JP3044797B2 - 酸素発生用陽極の製法 - Google Patents

酸素発生用陽極の製法

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JP3044797B2
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【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は酸素発生用陽極の製法に
関する。特にスズ、亜鉛、クロム又はこれらの合金等の
電気メッキに使用される酸素発生用陽極に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】スズ、亜鉛、クロム等の鋼板メッキ用陽
極としては現在、鉛又は鉛合金が使用されているが、鉛
は比較的消耗が速く、溶出した鉛によるメッキ液の汚
染、メッキ皮膜の劣化等の問題点がある。これに代る陽
極として白金メッキ陽極や白金箔クラッド陽極が検討さ
れているが、白金もかなり消耗が大きいという難点があ
り、そのために消耗の少ない貴金属及びその酸化物を電
極活性物質とした酸素発生用陽極が種々提案されてい
る。
【0003】しかしながら、経済性、加工性の面から広
く用いられるチタン及びその合金を基体として、単純に
電極活性物質を被覆しただけの電極では、使用中に陽極
に発生する酸素により電極被覆層と基体間に導電性の無
い酸化物層が形成され、残存する電極活性物質の量が十
分であっても電極としての機能が無くなってしまい、つ
いには電極被覆層の剥離を来し使用不能になるという不
都合を生じる(大田健一郎等、電気化学、57、No
1、P.71〜75(1989))。
【0004】このために電極活性物質の被着量を多くす
る傾向にあるが、高価な貴金属を使用することを考える
とその利用効率は決して良いものであると言えない。こ
の問題点を解決するために、特開昭59−38394号
公報には基体上に4価の原子価を有するチタン及びスズ
から選ばれた少なくとも1種の金属の酸化物と、5価の
原子価を有するタンタル及びニオブから選ばれた少くと
も1種の金属の酸化物との混合酸化物からなる中間層を
設け、その上に電極活性物質で被覆した電極が提案され
ている。この場合には中間層は酸素発生活性能は無く、
電気伝導性は一般に知られている4価と5価金属による
原子価制御理論に基づき得られるものと考えられるが、
その導電性は十分なものではない。
【0005】特開昭59−150091号公報では、更
に導電性を与える目的で白金をこの中間層に分散させた
ものが提案されているが、白金自身が電解液、特に硫酸
酸性溶液では消耗が大きいので中間層の耐久性に限界が
ある。またこの場合は中間層自体にも酸素発生活性能が
あるためにやがては不働態化が起る。
【0006】特開昭62−174394号公報では電気
メッキによる多孔性白金層が中間層として述べられてい
るが、この場合も前記と同様な理由で根本的な解決には
至っていない。
【0007】また特開昭57−192281号公報には
チタン又はチタン合金を基材とし、金属酸化物よりなる
電極被覆を有する電極において、その中間層としてタン
タル及び/又はニオブの導電性酸化物層を設けた酸素発
生を伴う電解用電極が提案されているが、タンタル又は
ニオブの酸化物層は酸素による不働態化現象を防止する
のに十分なものとは言えない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的はスズ、
亜鉛、クロム等の電気メッキ用陽極として検討されてい
る酸素発生用不溶性陽極において問題とされている基体
の不働態化を経済的に有利な方法で防ぎ、長寿命の電極
を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、酸素発生
用不溶性陽極において、基体上に金属タンタル及び/又
はタンタル合金の線材を溶射して酸素含有量の少ない、
かつ微細孔質の中間層を形成させることにより、電極活
性物質上で発生する酸素による不働態化に対し、十分な
抵抗力を有し長寿命の陽極が得られることを見出し本発
明を完成したものである。すなわち本発明はチタン又は
その合金よりなる導電性金属基体上に、金属タンタル及
び/又はその合金の線材を溶射して金属タンタル及び/
又はその合金を主成分とする中間層を設け、該中間層上
にタンタル化合物及びイリジウム化合物を含む溶液を塗
布し、酸化性雰囲気中で360〜550℃に加熱するこ
とにより酸化イリジウムを20モル%以上含み残部が酸
化タンタルよりなる電極活性層を設けることを特徴とす
る酸素発生用陽極の製法である。
【0010】 タンタル金属の膜を金属基体上に溶射
する方法は、これまでに提案されている。例えば、特開
昭48−40676号公報、及び特開昭56−1124
58号公報には耐食性金属粉末例えばタンタルをプラズ
マ溶射によって金属基体に溶射し、その上に電極活性物
質を被覆している。しかしながらこの方法溶射材料は
金属粉体であり、その粒径は一般に10〜100μm程
度であることが知られている。したがって溶射された
膜は溶けた状態の粉末が寄せ集められた状態であり、微
視的には数10μmの粒径が保持されているものと考え
られる。このようなタンタル粉末をプラズマ溶射した
膜上に貴金属酸化物を360〜550℃の温度で熱分解
被覆すると、タンタル被覆の酸化が激しく、酸化したタ
ンタル膜は脆く、金属基体より剥離しやすい。これは
タンタル膜が数10μm粒径の微細孔質で激しい酸化
を受けるものと考えられる。上記公報では真空中での加
熱処理や、電子ビームやプラズマアークの照射により基
体と合金化することで寿命増大を図っているが、未だ十
分な成果は得られていない。
【0011】 本発明者らは金属タンタル及び/又はそ
の合金の溶射に粉末を使用せず、線材でアーク溶射又は
プラズマ溶射し、その膜上に貴金属酸化物を熱分解法
で被覆すると、意外にもタンタル膜の酸化が少なく、
貴金属酸化物膜と良好な密着性を得ることができ、長
寿命の電極となることを見出した。
【0012】タンタル線及び/又はその合金線を溶射し
た場合、どの程度の粒径で線材が溶けているかは明瞭で
ないが、プラズマ溶射の際に使用される粉末材と比べて
数十〜数百倍大きいものと考えられ、そのために表面被
覆層形成時の熱分解工程でタンタル中間層の酸化による
脆化が少ないものと思われる。
【0013】本発明の金属基体に使用されるチタン又は
その合金は、金属チタンやチタン−タンタル−ニオブ、
チタン−パラジウム等のチタン基合金であり、その形状
は板状、棒状、エキスパンド状、多孔板状等種々の形状
をとり得る。
【0014】金属基体表面に形成される中間層は溶射中
に若干の酸素を取りこみ、金属タンタルとその酸化物及
び/又はタンタル合金とその酸化物の溶射層となる。溶
射方法には火炎溶射、プラズマ溶射、アーク溶射、爆裂
溶射等があるが、特にアーク溶射、プラズマ溶射で行う
と安定な被膜が得られる。基体表面は溶射の前処理とし
て、グリッドブラスト、ショットブラスト又はサンドブ
ラスト処理が施される。これらのブラスト材としてはア
ルミナ、炭化ケイ素、サンド等が利用され粒子径は20
0〜1000μm程度が適当である。
【0015】本発明に用いられるアーク溶射とは2本の
金属線間に電圧をかけ、溶射ガン先端部の金属線間に電
気アークを発生させ、このアークにより金属線が溶融さ
れる。溶融した金属を高速圧縮ガスにて金属基体上に被
着させるものである。また金属線を使用したプラズマ溶
射とは窒素、アルゴンのような不活性ガスを電気アーク
で高温に加熱する時の電極に溶射用の金属線を使用し、
ガスが電気アーク中を通過する時にイオン化されて、プ
ラズマ流となる。この時、金属線が溶融されて金属基体
上に被着されるものである。
【0016】これらの方法で溶射したタンタルとその酸
化物及び/又はタンタル合金とその酸化物の中間層の厚
みは5〜500μm程度である。この中間層は溶射によ
り形成されているため多くのピンホールを有し、気孔率
は0.5〜15%の範囲である。そのためチタン又はそ
の合金よりなる基体は、これを陽極として電気メッキを
行う際、メッキ液が中間層を通過浸透してメッキ液に曝
される。しかしその理由は不明であるが以上の様な状態
になっても基体金属のチタン又はチタン合金の酸化が進
行せず、電圧の上昇も生ぜずまたチタン基体の腐食も生
じない。この基体の酸化進行を防止するためには中間層
は10μm以上の厚みがあると効果が大きい。
【0017】 さらに上記のように気孔率が小さい方が
く、あまりに多孔質であることは好ましくない。また
タンタルはチタンの約20倍も高価な金属であるため、
経済的には500μm以下の厚みとするのが好適であ
る。溶射によって形成された中間層は金属タンタル及び
/又はその合金を主成分とするが、これらの酸化物を含
みX線回折法で測定した主強度の高さの比率による酸化
率又はその酸化物含有量は、1〜30重量%であり、火
炎溶射の場合は15〜30重量%、プラズマ溶射の場合
は1〜7重量%、爆裂溶射、アーク溶射はその中間程度
である。このタンタル酸化物及び/又はその合金の酸化
物は、電気メッキ中に基体の酸化が進行することを金属
タンタル及び/又はその合金と同様に防止しているもの
と思われる。
【0018】中間層の表面に形成される電極活性層は酸
化イリジウム及び酸化タンタルの混合物よりなり、酸化
イリジウムは20モル%以上、好ましくは20〜95モ
ル%、酸化タンタルは80モル%以下、好ましくは80
〜5モル%である。特に好ましいのは酸化イリジウム3
0〜90モル%、酸化タンタル70〜10モル%であ
る。酸化イリジウムのみにすれば電気メッキ中における
剥離、脱落が多く、電極としての寿命が短かくなる。ま
た電極活性層中における酸化タンタルの存在は中間層と
の密着強度に良い効果を与えているものである。
【0019】電極活性層は、塩化イリジウム酸、塩化イ
リジウム、塩化タンタル等の金属塩をエチルアルコー
ル、ブチルアルコール、プロピルアルコール等の溶媒に
溶かして所定組成の混合溶液を調整し、ハケ塗り、ロー
ル塗り、スプレー塗り又は浸漬等の方法により塗布し熱
分解処理を行うことにより形成される。塗布後、溶媒を
蒸発させるため100〜150℃で約10〜20分間乾
燥し、空気又は酸素雰囲気の電気炉中で360〜550
℃、好ましくは380〜500℃で10〜30分間熱分
解処理を行う。熱処理温度が上記範囲未満では熱分解が
完全に起らず、上記範囲を超えると基体チタンと中間層
をなすタンタル又はタンタル合金の酸化が進行して損傷
を受ける。この様にして被覆した電極活性層は5g/m
2 以上あると酸素発生に対して触媒能、寿命ともに良好
となる。
【0020】本発明による陽極は電気メッキ時の電流密
度が10A/dm2 以上で使用することが好ましく、最
大で300A/dm2 まで使用可能である。
【0021】
【作用】本発明による陽極は、基本的には中間層が金属
タンタルを主成分とするので導電性が良好である。また
この中間層は、金属線材の溶射により形成されるため適
度に多孔質であることが電極活性層との密着力を大にし
ているとともに、十分な金属基体の保護をなしているも
のと考えられる。
【0022】
【実施例】以下、実施例、比較例により本発明を詳述す
る。 実施例1 市販チタン板(1×10×0.1cm)をトリクロルエ
チレンにて脱脂後、アルミナグリッド(4)を使用して
圧力4Kg/cm2 でブラスト処理を行った。次に線径
1.2mmのタンタル線を用いてアーク溶射機で溶射を
行い、厚み50μmの溶射層(中間層)を得た。X線回
折より皮膜の化学構造を調べたところ、TaとTa2
5 が形成されており酸化率は11%であった。
【0023】その表面に下記組成の溶液を塗布した。 五塩化タンタル 0.47g 塩化イリジウム酸 1.0g 塩酸 1.0ml ブチルアルコール 15ml これを120℃で20分間乾燥し、次いで450℃の電
気炉中で20分間乾燥し、次いで450℃の電気炉中で
20分間熱分解することによりTa2 5 (40モル
%)とIrO2 (60モル%)との混合酸化物よりなる
皮膜を有する電極を得た。この操作を数回くり返し酸化
イリジウムとして10g/m2 含有する電極活性層を得
た。電極活性層と溶射層との密着性は非常に良好であっ
た。
【0024】この電極を50℃、100g/lの硫酸ナ
トリウム水溶液(pH1.2)中で陽極として用い、白
金線を陰極として電流密度200A/dm2 で試験を行
い、槽電圧が2V上昇するまでの時間を電極寿命として
判定した。これにより使用可能時間は5150時間であ
った。ケイ光X線分析の結果、残存の酸化イリジウムは
0.8g/m2 であり、92%の利用率であった。
【0025】実施例2〜5、比較例1、2 溶射層の被覆は実施例1と同様に行い、電極活性層の組
成を表1のように変化させて酸化イリジウムとして10
g/m2 含有する陽極を作製し、同様の電解試験を行い
表1の結果を得た。
【0026】
【表1】
【0027】比較例3 ブラスト処理を行った市販チタン板(1×10×0.1
cm)にタンタル粉末(粒径20〜50μm)を、アル
ゴンガスをプラズマガスに使用してプラズマ溶射を行
い、厚み50μmの溶射層を得た。この上に実施例1と
同様の方法で酸化イリジウムとして10g/cm2 (I
rO2 :Ta25 =70:30モル比)の電極活性層
を得たが、タンタル溶射層の酸化が激しく、タンタル溶
射層と電極触媒層の密着性は頗る悪く、実施例1と同様
の試験を行ったところ、陽極の寿命は830時間であっ
た。
【0028】実施例6 市販チタン材(1×10×0.1cm)をアルミナグリ
ット(#30)でブラスト処理を行った後、タンタル線
(線径1.2mm)を、アルゴンガスをプラズマガスに
使用してワイヤプラズマ溶射機でプラズマ溶射を行い、
厚み100μmの溶射層を得た。X線回折により皮膜を
調べたところ、TaとTa2 5 が形成されておりX線
回折による酸化率は5%であった。この上に実施例1と
同様の方法でTa2 5 (40モル%)とIrO2 (6
0モル%)との混合酸化物よりなる電極活性層を得た。
電極活性層とタンタル溶射層との密着性は良好であっ
た。実施例1と同様の試験を行ったところ、陽極の寿命
は5100時間であり、残存の酸化イリジウムは0.5
g/m2 となり、酸化イリジウムの利用率は95%であ
った。
【0029】比較例4 市販チタン板(1×10×0.1cm)を実施例1と同
様の方法でブラスト処理を行った。その上に高周波スパ
ッタリング装置(〜10-2Torr、アルゴンガス、印
加電圧2KVの条件)を用いてタンタルを1μmの厚さ
にスパッタリングした。その表面に実施例1と同様の塗
布液を塗布し、同様の方法でTa2 5 (40モル%)
とIrO2 (60モル%)との混合酸化物よりなる皮膜
(10g/m2 )を有する電極を得た。この電極を用い
実施例1と同様の条件で試験を行ったところ陽極の寿命
は680時間であり、残存の酸化イリジウムは7.0g
/m2 となり,その利用率は30%であった。
【0030】
【発明の効果】本発明による酸素発生用陽極において、
金属タンタル及び/又はタンタル合金の線材を使用して
溶射することにより形成された中間層は、チタン又はチ
タン合金基材の電解酸化を防ぐとともに、金属タンタル
及び/又はタンタル合金自体の持つ強い耐食性と耐電解
酸化性及び良好な導電性を有する。また中間層上に熱分
解被覆した電極活性層は中間層と良好な密着性を保ち、
酸素発生に対する触媒活性が大であり、かつ中間層と同
様に硫酸系溶液に対する耐食性に優れている。
【0031】以上の効果は中間層をタンタル線及び/又
はタンタル合金線の溶射以外の方法により形成させた陽
極に比べ特に顕著なことは上記実施例、比較例によって
も明らかである。このようにして本発明によれば、硫酸
系溶液中における電解に際して溶解や脱落が少なく酸化
イリジウム触媒の大部分を利用できる長寿命の酸素発生
用陽極が比較的簡易な製法によって得られる。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−24083(JP,A) 特開 昭63−24082(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C25B 1/00 - 15/08

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チタン又はその合金よりなる導電性金属
    基体上に、金属タンタル及び/又はその合金の線材を溶
    射して金属タンタル及び/又はその合金を主成分とする
    中間層を設け、該中間層上にタンタル化合物及びイリジ
    ウム化合物を含む溶液を塗布し、酸化性雰囲気中で36
    0〜550℃に加熱することにより酸化イリジウムを2
    モル%以上含み残部が酸化タンタルよりなる電極活性
    層を設けることを特徴とする酸素発生用陽極の製法。
  2. 【請求項2】 溶射がアーク溶射又はプラズマ溶射であ
    る請求項1に記載の酸素発生用陽極の製法。
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