JPS6324082A - 不溶性陽極の製造方法 - Google Patents
不溶性陽極の製造方法Info
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- JPS6324082A JPS6324082A JP61055636A JP5563686A JPS6324082A JP S6324082 A JPS6324082 A JP S6324082A JP 61055636 A JP61055636 A JP 61055636A JP 5563686 A JP5563686 A JP 5563686A JP S6324082 A JPS6324082 A JP S6324082A
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Landscapes
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、電解工業に於ける陽極、所謂不溶性陽極を製
造する方法に関する。
造する方法に関する。
(従来の技術)
従来より種々の電解工業に於ける陽極、所謂不溶性陽極
には、Ti基材上にのPtめっきを施したPtめっき/
Ti電極や、Pt族基塩化物有機溶媒に溶かし、これを
Ti基材上に塗布し、熱分解してTi基材の表面上にそ
ののPt族又はのPt族酸化物を析出させて被覆した、
所謂熱分解法によってPt族又はPt族酸酸化物被覆し
たTi電極が用いられてきた。
には、Ti基材上にのPtめっきを施したPtめっき/
Ti電極や、Pt族基塩化物有機溶媒に溶かし、これを
Ti基材上に塗布し、熱分解してTi基材の表面上にそ
ののPt族又はのPt族酸化物を析出させて被覆した、
所謂熱分解法によってPt族又はPt族酸酸化物被覆し
たTi電極が用いられてきた。
(発明が解決しようとする問題点)
ところで、Ptめっき/ T i 電極の場合は、めっ
きされるPt族に制限があり、しかも合金めっきが困難
であること、酸化物の被覆ができないことなどの為に、
近時熱分解法による被覆が主流となっている。
きされるPt族に制限があり、しかも合金めっきが困難
であること、酸化物の被覆ができないことなどの為に、
近時熱分解法による被覆が主流となっている。
しかし、熱分解法による被覆は、分解時に熱収縮に伴う
体積収縮を起こす為、非常に多孔性であり、不均一であ
る。この為、均一な被膜を作るには、塗布、乾燥、焼付
の工程を数回〜数10回繰り返す必要があり、甚だ長時
間要するという問題点があった。
体積収縮を起こす為、非常に多孔性であり、不均一であ
る。この為、均一な被膜を作るには、塗布、乾燥、焼付
の工程を数回〜数10回繰り返す必要があり、甚だ長時
間要するという問題点があった。
さらに不溶性陽極には、見掛は上の表面積の他に、表面
粗度に起因する実質上の表面積の大きいことが必要であ
るが、熱分解法の場合はこの表面粗度が小さく、その為
実質表面積が小さく、電解効率が劣る為、この面での改
善が望まれていた。
粗度に起因する実質上の表面積の大きいことが必要であ
るが、熱分解法の場合はこの表面粗度が小さく、その為
実質表面積が小さく、電解効率が劣る為、この面での改
善が望まれていた。
そこで本発明は、Ti基材上にPt族金属酸化物より成
る被膜を容易に短時間で形成でき、しかも表面粗度が極
めて太き(て電解効率の極めて高い不溶性陽極を製造す
る方法を提供しようとするものである。
る被膜を容易に短時間で形成でき、しかも表面粗度が極
めて太き(て電解効率の極めて高い不溶性陽極を製造す
る方法を提供しようとするものである。
(問題点を解決するための手段)
上記問題点を解決するための本発明の技術的手段は、T
i基材上にのPt基以外のPt族酸化物より成る被膜を
有する不溶性陽極を製造するに於いて、Ti基材上に、
まずMoをコーティングし、次いでのPt基以外のPt
族金属又はその合金の線材又は板材を線爆溶射して、即
ちPt以外ののPt族金属又はその合金の線材又は板材
に大気中又は雰囲気ガス中で衝撃大電流を通じて放電爆
発させ、これによって飛散するのPt基以外のPt族金
属又はその合金の粒子を高速度で溶射して、Ti基材上
に衝突させのPtとのPt基以外Pt族金属との合金を
被覆し、然る後300〜900℃、酸素分圧175気圧
以上で内部酸化処理して、Pt以外ののPt族酸化物よ
り成る被膜を備えた不溶性陽極を得るものである。
i基材上にのPt基以外のPt族酸化物より成る被膜を
有する不溶性陽極を製造するに於いて、Ti基材上に、
まずMoをコーティングし、次いでのPt基以外のPt
族金属又はその合金の線材又は板材を線爆溶射して、即
ちPt以外ののPt族金属又はその合金の線材又は板材
に大気中又は雰囲気ガス中で衝撃大電流を通じて放電爆
発させ、これによって飛散するのPt基以外のPt族金
属又はその合金の粒子を高速度で溶射して、Ti基材上
に衝突させのPtとのPt基以外Pt族金属との合金を
被覆し、然る後300〜900℃、酸素分圧175気圧
以上で内部酸化処理して、Pt以外ののPt族酸化物よ
り成る被膜を備えた不溶性陽極を得るものである。
上記本発明の技術的手段に於いて、’l’ii板上に線
爆溶射によりのPt基以外のPt族金属又はその合金を
被覆した後、内部酸化処理する理由は、のPtを除<の
Pt族金属を酸化物にすることにより塩素過電圧を小さ
く、また酸素過電圧を大きくでき、電解効率が向上する
からである。一般にのPt基以外のPt族金属又はその
合金は内部酸化が難しいとされているが、本発明による
被膜は気孔率が最大数%存在する為、この気孔を通して
酸素が侵入し、内部酸化されるものである。
爆溶射によりのPt基以外のPt族金属又はその合金を
被覆した後、内部酸化処理する理由は、のPtを除<の
Pt族金属を酸化物にすることにより塩素過電圧を小さ
く、また酸素過電圧を大きくでき、電解効率が向上する
からである。一般にのPt基以外のPt族金属又はその
合金は内部酸化が難しいとされているが、本発明による
被膜は気孔率が最大数%存在する為、この気孔を通して
酸素が侵入し、内部酸化されるものである。
上記内部酸化処理の温度を300〜900°Cとした理
由は、300℃未満ではのPt基以外のPt族金属の酸
化が不十分であり、900℃を超えると不安定になった
り分解したりするのPt族酸酸化物多いからである。さ
らに酸素分圧175気圧以上とした理由は、175気圧
未満だと内部酸化に長時間要するからである。また酸化
時間は30分未満だと低温の場合不十分な内部酸化しか
起こらないので、30分以上が好ましい。また予めMo
をコーティングする理由はTiは非常に反応性に冨むた
め内部酸化処理時にPt族金属とTi基板が異常な拡散
を起こし接合強度が劣化するのを防ぐためである。この
Moココ−ィングは物理蒸着、化学蒸着しあるいはプラ
ズマ溶射、線爆溶射などのいずれの方法を用いても良い
。
由は、300℃未満ではのPt基以外のPt族金属の酸
化が不十分であり、900℃を超えると不安定になった
り分解したりするのPt族酸酸化物多いからである。さ
らに酸素分圧175気圧以上とした理由は、175気圧
未満だと内部酸化に長時間要するからである。また酸化
時間は30分未満だと低温の場合不十分な内部酸化しか
起こらないので、30分以上が好ましい。また予めMo
をコーティングする理由はTiは非常に反応性に冨むた
め内部酸化処理時にPt族金属とTi基板が異常な拡散
を起こし接合強度が劣化するのを防ぐためである。この
Moココ−ィングは物理蒸着、化学蒸着しあるいはプラ
ズマ溶射、線爆溶射などのいずれの方法を用いても良い
。
(作用)
上記本発明の不溶性陽極の製造方法では、Ti基材上に
、予めMoをコーティングした後綿爆溶射によってのP
t基以外のPt族金属又はその合金を被覆するのである
から、その被膜は溶融飛散する粒子が非常に小さいこと
と、飛散速度が非常に速いことにより、気孔率が小さく
、密着強度が大きく、しかも表面粗度は非常に大きいも
のとなる。
、予めMoをコーティングした後綿爆溶射によってのP
t基以外のPt族金属又はその合金を被覆するのである
から、その被膜は溶融飛散する粒子が非常に小さいこと
と、飛散速度が非常に速いことにより、気孔率が小さく
、密着強度が大きく、しかも表面粗度は非常に大きいも
のとなる。
そしてこの線爆溶射によって被膜を内部酸化処理して得
た被膜は、MoがTi表面にコーティングしであるため
脆弱な拡散層を作らず密着強度、緻密性が必要且つ十分
なものとなり、表面粗度が非常に大きい為、実質上の表
面積が極めて大きいものとなり、しかも塩素過電圧が小
さく酸素過電圧の大きいPt以外ののPtt金属酸化物
なので、電解効率の高い不溶性陽極が得られる。
た被膜は、MoがTi表面にコーティングしであるため
脆弱な拡散層を作らず密着強度、緻密性が必要且つ十分
なものとなり、表面粗度が非常に大きい為、実質上の表
面積が極めて大きいものとなり、しかも塩素過電圧が小
さく酸素過電圧の大きいPt以外ののPtt金属酸化物
なので、電解効率の高い不溶性陽極が得られる。
(実施例)
本発明による不溶性陽極の製造方法の実施例を従来例と
共に説明する。先ず、第1の実施例について説明すると
、幅IQms長さLOOmm、厚さIBのTi板に、M
oを1μmスパッタリングした後、Pdを線爆溶射した
。線爆溶射の条件は、コンデンサ容flc=80μFの
コンデンサに充電電圧V=7.2KVで充電させ、この
エネルギー2073.6ジユールを1.−x60龍′の
Pd線材に瞬時に与え、Pdを溶融飛散させてTi仮に
被覆した。この時の溶射距離は18m1であり、線爆溶
射されたPd被膜は5μmで均一であった。線爆溶射の
時間は5秒以内であり、両面溶射でも10秒以内で終了
した。
共に説明する。先ず、第1の実施例について説明すると
、幅IQms長さLOOmm、厚さIBのTi板に、M
oを1μmスパッタリングした後、Pdを線爆溶射した
。線爆溶射の条件は、コンデンサ容flc=80μFの
コンデンサに充電電圧V=7.2KVで充電させ、この
エネルギー2073.6ジユールを1.−x60龍′の
Pd線材に瞬時に与え、Pdを溶融飛散させてTi仮に
被覆した。この時の溶射距離は18m1であり、線爆溶
射されたPd被膜は5μmで均一であった。線爆溶射の
時間は5秒以内であり、両面溶射でも10秒以内で終了
した。
この溶射被膜をもったTi板を700℃、酸素分圧9気
圧で1時間内部酸化した。X線回折によるとPdは全て
酸化され、PdO被膜ができた。しかもこの内部酸化処
理中MoがバリヤーとなりPdとTiとの拡散が防げ、
充分な接着強度を持つ被膜が得られた。この被膜の厚さ
は5μmであり表面粗さは第1図に示す通りであり、全
工程に要した時間は2時間以内であった。
圧で1時間内部酸化した。X線回折によるとPdは全て
酸化され、PdO被膜ができた。しかもこの内部酸化処
理中MoがバリヤーとなりPdとTiとの拡散が防げ、
充分な接着強度を持つ被膜が得られた。この被膜の厚さ
は5μmであり表面粗さは第1図に示す通りであり、全
工程に要した時間は2時間以内であった。
次に第2の実施例について説明すると、幅10mm長さ
100龍、厚さl關のTi板にMoを5μm線爆)電対
した後、1 *−X 5Qmm’のP d −I r2
6wt%合金の線材を第1の実施例と同一条件で、線爆
溶射し、さらに6.50℃、酸素分圧9気圧で1.5時
間内部酸化した。XN3回折によるとPd及びIrは全
て酸化され、P d OI r Oz30wt%の被膜
ができた。しかもこの内部酸化処理中にMoがバリヤー
となりPd−1rとTiとの拡散が防げ充分な接着強度
をもつ被膜が得られた。この被膜の厚さは5〜7μmで
あり、表面粗さは第2図に示す通りであり、全工程に要
した時間は2時間以内であった・ 一方、第1の従来例について説明すると、幅10mm、
長さ 100.m、厚さ111のTi+反りこ、フ゛タ
ノール’t8 Mに塩化1r及び塩化Pdを)電解させ
たものを塗布し、100°C乾燥、500’C熱分解を
20回繰り返し、PdO−1rc1230wt%の被膜
を得た。この被膜の厚さは5μmであり、表面粗差は第
3図に示す通りであり、全工程に要した時間は8時間で
あった。
100龍、厚さl關のTi板にMoを5μm線爆)電対
した後、1 *−X 5Qmm’のP d −I r2
6wt%合金の線材を第1の実施例と同一条件で、線爆
溶射し、さらに6.50℃、酸素分圧9気圧で1.5時
間内部酸化した。XN3回折によるとPd及びIrは全
て酸化され、P d OI r Oz30wt%の被膜
ができた。しかもこの内部酸化処理中にMoがバリヤー
となりPd−1rとTiとの拡散が防げ充分な接着強度
をもつ被膜が得られた。この被膜の厚さは5〜7μmで
あり、表面粗さは第2図に示す通りであり、全工程に要
した時間は2時間以内であった・ 一方、第1の従来例について説明すると、幅10mm、
長さ 100.m、厚さ111のTi+反りこ、フ゛タ
ノール’t8 Mに塩化1r及び塩化Pdを)電解させ
たものを塗布し、100°C乾燥、500’C熱分解を
20回繰り返し、PdO−1rc1230wt%の被膜
を得た。この被膜の厚さは5μmであり、表面粗差は第
3図に示す通りであり、全工程に要した時間は8時間で
あった。
第2の従来例について説明すると、幅10 ms、長さ
100■會、厚さ1 mlのTi仮に電気めっきにより
5μmののPt被被膜得た。この被膜の表面粗さは第4
図に示す通りであり、被膜形成時間は4時間であった・ 上記の如く被覆された第1、第2実施例及び第1、第2
従来例の不溶性陽極と、通常のTi板を陰極として組合
わせて、電極面積201m” 、極間距離4mm、電解
電流15A/dm”で3%NaCl2を電解し、塩素発
生効率を調べた処、第5図のグラフのような結果を得た
。
100■會、厚さ1 mlのTi仮に電気めっきにより
5μmののPt被被膜得た。この被膜の表面粗さは第4
図に示す通りであり、被膜形成時間は4時間であった・ 上記の如く被覆された第1、第2実施例及び第1、第2
従来例の不溶性陽極と、通常のTi板を陰極として組合
わせて、電極面積201m” 、極間距離4mm、電解
電流15A/dm”で3%NaCl2を電解し、塩素発
生効率を調べた処、第5図のグラフのような結果を得た
。
第5図のグラフで明らかなように実施例の不溶性陽極は
従来例の不溶性陽極に比し、電解効率が25%〜125
%向上していることが判る。これはひとえにTi十反に
対し予めMoをコーティングした後、のPt基以外のP
t族金属又はその合金を線爆溶射して被膜を形成し、そ
の被膜を内部酸化処理することによって、不溶性陽極の
実質表面積が増大し、しかも塩素過電圧が小さく、酸素
過電圧が太き(なって、電解効率が向上したからにほか
ならない。
従来例の不溶性陽極に比し、電解効率が25%〜125
%向上していることが判る。これはひとえにTi十反に
対し予めMoをコーティングした後、のPt基以外のP
t族金属又はその合金を線爆溶射して被膜を形成し、そ
の被膜を内部酸化処理することによって、不溶性陽極の
実質表面積が増大し、しかも塩素過電圧が小さく、酸素
過電圧が太き(なって、電解効率が向上したからにほか
ならない。
(発明の効果)
以上詳記した通り本発明の不溶性陽極の製造方法によれ
は、Ti基村上にのPt基以外のPt族酸化物をより成
る被膜を容易に且つ短時間に形成でき、しかも実質表面
積が太き(、塩素過電圧が小さく酸素過電圧が大きくて
、電解効率の極めて高い不溶性陽極を製造できるので、
従来の製造方法にて代わることができ、種々の電解工業
及びめっき工業に貢献するところ大なるものがある。
は、Ti基村上にのPt基以外のPt族酸化物をより成
る被膜を容易に且つ短時間に形成でき、しかも実質表面
積が太き(、塩素過電圧が小さく酸素過電圧が大きくて
、電解効率の極めて高い不溶性陽極を製造できるので、
従来の製造方法にて代わることができ、種々の電解工業
及びめっき工業に貢献するところ大なるものがある。
第1図及び第2図は夫々第1の実施例及び従来例及び第
2の実施例の陽極の表面粗さを示すグラフ、第3図及び
第4図は夫々第1の従来例及び第2の従来例の陽極の表
面粗さを示すグラフ、第5図は第1及び第2の実施例と
第1及び第2の従来例の塩素発生効率を示すグラフであ
る。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 tF’4’4M (mLn)
2の実施例の陽極の表面粗さを示すグラフ、第3図及び
第4図は夫々第1の従来例及び第2の従来例の陽極の表
面粗さを示すグラフ、第5図は第1及び第2の実施例と
第1及び第2の従来例の塩素発生効率を示すグラフであ
る。 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 tF’4’4M (mLn)
Claims (1)
- Ti基材上に、Pt以外のPt族酸化物より成る被膜を
有する不溶性陽極を製造するに於いて、Ti基材上に、
予めMoをコーティングし次いでPt以外のPt族金属
との合金の線材又は板材を線爆溶射して、Pt以外のP
t族金属との合金を被覆し、然る後300〜900℃、
酸素分圧1/5気圧以上で内部酸化処理して、Pt以外
のPt族酸化物より成る被膜を備えた不溶性陽極を得る
ことを特徴とする不溶性陽極の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61055636A JPS6324082A (ja) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | 不溶性陽極の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61055636A JPS6324082A (ja) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | 不溶性陽極の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6324082A true JPS6324082A (ja) | 1988-02-01 |
Family
ID=13004286
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61055636A Pending JPS6324082A (ja) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | 不溶性陽極の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6324082A (ja) |
-
1986
- 1986-03-13 JP JP61055636A patent/JPS6324082A/ja active Pending
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