JPS63239042A - 熱線反射膜 - Google Patents

熱線反射膜

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JPS63239042A
JPS63239042A JP62183549A JP18354987A JPS63239042A JP S63239042 A JPS63239042 A JP S63239042A JP 62183549 A JP62183549 A JP 62183549A JP 18354987 A JP18354987 A JP 18354987A JP S63239042 A JPS63239042 A JP S63239042A
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JP
Japan
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film
layer
thickness
titanium oxide
heat ray
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Pending
Application number
JP62183549A
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English (en)
Inventor
田代 比左夫
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、透明な基材上に、誘電体薄膜で挟まれた金属
薄膜を形成せしめて成る熱線反射材に関するものである
。こ\で、熱線反射材とは、可視光線の透過率が出来る
だけ高く、且つ可視光線の波長より長い波長を持つ熱線
、特に近赤外光線は反射してその透過率を出来るだけ低
くする事に依り、太陽光を採光し乍ら熱線を防ぐ、省エ
ネルギーに役立つ膜であり、冷房室、冷房車軸の窓材と
して用い、その冷房エネルギーを節約する事が出来る。
(従来技術) 透明な基材上に、誘電体の薄膜で挟まれた金属薄膜を形
成せしめて、熱線反射材として使用する事は に公知の
技術である。(Solar EnergyMateri
als 6 (1981) P、1〜41参照)又本発
明と同様な組合わせである八gをチタンの酸化物で挟ん
だ熱線反射膜は、MITの叶+ Fanが1974年に
提唱しくApplied Physics Lette
r 25 N112  P693.特開昭51−668
41号)又、本邦に於ては、音大側が特公昭60−36
940号でその効果を明かにしている。然し乍ら以下説
明する様に、DR,Fanの膜も音大側の膜も本発明の
TiO□/Ag/Ti0zとは異なりTiOx/Ag/
TiOxと表現すべき膜である。Dr、Fanの膜は、
酸化チタン層の形成にスバタリングを使用して居るが、
TiO□ターゲットを酸素を含まぬアルゴンプラズマで
15分間と云う長い時間プレスバタリングを行ったあと
でスバタリング成膜を行っている。
Ti0zターゲツトを酸素を含まぬ不活性ガスのプラズ
マでプレスバタリングすると、ターゲットの表面は急速
に還元され、色も黒色に変化する事は、当事者の常識で
あり、この文献の如<、15分もプレスバタリングした
時は酸化チタンのターゲットの表面はTiOxとなって
居り、引き続きこのターゲットをスバタリングするとそ
の際生成する膜もTiOxの膜となる。従って、Dr、
Fanの膜は、文献に記載のTioz/Ag/Ti0z
ではなく厳密にはTiOx/Ag/TieXと表示され
るべきである。更にこ文献中にOr、Fan自身が延べ
ている如く、プレスバタリングの条件を失敗すると低性
能の膜となり再現性もなく、工業化する事も不可能であ
る。
一方、特公昭60−36940号は酸化チタンの薄膜を
生成せしめる方法としてアルキルチタネートの溶液を塗
工し、次いで空気中で加熱して酸化チタンを生成せしめ
ている。この場合も生成する酸化チタン膜中には数%の
有機物質を含み且つ屈折率も低く、(機能材料、198
2.1111111、P、16)  叶、Fanの膜と
同様に厳密な意味ではTiO□/ Ag/TiO2では
なくTiOx/八g/ へiOXと表現されるべきもの
である。
太陽から地球への放射エネルギーの波長毎の分布は、第
3図に示す通りである。すなわち熱線のうち最もエネル
ギーの高いのは可視範囲につながる極近赤外部(800
0人〜10000人)である。従って、冒頭に記した冷
房室への熱線の入射を防ぐ目的からは8000Å以上の
波長の光の透過を出来るだけ防ぐことが望ましい。一般
的に金属を誘電体で挟んで熱線反射膜に於て、誘電体層
の光学的厚さが厚い方が可視光部分の反射を防止し、そ
の代表的数値としての5000人の波長の光の透過率を
上げ得るが、厚くすると近赤外部の熱線の反射も同時に
防止してしまい、結果として近赤外部の代表的数値とし
ての8000人の光の透過率が高くなってしまう。
5000人の光線の透過率を上げ、8000人の光の透
過率を下げる為には、出来るだけ光の屈折率の高い(化
学量論的にTie、に出来るだけ近い)酸化チタンの膜
を使用することが好ましい。
(発明が解決すべき問題点) 化学量論的にTiO□に最も近い膜を生成せしめるには
、含酸素プラズマを用いTi0zターゲツトをスバタリ
ングする方法が最も信頼し得る方法である。
(東大出版会刊「スバタリング現象J P、120)然
るに先に挙げた2つの文献が、この方法を採用していな
い原因は、Ag膜の耐食酸素プラズマ性が劣弱である事
に依る。先記叶、 Fanの文献にも記載の如く、Ag
膜の上に更にTi0t膜を生成せしめる際に、含酸素プ
ラズマを用いるとAgが劣化し熱線反射能を失った膜と
なる。
従って、解決すべき問題は耐プラズマ性の優れたAgF
I膜を生成せしめる事及びAg膜を劣化せしめない第三
層としてのTi0z膜の生成法の確立である。
(問題点解決の手段) 本発明者は、上述の問題点を踏まえてTi(h/ Ag
/Ti(h II!の生成法を鋭意研究し本発明に至っ
た。
先ず、参考例として前記第一層/第二層/第三層の厚さ
と光線透過性能を第1図に示す。図において(a)はT
i0z/ Ag/Ti01の厚さが135/230/1
35 、(b)は123/230/123 、(c)は
110/230/110 (いずれも単位は入)の光透
過率曲線を示す。
本図から判る如(、TiO□の厚さが薄くなるに従って
、反射防止の波長のピークが短波長側にずれる。又、A
g膜は連続膜が生成し得る限り薄い方が透過率が高い。
従って、より高性能の熱線反射膜を得る′ためには、T
ie、の層もAgの層も両者ともより薄くする事が必要
である。ところが、TiO□層の厚さを薄くするに従い
、その上に生成せしめたAg層の耐プラズマ性が極端に
弱くなり、Ag層の上社更に第三層としてのTiCh層
をスバタリング法で生成せしめる際に、第二層のAg膜
が、全面的に、或は部分的に変質し、その電気伝導性を
失い、従って、熱線反射性能を全く失われる。
本発明者は、上記第1図の結果から常識的に要求される
TiO□膜を80〜90人まで薄くすると云う事に反し
て、Ti0z膜を大巾に厚くする事に依りその上に生成
せしめたAg膜の耐プラズマ性が飛躍的に向上する事を
見出した。更に、第三層のTiO2膜の厚さも大巾に厚
くする事に依り、第2図にその光線透過性能を示す如く
極く近赤外線の透過率が極めて低い膜を生成せしめ得る
事を見出した。すなわち、第2図は実施例1に記載の膜
の性能を示す。
第2図に示す膜は、赤外領域にも反射防止のピーク(従
って光線透過のピーク)を持つ。この事は熱線防止の観
点からは望ましいことではない。然し乍ら、太陽から地
上に到達する光の各波長のエネルギーは第3図示す通り
、波長1ミクロンを越えると急激に減少する。従って、
第2図に示す如く1ミクロンを越える波長領域に、反射
防止のピークを持ちこの部分の熱線を多少透過せしめて
も、0.8ミクロン〜1.0ミクロンの熱線をカットす
る事が、総体的な、熱線反射性能の向上にははるかに有
効である。
本発明は、 (1)可視光に対し実質的に透明な基材の上に、順次、
酸化チタンと銀と酸化チタンとの薄膜を積層してなる熱
線反射膜であって、第一層である酸化チタンの厚さが2
00Å以上350Å以下で光の屈折率が2.4以上、第
二層の銀の厚さが100Å以上300Å以下、第三層の
酸化チタンの厚さが60Å以上350Å以下である事を
特徴とする熱線反射膜 (2)  熱線反射膜の赤外線透過率の分光特性が、光
の波長1μ−以上2μm以下のある波長aにおける透過
率の値が、a+0.3um及びa −0,3μ腸の波長
における透過率より10%以上高い事を特徴とする前記
第(11項記載の熱線反射膜を提供する。
本発明の基材としては、可視光線に対して実質的に透明
で実用強度、耐久性をもつ材料であれば何でも良い。公
知のものも用い得る。例えば、ガラス、無機結晶体、ポ
リエステル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエ
ーテルサルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリオレ
フィン、ポリオレフィンコポリマー等何れも使用し得る
基材の上に設ける第一層の酸化チタン(以下TiO□と
も云う。)の厚さは200Å以上が必要である。このT
i0zの厚さが200人より薄い場合には、その上に生
成せしめる銀(以下Agとも云う。)膜の耐プラズマ性
が劣り良好な熱線発射性能を得る事が出来ない。好まし
くは250人〜350人、さらに好ましくは280〜3
00人である。
又第一層の酸化チタンの層の光に対する屈折率は2.4
以上である事が必要である。この光の屈折率が2.4未
満であると、必要な厚さが500人を超え、生産性を阻
害する。この光の屈折率が2.4以上の酸化チタンの層
は、後述の実施例にも記される如く、酸素20容量%以
上を含む不活性ガス、例えばアルゴン、ネオン、クリプ
トン等のガスのプラズマを用い、高純度の酸化チタンの
ターゲットを用い、高周波スバタリングに依り製膜する
事に依り得られる。
第二層のAg膜は、100人〜300人であり、160
Å以上200Å以下である事が好ましい。
上記の如<Ag膜の耐プラズマ性は、第一層のTiO2
の厚さに大きく依存するが、同時に八g膜自身の厚さに
も依存する。薄ければ薄い程、耐プラズマ性が劣る。一
方に於て、Ag膜の厚さを厚くすると可視光の透過率を
低下せしめて、暗い膜となる。
第三層のTi0zの厚さの範囲は60〜350人が好ま
しく、さらに好ましくは60〜300人である。またそ
の光に対する屈折率は高い方が望ましいが2.2以上あ
れば良い。その作り方は後述の実施例に示す如く、充分
に酸化された酸化チタンターゲットを酸素含量0.5容
量%以下のアルゴンプラズマでスバタリングする事に依
り実現し得る。
この際第一層の酸化チタンの層の成膜と同じ条件、すな
わち酸素20容量%を含むアルゴンプラズマでスバタリ
ングする方が、酸化チタンの屈折率を高くする目的から
は望ましいが、この条件では銀の層が破壊されるためア
ルゴン中の酸素濃度を低下せしめる必要がある。又、特
に第一層のTiO□と第三層のTiO□を共に250Å
以上300Å以下の範囲の同一厚さとする事は極めて望
ましい。かくする事に依り、第2図で示すような光学特
性を持つ膜を好適に得ることが可能となる。
本発明の選択光透過性熱線反射膜の好ましい製法として
本願と同一の出願人の出願にかかる、[実質的に透明な
基材と、銀薄膜の両側に酸化チタンの薄膜を配した多層
膜とからなる選択光透過膜を高周波スバタリング法によ
り製造する際、銀膜を生成せしめる前に、酸素を含まな
い不活性気体プラズマで、バナジウム、チタン、ジルコ
ニウムよりなる群より選ばれた1種以上の金属ターゲッ
トを用いて予備スバタリングを行い、かつ予備スバタリ
ングする時間を、前記1種以上の金属を予備スバタリン
グする時に観察されるプラズマの色が、それ等の金属特
有のプラズマ色を安定して示すまでの時間以上とする事
を特徴とする、選択光透過膜の、製造法。」を用いるこ
とができる。
積層された基材、銀、酸化チタンの各層はそれぞれに密
着している事が好ましい。ここで密着とは上記それぞれ
の層がお互いの被着体の表面に接して、その表面をおお
うと共に、密着性の評価を行った場合外観が不変で、剥
離が生じない程度の接着力以上で接着している状態を云
う。
密着性の評価は、市販のセロテープを5 kg / c
taの圧力で、膜に5秒間押圧の後、剥離して、膜の外
観の変化及び剥離状態を観察する。
次に第2図で示す実施例の熱線反射膜は、銀膜の反射率
を酸化チタン薄膜の光学的干渉効果の利用に於て、その
2次干渉効果を利用したものと考えられる。従って、本
腰の赤外光線透過率の分光特性が、波長1μm以上2μ
m以下のある波長aに於ける透過率の値が、波長a±0
.3μmにおける値よりも10%以上高いことが望まし
い。このピークの波長が1μmより短いか2μmより長
い場合には何れも可視光線部分に2次干渉のピークを位
置せしめ得ない。又この波長aに於ける1次干渉のピー
クがa±0.3μmにおける透過率よりも10%以上高
くしないと、可視部に於ける2次干渉のピークすなわち
希望波長帯の透過率が低くなる傾向がある。
本発明に於ける膜厚の測定法は、スバタリング法に依る
製膜は同一条件でスバタリングする場合には、生成する
膜の厚さは製膜時間に正比例することを利用する。(共
立出版刊“薄膜化技術”P。
120参照)、8膜について触針式厚さ測定器で正確な
厚さを測定し得る0、1μm以上の厚さになる迄、本発
明の熱線反射膜作成時と同一条件でスバタリング製膜し
、その厚さを触針式厚さ測定器で測定し、熱線反射膜の
各層の厚さは、上記で得られた触針式厚さ測定器により
測定した膜の厚さの各々の製膜時間比により定めた。
酸化チタンの層の屈折率は、エリプソメーターに依り測
定した。
又、本発明に於ける光の透過率の測定は、波長1μta
 (1,000nm)に於ける分解能が0.01μm 
(10nm)以下になる様に測定条件を設定し、通常の
分光光度計で測定する。
(発明の効果) 本発明により、化学量論的に、略々規制された、酸化チ
タンでAg膜を挟んだすぐれた性能の熱線反射膜を実現
することが出来る。特に特許請求範囲2の構成にするこ
とにより、極めて美麗で且つ、至近の近赤外線を大巾に
遮断し得る熱線反射膜を実現し得る。
(実施例) 以下の各側の製膜はすべて高周波マグネトロンスバタリ
ングに依り行った。使用したターゲットはTiO□もA
gもともに99.99%以上の純度のものを用いた。又
、Tie、のターゲットは酸素25vo1%を含むアル
ゴンプラズマに依り、又、Agのターゲットは、アルゴ
ンプラズマに依り、充分にプレスバタリングを行った後
に、製膜を行った。
すなわち、恨の製膜の前に基材をダミー基材にしておき
、銀の製膜時に銀の原子或は粒子が通過する経路に向け
て、チタンを電気出力300ワツト、真空度4fito
rrで、スバタリングを、そのプラズマ色がチタン特有
の青色を安定して示すに到るまでの時間行った。
この操作は系内の活性酸素の除去に役立つものと思われ
る。
実施例1 基材として厚さ1%のガラス板を用い、先ず、アルゴン
プラズマでエツチングに依り表面処理を行う。次いで、
酸素25νo1%を含むアルゴンのプラズマ(真空度2
 X 10−3torr)を用いTie、ターゲットを
出力300ワツトでスバタリングして、基材上に275
人の厚さのTiO□層を形成せしめる。
ここに得られた酸化チタンの層の屈折率は2.44であ
る。
次いで前記プレスバタリングを行ったのち、アルゴンプ
ラズマ(真空度I X 10−”torr)でAgター
ゲットを出力50ワツトでスバタリングして、上記の基
材上に180人のへg層を積層形成せしめる。更にその
上に酸素含有率0.5%以下のアルゴンプラズマ(真空
度10 X 10−”torr)で再びTi0zターゲ
ツトを出力300ワツトでスバクリングして第三層の2
75人の厚さのTie、層を積層形成せしめる。
かくして得られた熱線反射材の分光光学特性は第2図の
如くであり、実に美麗な膜である。
またこの熱線反射膜の赤外分光透過率は、波長1.4μ
mにおいて31%であり、1.4μm −0,3μm=
1.1μmの波長では1.23%であり1.4μ端に於
ける透過率の74%である。又、1.4μm+0.3μ
=1.7μmの波長に於ては21.5%であり、1.1
0に於ける透過率の69%である。
実施例2 実施例1に於て、第三層の厚さを275人に代えて、8
3人として、同様な操作に依り第4図の分光光学特性を
持つ熱線反射板が得られる。
比較例1 実施例1において第一、第三層の酸化チタン層  ゛の
厚さをいずれも90人とする他は実施例1と同一条件で
製膜を行った結果、均一な膜が得られたがその熱線反射
能は不十分なものであった。
比較例2 実施例1に於て、第一層のTi(hの厚さを90人とし
次いでプレスバタリングを省略して第二層の厚さを18
0人として二層を形成せしめた。この段階では目視に依
り均一な膜が得られたが、更にその上に90人のTiO
□層をスバタリングすると、不均一な膜となり、殆ど反
射能を持たない褐色の膜となった。
参考例 実施例1に於て、Ti(h/Ag/Ti(hの各層の厚
さを(al 135人/230人/135人  (1)
l 123人7230人/123人(d 110人72
30人/110人とした熱線反射材の分光特性は第1図
の如くである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に至る経過で試作した参考例で説明した
熱線反射材の分光透過特性を示す。 第2図は本発明の実施例1で説明した熱線反射材の分光
透過特性を示す。 第3図は、地表に到達する太陽エネルギーの分光特性を
示す。特に斜線で塗られた部分は人間の眼に感ぜず、只
熱として感じられるエネルギーである。 第4図は、本発明の実施例2で説明した熱線反射材の分
光透過特性を示す。 特許出願人 旭化成工業株式会社 fL線f過牢% 先蝶1遣オ% 光線透過キ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)可視光に対し実質的に透明な基材の上に、順次、
    酸化チタンと銀と酸化チタンとの薄膜を積層してなる熱
    線反射膜であつて、第一層である酸化チタンの厚さが2
    00Å以上350Å以下で光の屈折率が2.4以上、第
    二層の銀の厚さが100Å以上300Å以下、第三層の
    酸化チタンの厚さが60Å以上350Å以下である事を
    特徴とする熱線反射膜
  2. (2)可視光に対し実質的に透明な基材の上に、順次、
    酸化チタンと銀と酸化チタンとの薄膜を積層してなる熱
    線反射膜であつて、第一層である酸化チタンの厚さが2
    00Å以上350Å以下で光の屈折率が2.4以上、第
    二層の銀の厚さが100Å以上300Å以下、第三層の
    酸化チタンの厚さが60Å以上350Å以下であり、か
    つ赤外線透過率の分光特性が、光の波長1μm以上2μ
    m以下のある波長aにおける透過率の値が、a+0.3
    μmおよびa−0.3μmの波長における透過率より1
    0%以上高い事を特徴とする熱線反射膜
JP62183549A 1986-11-11 1987-07-24 熱線反射膜 Pending JPS63239042A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

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JP61-266729 1986-11-11
JP26672986 1986-11-11

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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