JPS6323921A - 封止用樹脂組成物 - Google Patents

封止用樹脂組成物

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JPS6323921A
JPS6323921A JP16670286A JP16670286A JPS6323921A JP S6323921 A JPS6323921 A JP S6323921A JP 16670286 A JP16670286 A JP 16670286A JP 16670286 A JP16670286 A JP 16670286A JP S6323921 A JPS6323921 A JP S6323921A
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JP
Japan
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resin
dye
titanium white
epoxy
epoxy resin
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JP16670286A
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English (en)
Inventor
Tsukasa Matsuzawa
主 松沢
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Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
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Publication date
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、電子回路部品に悪影響をおよぼす赤外線の透
過を防止し、かつレーザーマーク鮮明度に優れた封止用
樹脂組成物に関する。
(従来の技術) 従来ダイオード、トランジスタ、集積回路などの電子部
品では熱硬化性樹脂を用いて封止する方法が行われてき
た。 この樹脂封止は、ガラス、金属、セラミックを用
いたハーメチックシール方式に比較して経済的に有利な
ために、広く実用化されている。 封止用樹脂組成物と
しては、熱硬化性樹脂組成物の中でもエポキシ樹脂組成
物が最も一般的に用いられている。 エポキシ樹脂組成
物には、酸無水物、芳香族アミン、ノボラック型フェノ
ール樹脂等の硬化剤が用いられている。
これらの中でもノボラック型フェノール樹脂を硬化剤と
したエポキシ樹脂組成物は、他の硬化剤を使用したもの
に比べて、成形性、耐湿性に優れ、毒性がなく、かつ安
価であるため半導体封止材料として広く用いられている
。 この封止材料で封止した電子部品の表面に製品名や
製造者名をマークする方法として、現在では熱硬化性イ
ンキで捺印する方法が一般に採用されている。 しかし
、インキによるマークは、有様溶剤で比較的容易に消え
たり、また摩擦等に弱いという欠点がある。
これらの欠点を補い、マーキング工程の効率化を図るた
めに、最近炭酸ガス等のレーザーを用いたレーザーマー
クが行われるようになった。
しかし、着色剤としてカーボンブラックのみを使用した
従来の樹脂組成物では、レーザーマークをした場合の鮮
明度がインキマーキング法より劣るという欠点がある。
 また着色剤として染料のみを用いた樹脂組成物では、
レーザーマーク鮮明度が優れているものの、赤外線に対
し、吸収もしくは反射による遮蔽効果が小さいという欠
点がある。 そのため赤外線を透過させ、半導体製品を
誤動作させる原因となっていた。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、上記の欠点を解消するためになされたもので
、赤外線の遮蔽効果が大きく、すなわち赤外線の透過が
小さく、かつレーザーマーク鮮明度に優れた封止用樹脂
組成物を提供することを目的としている。
[発明の構成] (問題を解決するための手段と作用) 本発明者らは、上記の目的を達成しようと鋭意研究を重
ねた結果、エポキシ樹脂組成物に染料とチタンホワイト
を配合すれば、赤外線の透過が小さく、レーザーマーク
の鮮明度に優れていることを見いだし、本発明を完成し
たものである。
即ち、本発明は、 (A)エポキシ樹脂 (B)ノボラック型フェノール樹脂 (C)染料 (D)チタンホワイトおよび (E)無機質充填剤 を必須成分とし、樹脂組成物に対して、前記(D>のチ
タンホワイトを0.01〜20重量%、また前記(E)
無機質充填剤を25〜90重量%の割合でそれぞれ含有
することを特徴とする封止用樹脂組成物である。 そし
て、エポキシ樹脂のエポキシ基(a)とノボラック型フ
ェノール樹脂のフェノール性水酸基(b ’)との当量
比[(a)/(b)]が0.1〜10の範囲内にある封
止用樹脂組成物である。
本発明に用いる(A)エポキシ樹脂としては、その分子
中にエポキシ基を少なくとも2個有する化合物であるか
ぎり、分子構造、分子団など特に制限はなく、一般に封
止用材料に使用されているものを広く包含することがで
きる。 例えばビスフェノール型の芳香族系、シクロヘ
キサン誘導体等の脂環族系、さらに次の一般式で示され
るエボ(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子又はアル
キル基を、R2は水素原子又はアルキル基を、nは1以
上の整数を表す) これらのエポキシ樹脂は、1種又は2種以上混合して用
いられる。
本発明に使用する(B)ノボラック型フェノール樹脂と
しては、フェノール、アルキルフェノール等のフェノー
ル類とホルムアルデヒドあるいはバラホルムアルデヒド
を反応させて1qられるノボラック型フェノール樹脂お
よびこれらの変性樹脂、例えばエポキシ化もしくはブチ
ル化ノボラック型フェノール樹脂等が挙げられ、これら
は単独又は2種以上混合して使用する。 ノボラック型
フェノール樹脂の配合割合は、前記(A)エポキシ樹脂
のエポキシ基(a)と(B)ノボラック型フェノール樹
脂のフェノール性水酸基(b)とのモル比[(a)/(
b)]が0.1〜10f7)iHItl内15にとが望
ましい。 このモル比が0.1未満もしくは10を超え
ると、耐湿性、成形作業性および硬化物の電気特性が悪
くなり、いずれの場合も好ましくない。 従って、上記
の範囲内に限定される。
本発明に用いる(C)染料としては、特に限定するもの
ではないが例えば、構造式(I)〜(VT )に示した
ような金属錯塩有機染料もしくは全屈イオーンを有する
含金属有機染料または構造式(■)〜(X)に示したよ
うに分子中にアゾ基を有する化合物等が挙げられ、これ
らは単独又は2種以上混合して用いる。
のクロム錯塩       (IV) (X) 本発明に用いる(D)チタンホワイトとしては、構成物
質が二酸化チタンからなる通常広く用いられている白色
顔料である。 TiO2であれば特に制限はなく、市販
のものが使用できる。 チタンホワイトの配合割合は、
樹脂組成物に対して0.01〜20重量%含有すること
が望ましい。 配合割合が0.01重量%未満では赤外
線に対する遮蔽効果が不充分であり、また20重温%を
超えるとレーザーマークをした場合のマークの鮮明度が
悪く好ましくない。
チタンホワイトを用いると赤外線の遮蔽効果が大きく、
レーザーマーク鮮明度に優れる理由は、次のようなもの
と推定される。 即ち、チタンホワイトは可視光に対し
て反射率が高く遮蔽効果がある。 またLIV領域では
光を吸収するため、やはり光を遮蔽することができる。
 1102粒子は赤外からU■領領域至る広範囲な波長
域において光の遮蔽効果が得られるものである。 また
レーザーマーク鮮明度に優れるのは、レーザー光の照射
により半導体装置表面の染料および樹脂が蒸散し、耐熱
性のよいチタンホワイトが残る。 残在するチタンホワ
イトは白色であるため、レーザー光をあてた部分と着色
部とのコントラストが大きくなり鮮明なマークとなるた
めである。
本発明に用いる(E)無機質充填剤としては、シリカ粉
末、アルミナ、三酸化アンチモン、タルク、炭酸カルシ
ウム、クレー、マイカ、ベンガラ、ガラ218m1炭素
繊維等が挙げられ、これらの中でも特にシリカ粉末およ
びアルミナが好ましい。
無機質充填剤の配合割合は、樹脂組成物の25〜90重
量%を配合することが必要である。 その配合量が25
重量%未満では耐湿性、耐熱性、機械的特性および成形
性に効果なく、また90重重量を超えるとかさばりが大
きくなり、成形性が悪く実用に適さない。
本発明の封止用樹脂組成物は、エポキシ樹脂、ノボラッ
ク型フェノール樹脂、染料、チタンホワイトおよび無機
質充填剤を必須成分とするが、必要に応じて、例えば天
然ワックス類、合成ワックス類、直鎖脂肪酸の金属塩、
酸アミド、エステル類、パラフィン類などの離型剤、塩
素化パラフィン、ブロムトルエン、ヘキサブロムベンゼ
ン、三酸化アンチモンなどの難燃剤、カーボンブラック
、ベンガラなどの着色剤、シランカップリング剤等を適
宜添加配合することもできる。
本発明の封止用樹脂組成物を成形材料として製造する場
合の一般的な方法は、エポキシ樹脂、ノボラック型フェ
ノール樹脂、染料、チタンホワイト、無機質充填剤およ
びその他、所定の組成比に選んだ原料組成分を、ミキサ
ー等によって十分均一に混合した後、更に熱ロールによ
る溶融混合処理、又はニーダ等による混合処理を行い、
次いで冷却固化させ、適当な大きさに粉砕して成形材料
とする。 こうして得られた成形材料は、電子部品或い
は電気部品の封止、被覆、絶縁等に適用すれば、優れた
特性と信頼性の高い部品等を提供することがことができ
る。
(実施例) 次に本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発
明は以下の実施例に限定されるものではない。 以下の
実施例および比較例において「%」とあるのは「重量%
」を意味する。
実施例 1 クレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当II 
215) 18%に、ノボラック型フェノール樹脂(フ
ェノール当ffi 107) 12%、次に示した染料
1%、 チタンホワイト0.20%および溶融シリカ粉末68.
8%を常温で混合し、更に90〜95℃で混練して冷W
した後、粉砕して成形材料を得た。 得られた成形材料
をタブレット化し予熱して、170℃に加熱した金型内
にトランスファー注入し硬化させて成形品(封止品)を
得た。 この成形品についてレーザーマーク鮮明度、赤
外線透過率、誤動作の有無、機械的強度、耐湿性、温寒
サイクル等を試験した。 その結果を第1表に示したが
、本発明の顕著な効果が認められた。
実施例 2 タレゾールノボラックエポキシ樹脂〈エポキシ当m 2
45) 16%に、ノボラック型フェノール樹脂(フェ
ノール化ω107) 13.5%、次に示した染料0.
5%、 チタンホワイト0.5%およびシリカ粉末69.5%を
実施例1と同様に混合、混線、粉砕して成形材料を得た
。 次いで同様にして成形品を得てこれらの成形品につ
いて実施例1と同様にして開時性を試験したので、その
結果を第1表に示した。 本発明の顕著な効果が認めら
れた。
比較例 1 タレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当ffi
 215) 20%に、ノボラック型フェノール樹脂(
フェノール化1107) 10%、次に示した染料1お
よびシリカ粉末69%を実施例1と同様に混合、混練、
粉砕して成形材料を得た。 この成形材料を用いて成形
品とし、成形品の開時性について実施例1と同様に試験
した。 その結果を第1表に示した。
比較例 2 タレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当fi 
215) 20%に、ノボラック型フェノール樹脂(フ
ェノール化fil 107) 10%、カーボンブラッ
ク1%およびシリカ粉末69%を実施例1と同様に混合
、混線、粉砕して成形材料を得た。 この成形材料を用
いて成形品とし、成形品の開時性について実施例1と同
様に試験した。 その結果を第1表に示した。
第1表 *1 :成形材料を用いて470℃で3分間トランスフ
ァー成形し、その後180℃で8時間硬化させた。こう
して得た封止電気部品100個について炭酸ガスレーザ
ーを用いてレーザーマークを行い、目視で鮮明度を評価
した。
*2ニー65℃と+200℃の恒温槽に各30分間ずつ
入れ500サイクル繰り返した後の樹脂クラックを調査
した。
*3:成形材料を用いて2本のアルミニウム配線を有す
る電気部品を 170℃で3分間トランスファー成形し
、その後180℃で8時間硬化させた。
こうして得た封止電気部品100Il!iIについて1
20”Cの高圧水蒸気中で耐湿試験を行い、アルミニウ
ム腐食による50%の断線(不良発生)の起こる時間を
評価した。
〔発明の効果1 以上の説明および第1表からも明らかなように、本発明
の封止用樹脂組成物は、赤外線の遮蔽効果が大きく、赤
外線の透過が小さく、レーザーマーク紅明度に優れてい
るため、赤外線による誤動作を防止し、さらに耐熱性、
耐湿性にも優れており、この組成物を使用することによ
って信頼性の高い電子・電気部品を得ることができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (A)エポキシ樹脂(B)ノボラック型フェノール
    樹脂 (C)染料 (D)チタンホワイトおよび (E)無機質充填剤 を必須成分とし、樹脂組成物に対して、前記(D)のチ
    タンホワイトを0.01〜20重量%、また前記(E)
    無機質充填剤を25〜90重量%の割合でそれぞれ含有
    することを特徴とする封止用樹脂組成物。 2 エポキシ樹脂のエポキシ基(a)とノボラック型フ
    ェノール樹脂のフェノール性水酸基(b)との当量比[
    (a)/(b)]が 0.1〜10の範囲内にある特許
    請求の範囲第1項記載の封止用樹脂組成物。
JP16670286A 1986-07-17 1986-07-17 封止用樹脂組成物 Pending JPS6323921A (ja)

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JPS63168461A (ja) * 1986-12-29 1988-07-12 Orient Chem Ind Ltd 成形用樹脂組成物
JP2008186886A (ja) * 2007-01-29 2008-08-14 Kyocera Chemical Corp 模造防止機能を有する樹脂封止型半導体装置

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