きくて、電解
効率の極めて高い不溶性陽極を製造できるので、従来の
製造方法にて代わることができ、種々の電解工業及びめ
っき工業に貢献するところ大なるものがある。
第1図及び第2図は夫々第1の実施例及び第2の実施例
の陽極の表面粗さを示すグラフ、第3図及び第4図は夫
々第1の従来例及び第2の実施例と第1及び第2の従来
例の塩素発生効率を示すグラフである。 出願人 田中貴金属工業株式会社 第4図 第5図 ψJ和令聞 (=n ) 昭和61年 6月 5日 1.事件の表示 昭和61年特許願第55634号 2、発明の名称 不溶性陽極の製造方法。 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 昭和61年5月27日 5、補正の対象 明細書の図面の簡単な説明の欄6、
補正の内容
の陽極の表面粗さを示すグラフ、第3図及び第4図は夫
々第1の従来例及び第2の実施例と第1及び第2の従来
例の塩素発生効率を示すグラフである。 出願人 田中貴金属工業株式会社 第4図 第5図 ψJ和令聞 (=n ) 昭和61年 6月 5日 1.事件の表示 昭和61年特許願第55634号 2、発明の名称 不溶性陽極の製造方法。 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 昭和61年5月27日 5、補正の対象 明細書の図面の簡単な説明の欄6、
補正の内容
Claims (1)
- Ti基材上に、PtとPt以外のPt族酸化物より成る
被膜を有する不溶性陽極を製造するに於いて、Ti基材
上に、PtとPt以外のPt族金属との合金の線材又は
板材を線爆溶射して、PtとPt以外のPt族金属との
合金を被覆し、然る後300〜900℃、酸素分圧1/
5気圧以上で内部酸化処理して、PtとPt以外のPt
族酸化物より成る被膜を備えた不溶性陽極を得ることを
特徴とする不溶性陽極の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61055634A JPS6324086A (ja) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | 不溶性陽極の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61055634A JPS6324086A (ja) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | 不溶性陽極の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6324086A true JPS6324086A (ja) | 1988-02-01 |
Family
ID=13004221
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61055634A Pending JPS6324086A (ja) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | 不溶性陽極の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6324086A (ja) |
-
1986
- 1986-03-13 JP JP61055634A patent/JPS6324086A/ja active Pending
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