JPS63238413A - 形状測定方法 - Google Patents
形状測定方法Info
- Publication number
- JPS63238413A JPS63238413A JP7325687A JP7325687A JPS63238413A JP S63238413 A JPS63238413 A JP S63238413A JP 7325687 A JP7325687 A JP 7325687A JP 7325687 A JP7325687 A JP 7325687A JP S63238413 A JPS63238413 A JP S63238413A
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- JP
- Japan
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- pattern
- electron beam
- shape
- line width
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- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 3
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- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は微細加工により形成されたパターンの形状測定
方法に関するものである。
方法に関するものである。
従来、微細加工により形成されたパターンの形状を測定
する際には、基板上のパターンの上に電子線を走査し、
検出器により反射電子、２次電子を検出し、検出器出力
信号からパターンの形状を測定していた。
する際には、基板上のパターンの上に電子線を走査し、
検出器により反射電子、２次電子を検出し、検出器出力
信号からパターンの形状を測定していた。
しかしながら、この方法によるときには入射した電子線
の作用によってパターン表面が汚染され。
の作用によってパターン表面が汚染され。
汚染物によってパターンの形状が変化するという問題が
あった。
あった。
本発明の目的は上記の問題点を解決する方法を提供する
ことにある。
ことにある。
すなわち１本発明は基板上のパターン形状を測定する方
法において、電子線をパターン端から電子線の大きさ以
上に離れた位置を走査し、パターンからの反射電子、２
次電子を検出し、その検出器出力信号からパターン形状
を測定することを特徴とする形状測定方法である。
法において、電子線をパターン端から電子線の大きさ以
上に離れた位置を走査し、パターンからの反射電子、２
次電子を検出し、その検出器出力信号からパターン形状
を測定することを特徴とする形状測定方法である。
試料パターンからの反射電子信号及び２次電子信号に基
づいてパターンの形状を測定する場合、測定中にパター
ン形状が変化しないことが必要となる。第２図はパター
ン上に電子線を走査したときに得られる線巾測定値と電
子線照射時間との関係を示す図である。図より電子線照
射時間が長くなると線巾測定値が変化していることがわ
かる。
づいてパターンの形状を測定する場合、測定中にパター
ン形状が変化しないことが必要となる。第２図はパター
ン上に電子線を走査したときに得られる線巾測定値と電
子線照射時間との関係を示す図である。図より電子線照
射時間が長くなると線巾測定値が変化していることがわ
かる。
また、第３図はパターン端から離れた位置を走査したと
きに得られる線巾測定値と電子線照射時間との関係を示
す図である。図より電子線照射時間の長短によって線巾
測定値が変化していないことがわかる。従って、パター
ン端から離れた位置を走査してパターン形状を測定すれ
ば、測定中にパターン形状が変化することを防止できる
。
きに得られる線巾測定値と電子線照射時間との関係を示
す図である。図より電子線照射時間の長短によって線巾
測定値が変化していないことがわかる。従って、パター
ン端から離れた位置を走査してパターン形状を測定すれ
ば、測定中にパターン形状が変化することを防止できる
。
以下、第１図に図示の実施例により本発明を説明する。
まず、シリコン基板１上に有機レジストを塗布後、有機
レジストを線状パターン２に加工した。
レジストを線状パターン２に加工した。
次に、シリコン基板１上の有機レジストパターン２のパ
ターン端から０．５．離れた位置３に、加速電圧４ＫＶ
、電流１００ｐＡの電子線４を走査し、検出器（マイク
ロチャネルプレートを使用）５によって反射電子６を検
出し、その出力波形を計算機のメモリ上に蓄積した。結
果を演算し、信号強度の最大値と最小値との平均値とな
る２点から、有機レジストパターン２の線巾が１．２．
であることがわかった、同じ位置で測定を２０回繰り返
したところ、±０．０１．の測定再現性が得られ、電子
線の照射時間に依存した線巾測定値の変化はなかった。
ターン端から０．５．離れた位置３に、加速電圧４ＫＶ
、電流１００ｐＡの電子線４を走査し、検出器（マイク
ロチャネルプレートを使用）５によって反射電子６を検
出し、その出力波形を計算機のメモリ上に蓄積した。結
果を演算し、信号強度の最大値と最小値との平均値とな
る２点から、有機レジストパターン２の線巾が１．２．
であることがわかった、同じ位置で測定を２０回繰り返
したところ、±０．０１．の測定再現性が得られ、電子
線の照射時間に依存した線巾測定値の変化はなかった。
従って本発明によれば、入射した電子線の作用によって
パターンの形状が変化することなしにパターン形状を測
定できる効果を有するものである。
パターンの形状が変化することなしにパターン形状を測
定できる効果を有するものである。
第１図は測定信号を得る方法を表わす模式図、第２図は
パターン主を走査したときの電子線照射時間と線巾測定
値の関係を示す図、第３図はパターン端から離れた位置
を走査したときの電子線照射時間と線巾測定値との関係
を示す図である。 １・・・基板 ２・・・パターン３
・・・走査位置 ４・・・電子線５・・
・検出器 ６・・・反射電子第１図 照射時間 第３図
パターン主を走査したときの電子線照射時間と線巾測定
値の関係を示す図、第３図はパターン端から離れた位置
を走査したときの電子線照射時間と線巾測定値との関係
を示す図である。 １・・・基板 ２・・・パターン３
・・・走査位置 ４・・・電子線５・・
・検出器 ６・・・反射電子第１図 照射時間 第３図
Claims (1)
- （１）基板上のパターン形状を測定する方法において、
電子線をパターン端から電子線の大きさ以上に離れた位
置を走査し、パターンからの反射電子、２次電子を検出
し、その検出器出力信号からパターン形状を測定するこ
とを特徴とする形状測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7325687A JPS63238413A (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 形状測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7325687A JPS63238413A (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 形状測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63238413A true JPS63238413A (ja) | 1988-10-04 |
Family
ID=13512912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7325687A Pending JPS63238413A (ja) | 1987-03-26 | 1987-03-26 | 形状測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63238413A (ja) |
-
1987
- 1987-03-26 JP JP7325687A patent/JPS63238413A/ja active Pending
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