JPS62212509A - 電子ビ−ム測長装置 - Google Patents
電子ビ−ム測長装置Info
- Publication number
- JPS62212509A JPS62212509A JP5472686A JP5472686A JPS62212509A JP S62212509 A JPS62212509 A JP S62212509A JP 5472686 A JP5472686 A JP 5472686A JP 5472686 A JP5472686 A JP 5472686A JP S62212509 A JPS62212509 A JP S62212509A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- signal
- electron beam
- circuit
- pattern
- deflection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、′電子ビーム測長装置に係り、特に高梼度な
寸法測定を必要とする場合に適する４子ビーム測長装置
に関する。
寸法測定を必要とする場合に適する４子ビーム測長装置
に関する。
従来％電子ビームを用いた寸法測長装置では、例えば公
開特許公報昭６０−１２８３０７に示されるように被測
定パターンと成子ビームの関係について考慮はなされて
いた。前記従来技術においては、副長時のビーム径を最
小ビーム径の約５倍（数１０ｎｍ）として、ビーム電流
を増加させ、信号対雑音比を向上させる内容が記載され
ている。
開特許公報昭６０−１２８３０７に示されるように被測
定パターンと成子ビームの関係について考慮はなされて
いた。前記従来技術においては、副長時のビーム径を最
小ビーム径の約５倍（数１０ｎｍ）として、ビーム電流
を増加させ、信号対雑音比を向上させる内容が記載され
ている。
しかし、これまで測長における電子ビームの走査方向に
ついては、配慮されていなかった。
ついては、配慮されていなかった。
従来技術においては、被測定パターンに対する電子ビー
ムの走査方向の点については配慮されていなかった。し
かし、信号検出系の応答性、走査開始直後のビーム位置
の不安定性、左右の検出器の非対称性等により、同一寸
法のパターンであっても、二次電子信号が、走査開始点
と終了点付近では異なるという問題点があった。
ムの走査方向の点については配慮されていなかった。し
かし、信号検出系の応答性、走査開始直後のビーム位置
の不安定性、左右の検出器の非対称性等により、同一寸
法のパターンであっても、二次電子信号が、走査開始点
と終了点付近では異なるという問題点があった。
例えば、第２図（ａ）に示すような、シリコン（Ｓｉ）
上に形成された周期的パターンを測定する場合、その二
次４子信号は同図（ｂ）の如くなる。この場合。
上に形成された周期的パターンを測定する場合、その二
次４子信号は同図（ｂ）の如くなる。この場合。
先に述べた理由により、パターン１． ２． ３からの
信号波形が異な９、たとえ同一寸法であっても、パター
ン１，２．３で寸法が異なる結果が得られた、 本発明は、このような、信号波形の不均一性を取除き高
精度で測定することが可能な電子ビーム測長装置を提供
することを目的としている。
信号波形が異な９、たとえ同一寸法であっても、パター
ン１，２．３で寸法が異なる結果が得られた、 本発明は、このような、信号波形の不均一性を取除き高
精度で測定することが可能な電子ビーム測長装置を提供
することを目的としている。
上記目的は、１子ビームの走査方向を一方向とせず１両
方向から走査し、これによって得られる２種類の信号を
用いて寸法を求めることにより、達成できる。
方向から走査し、これによって得られる２種類の信号を
用いて寸法を求めることにより、達成できる。
本発明においては、電子ビームの走査方向を、パターン
の両方向から走蓬して、信号検出を行ない、各々の走査
によって得られた信号波形を用いることにより先に述べ
た信号検出系の応答性、ビーム位置の不安定性、検出系
の非対称性等の影響を取除いたものであり、これにより
寸法測定精度を向上した。
の両方向から走蓬して、信号検出を行ない、各々の走査
によって得られた信号波形を用いることにより先に述べ
た信号検出系の応答性、ビーム位置の不安定性、検出系
の非対称性等の影響を取除いたものであり、これにより
寸法測定精度を向上した。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。：Ｉ
Ｘ１図は、本発明に基く電子ビーム測長装置の構成図で
ある。試料３上に形成された第２図（ａ）で示した構造
のパターンを電子ビーム４で走査しパターン１，２．３
の寸法を測定する際の動作について説明する。
Ｘ１図は、本発明に基く電子ビーム測長装置の構成図で
ある。試料３上に形成された第２図（ａ）で示した構造
のパターンを電子ビーム４で走査しパターン１，２．３
の寸法を測定する際の動作について説明する。
測定時には、処理装置５は偏向制御回路６に起動をかけ
、偏向制御回路６は第１偏向信号発生器７からの信号に
よって偏向コイル１に電流を流し電子ビーム４を偏向す
る。試料３上のパターンからの二次電子信号は検出器２
．増幅器８を経由して、アナログ・ディジタル変換器Ｃ
ＡＤ変換器）９に入る。ＡＤ変換器９は、ＩＪｉ向制御
回路６と同期をと９ながら、検出信号をディジタル化し
、記録回路ｌＯに格納する。
、偏向制御回路６は第１偏向信号発生器７からの信号に
よって偏向コイル１に電流を流し電子ビーム４を偏向す
る。試料３上のパターンからの二次電子信号は検出器２
．増幅器８を経由して、アナログ・ディジタル変換器Ｃ
ＡＤ変換器）９に入る。ＡＤ変換器９は、ＩＪｉ向制御
回路６と同期をと９ながら、検出信号をディジタル化し
、記録回路ｌＯに格納する。
一方向からの走査による信号検出が終了すると、偏向、
ｉｔｔ＋ｇ４回路６は切換え回路１１によって偏向信号
を切換え、第２３向信号発生器１２からの信号によって
反対方向からの電子ビーム走査を行ない、先と同様にし
て、パターンからの検出信号を検出する。両方向からの
走査が終了すると、偏向制御回路６より処理装置５に終
了信号が入る。
ｉｔｔ＋ｇ４回路６は切換え回路１１によって偏向信号
を切換え、第２３向信号発生器１２からの信号によって
反対方向からの電子ビーム走査を行ない、先と同様にし
て、パターンからの検出信号を検出する。両方向からの
走査が終了すると、偏向制御回路６より処理装置５に終
了信号が入る。
処理装置５は、記録回路１０より両方向走査での信号波
形をとりこみ、両者の平均を行ない、第２図（Ｃ）の如
き信号を得た、さらに、平均信号を、適当なレベルに設
定された２値化レベルと比較し。
形をとりこみ、両者の平均を行ない、第２図（Ｃ）の如
き信号を得た、さらに、平均信号を、適当なレベルに設
定された２値化レベルと比較し。
信号波形と２値化レベルの交点より、パターンｌ。
２．３の寸法を求めた。
以上述べた。実施例に基くと、パターン間のバラツキを
０．０２μｍ以下に押さえることが出来た。
０．０２μｍ以下に押さえることが出来た。
本発明によれば、パターンからの信号波形の走査方向依
存性を取消すことができ、パターン間のバラツキを従来
の１／２以下となった。
存性を取消すことができ、パターン間のバラツキを従来
の１／２以下となった。
第１図は、本発明に基く電子ビーム測長装置の構成図、
第２図はｔ８を上に形成された被測長パターンの断面図
及びパターンからの検出信号波形である。 １・・・偏向器、２・・・信号検出器、３・・・試料、
４・・・電子ビーム、５・・・処理装置、６・・・偏向
制御回路。
第２図はｔ８を上に形成された被測長パターンの断面図
及びパターンからの検出信号波形である。 １・・・偏向器、２・・・信号検出器、３・・・試料、
４・・・電子ビーム、５・・・処理装置、６・・・偏向
制御回路。
Claims (1)
- 試料上に形成されたパターン上を電子ビームで走査し、
試料より発生する二次電子信号を検出し、該検出信号に
対して所定の処理を行なつてパターン寸法を求める電子
ビーム測長装置において、電子ビームの走査方向を反対
にした２種類の信号波形を用いて寸法測長を行なうこと
を特徴とする電子ビーム測長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5472686A JPS62212509A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | 電子ビ−ム測長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5472686A JPS62212509A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | 電子ビ−ム測長装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62212509A true JPS62212509A (ja) | 1987-09-18 |
Family
ID=12978804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5472686A Pending JPS62212509A (ja) | 1986-03-14 | 1986-03-14 | 電子ビ−ム測長装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62212509A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013015040A1 (ja) * | 2011-07-26 | 2013-01-31 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び計測方法 |
-
1986
- 1986-03-14 JP JP5472686A patent/JPS62212509A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013015040A1 (ja) * | 2011-07-26 | 2013-01-31 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び計測方法 |
| JP2013030277A (ja) * | 2011-07-26 | 2013-02-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置及び計測方法 |
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