JPS62212509A - 電子ビ−ム測長装置 - Google Patents

電子ビ−ム測長装置

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JPS62212509A
JPS62212509A JP5472686A JP5472686A JPS62212509A JP S62212509 A JPS62212509 A JP S62212509A JP 5472686 A JP5472686 A JP 5472686A JP 5472686 A JP5472686 A JP 5472686A JP S62212509 A JPS62212509 A JP S62212509A
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JP
Japan
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signal
electron beam
circuit
pattern
deflection
Prior art date
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Pending
Application number
JP5472686A
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English (en)
Inventor
Genya Matsuoka
玄也 松岡
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、′電子ビーム測長装置に係り、特に高梼度な
寸法測定を必要とする場合に適する4子ビーム測長装置
に関する。
〔従来の技術〕
従来%電子ビームを用いた寸法測長装置では、例えば公
開特許公報昭60−128307に示されるように被測
定パターンと成子ビームの関係について考慮はなされて
いた。前記従来技術においては、副長時のビーム径を最
小ビーム径の約5倍(数10nm)として、ビーム電流
を増加させ、信号対雑音比を向上させる内容が記載され
ている。
しかし、これまで測長における電子ビームの走査方向に
ついては、配慮されていなかった。
〔発明が解決しようとする間魂点〕
従来技術においては、被測定パターンに対する電子ビー
ムの走査方向の点については配慮されていなかった。し
かし、信号検出系の応答性、走査開始直後のビーム位置
の不安定性、左右の検出器の非対称性等により、同一寸
法のパターンであっても、二次電子信号が、走査開始点
と終了点付近では異なるという問題点があった。
例えば、第2図(a)に示すような、シリコン(Si)
上に形成された周期的パターンを測定する場合、その二
次4子信号は同図(b)の如くなる。この場合。
先に述べた理由により、パターン1. 2. 3からの
信号波形が異な9、たとえ同一寸法であっても、パター
ン1,2.3で寸法が異なる結果が得られた、 本発明は、このような、信号波形の不均一性を取除き高
精度で測定することが可能な電子ビーム測長装置を提供
することを目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的は、1子ビームの走査方向を一方向とせず1両
方向から走査し、これによって得られる2種類の信号を
用いて寸法を求めることにより、達成できる。
〔作用〕
本発明においては、電子ビームの走査方向を、パターン
の両方向から走蓬して、信号検出を行ない、各々の走査
によって得られた信号波形を用いることにより先に述べ
た信号検出系の応答性、ビーム位置の不安定性、検出系
の非対称性等の影響を取除いたものであり、これにより
寸法測定精度を向上した。
〔実施例〕 以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。:I
X1図は、本発明に基く電子ビーム測長装置の構成図で
ある。試料3上に形成された第2図(a)で示した構造
のパターンを電子ビーム4で走査しパターン1,2.3
の寸法を測定する際の動作について説明する。
測定時には、処理装置5は偏向制御回路6に起動をかけ
、偏向制御回路6は第1偏向信号発生器7からの信号に
よって偏向コイル1に電流を流し電子ビーム4を偏向す
る。試料3上のパターンからの二次電子信号は検出器2
.増幅器8を経由して、アナログ・ディジタル変換器C
AD変換器)9に入る。AD変換器9は、IJi向制御
回路6と同期をと9ながら、検出信号をディジタル化し
、記録回路lOに格納する。
一方向からの走査による信号検出が終了すると、偏向、
itt+g4回路6は切換え回路11によって偏向信号
を切換え、第23向信号発生器12からの信号によって
反対方向からの電子ビーム走査を行ない、先と同様にし
て、パターンからの検出信号を検出する。両方向からの
走査が終了すると、偏向制御回路6より処理装置5に終
了信号が入る。
処理装置5は、記録回路10より両方向走査での信号波
形をとりこみ、両者の平均を行ない、第2図(C)の如
き信号を得た、さらに、平均信号を、適当なレベルに設
定された2値化レベルと比較し。
信号波形と2値化レベルの交点より、パターンl。
2.3の寸法を求めた。
以上述べた。実施例に基くと、パターン間のバラツキを
0.02μm以下に押さえることが出来た。
〔発明の効果〕
本発明によれば、パターンからの信号波形の走査方向依
存性を取消すことができ、パターン間のバラツキを従来
の1/2以下となった。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に基く電子ビーム測長装置の構成図、
第2図はt8を上に形成された被測長パターンの断面図
及びパターンからの検出信号波形である。 1・・・偏向器、2・・・信号検出器、3・・・試料、
4・・・電子ビーム、5・・・処理装置、6・・・偏向
制御回路。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 試料上に形成されたパターン上を電子ビームで走査し、
    試料より発生する二次電子信号を検出し、該検出信号に
    対して所定の処理を行なつてパターン寸法を求める電子
    ビーム測長装置において、電子ビームの走査方向を反対
    にした2種類の信号波形を用いて寸法測長を行なうこと
    を特徴とする電子ビーム測長装置。
JP5472686A 1986-03-14 1986-03-14 電子ビ−ム測長装置 Pending JPS62212509A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013015040A1 (ja) * 2011-07-26 2013-01-31 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置及び計測方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013015040A1 (ja) * 2011-07-26 2013-01-31 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置及び計測方法
JP2013030277A (ja) * 2011-07-26 2013-02-07 Hitachi High-Technologies Corp 荷電粒子線装置及び計測方法

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