JPS6323762A - 塗装粉体用静電スプレ−装置 - Google Patents
塗装粉体用静電スプレ−装置Info
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- JPS6323762A JPS6323762A JP62056417A JP5641787A JPS6323762A JP S6323762 A JPS6323762 A JP S6323762A JP 62056417 A JP62056417 A JP 62056417A JP 5641787 A JP5641787 A JP 5641787A JP S6323762 A JPS6323762 A JP S6323762A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B5/00—Electrostatic spraying apparatus; Spraying apparatus with means for charging the spray electrically; Apparatus for spraying liquids or other fluent materials by other electric means
- B05B5/025—Discharge apparatus, e.g. electrostatic spray guns
- B05B5/03—Discharge apparatus, e.g. electrostatic spray guns characterised by the use of gas, e.g. electrostatically assisted pneumatic spraying
- B05B5/032—Discharge apparatus, e.g. electrostatic spray guns characterised by the use of gas, e.g. electrostatically assisted pneumatic spraying for spraying particulate materials
Landscapes
- Electrostatic Spraying Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は塗装粉体用静電スプレー装置に関するもので
あり、更に詳しくは下流端にスプレー口を具えた粉体導
路と、粉体流を横断してガス壁を形成するために粉体流
の半径方向中心においてスプレー口の下流側に設けられ
た粉体偏向機構と、粉体導路の導路部分およびスプレー
口を貫通して軸方向に延在して上記の粉体偏向機構を支
持しかつ粉体偏向機構にガスを供給するガス導路と粉体
導路中の塗装粉体に静電荷電を行うための少なくとも１
個の電極とを具えた支持体を有した基本構造の塗装粉体
用静電スプレー装置の改良に関するものである。
あり、更に詳しくは下流端にスプレー口を具えた粉体導
路と、粉体流を横断してガス壁を形成するために粉体流
の半径方向中心においてスプレー口の下流側に設けられ
た粉体偏向機構と、粉体導路の導路部分およびスプレー
口を貫通して軸方向に延在して上記の粉体偏向機構を支
持しかつ粉体偏向機構にガスを供給するガス導路と粉体
導路中の塗装粉体に静電荷電を行うための少なくとも１
個の電極とを具えた支持体を有した基本構造の塗装粉体
用静電スプレー装置の改良に関するものである。
（従来技術とその問題点）
上記のような基本構造を有したスプレー装置としては特
開昭５５−９９３６］号のものが知られている。この先
願発明のものの粉体偏向機構は支持体の直径方向に流線
形に厚くなった部分とそこに形成された開口とから構成
されている。この開口は粉体流の流れ方向に対して前方
に傾斜して配置されて、粉体流を横切ってガス璧を形成
して粉体流を粉体雲に変えている。
開昭５５−９９３６］号のものが知られている。この先
願発明のものの粉体偏向機構は支持体の直径方向に流線
形に厚くなった部分とそこに形成された開口とから構成
されている。この開口は粉体流の流れ方向に対して前方
に傾斜して配置されて、粉体流を横切ってガス璧を形成
して粉体流を粉体雲に変えている。
またドイツ出願公告第２３１２３６３号には、スプレー
口の下流側の粉体偏向機構のために粉体導路内に配置さ
れた支持体を有した静電スプレー装置が開示されている
。このものにあっては、リング状の電極がスプレー口の
上流において短い導路部分に沿って粉体導路の外壁面を
構成している。
口の下流側の粉体偏向機構のために粉体導路内に配置さ
れた支持体を有した静電スプレー装置が開示されている
。このものにあっては、リング状の電極がスプレー口の
上流において短い導路部分に沿って粉体導路の外壁面を
構成している。
更にアメリカ特許第４２８９２７８号に開示の装置にあ
っては、粉体導路のスプレーの上流側において導路軸位
置に電極が設けられており、これをガスが囲むことによ
り電極上に粉体が沈積できないようになっている。電極
は粉体流内に直接設けてもよいし、これに開口するガス
導路内に設けてもよい。
っては、粉体導路のスプレーの上流側において導路軸位
置に電極が設けられており、これをガスが囲むことによ
り電極上に粉体が沈積できないようになっている。電極
は粉体流内に直接設けてもよいし、これに開口するガス
導路内に設けてもよい。
ヨーロッパ特許出願第８４１０３８４７．４号には空気
的な粉体偏向ｍ構を具えたスプレー装置が開示されてお
り、スプレー口の下流側外側には支持体が位置していて
、それ自身が軸方向にスプレー口を経て粉体導路中に突
出している。この粉体偏向ｍ４には半径方向に若干前方
に傾斜したリング状隙間により粉体を偏向させるガス流
を形成する。このリング状隙間は支持体の前端と前方に
置かれた円盤とによって構成されている。
的な粉体偏向ｍ構を具えたスプレー装置が開示されてお
り、スプレー口の下流側外側には支持体が位置していて
、それ自身が軸方向にスプレー口を経て粉体導路中に突
出している。この粉体偏向ｍ４には半径方向に若干前方
に傾斜したリング状隙間により粉体を偏向させるガス流
を形成する。このリング状隙間は支持体の前端と前方に
置かれた円盤とによって構成されている。
またドイツ特許出願公告第１９３２３８７号に開示され
た静電スプレー装置においては、スプレー口の直接上流
側の導路中央に電極が設けられている。導路の壁面には
電極を同心状に取囲む２個のリング状隙間が形成されて
おり、一方のリング状隙間から空気がまた他方のリング
状隙間からは免液が電極に対して流れるようになってい
る。
た静電スプレー装置においては、スプレー口の直接上流
側の導路中央に電極が設けられている。導路の壁面には
電極を同心状に取囲む２個のリング状隙間が形成されて
おり、一方のリング状隙間から空気がまた他方のリング
状隙間からは免液が電極に対して流れるようになってい
る。
アメリカ特許３９４００６］号の装置にあっては、空気
に取囲まれた電極が静電スプレー装置のスプレー口の中
央に設けられている。
に取囲まれた電極が静電スプレー装置のスプレー口の中
央に設けられている。
（発明の要旨）
この発明の目的は、上記のような基本構造を有したスプ
レー装置における塗装品質と作業効率を改善することに
ある。加えてスプレー装置から塗装対称物に至る間の粉
体の消費を低減し、厚い塗装を対象物上に形成すること
も目的とする。
レー装置における塗装品質と作業効率を改善することに
ある。加えてスプレー装置から塗装対称物に至る間の粉
体の消費を低減し、厚い塗装を対象物上に形成すること
も目的とする。
このためこの出願の第１の発明によれば、上記基本構造
において、支持体がガス導路を粉体導路に連結するガス
吹出し口を少なくとも１個有しており、ガス導路からガ
ス吹出口を介して粉体導路中に流れるガスがそれに沿っ
て渣れてその結果そこからの静電荷電が塗装粉体中に噴
射される如くにガス吹出口中に少なくとも１個の電極が
設けられており、かつスプレー口の下流端における横断
面からの支持体の外周面中のガス吹出口の半径方向中間
点の距離および電極の下流端の距離がともに１２〜１６
ｍｍの範囲にあることを特徴とするものである。
において、支持体がガス導路を粉体導路に連結するガス
吹出し口を少なくとも１個有しており、ガス導路からガ
ス吹出口を介して粉体導路中に流れるガスがそれに沿っ
て渣れてその結果そこからの静電荷電が塗装粉体中に噴
射される如くにガス吹出口中に少なくとも１個の電極が
設けられており、かつスプレー口の下流端における横断
面からの支持体の外周面中のガス吹出口の半径方向中間
点の距離および電極の下流端の距離がともに１２〜１６
ｍｍの範囲にあることを特徴とするものである。
またこの出願の第２の発明によれば、上記基本構造にお
いて、粉体偏向機構がファンネル状キャップを有してお
り、支持体がガス導路を粉体導路に連結するガス吹出口
を少なくとも１個有しており、ガス吹出口を介してガス
導路から粉体導路に流れ込んだガスがそれに沿って１１
ｈかつそれにより静電荷電が塗装粉体中に噴射される
如くにガス吹出口中に少なくとも１個の電極が設けられ
ており、かつガス吹出口の下流端からの支持体の外周面
中のガス吹出口の半径方向の中間点の距離および電極の
下流端の距離がともにガス吹出口とスプレー口との間の
導路部分における粉体導路の外径の半分であることを特
徴とするものである。
いて、粉体偏向機構がファンネル状キャップを有してお
り、支持体がガス導路を粉体導路に連結するガス吹出口
を少なくとも１個有しており、ガス吹出口を介してガス
導路から粉体導路に流れ込んだガスがそれに沿って１１
ｈかつそれにより静電荷電が塗装粉体中に噴射される
如くにガス吹出口中に少なくとも１個の電極が設けられ
ており、かつガス吹出口の下流端からの支持体の外周面
中のガス吹出口の半径方向の中間点の距離および電極の
下流端の距離がともにガス吹出口とスプレー口との間の
導路部分における粉体導路の外径の半分であることを特
徴とするものである。
（実施態様）
第１図に示すこの発明のスプレー装置の一例は互いに同
心状に配列された３個の部材４．６．８からなる筒状の
基体２を有している。内側の部材８を貫通して粉体導路
１４が延在形成されており、その下流端はスプレー口１
８を有している。
心状に配列された３個の部材４．６．８からなる筒状の
基体２を有している。内側の部材８を貫通して粉体導路
１４が延在形成されており、その下流端はスプレー口１
８を有している。
粉体導路１４内には支持体２５を具えた部材２２が設け
られており、この支持体２５は粉体導路１４の導路軸２
０方向に延在して支持体２５に沿りてリング状の横断面
を与えている。また粉体導路１４は部材２２の上流側に
おいて中空筒状の導路部分７２を有している。支持体２
５内には導路軸２０の長手方向にガス導路２４が形成さ
れてかつバイブ２８に連結されている。ガス導路２４内
には導線４８が設けられており、この導線は基体２内も
しくは外部に設けられた高圧電源に公知の方法で接続さ
れている。またリング状の横断面の導路部分６８は筒状
の壁面６２と支持体２５の外周面７０によって画定され
ている。
られており、この支持体２５は粉体導路１４の導路軸２
０方向に延在して支持体２５に沿りてリング状の横断面
を与えている。また粉体導路１４は部材２２の上流側に
おいて中空筒状の導路部分７２を有している。支持体２
５内には導路軸２０の長手方向にガス導路２４が形成さ
れてかつバイブ２８に連結されている。ガス導路２４内
には導線４８が設けられており、この導線は基体２内も
しくは外部に設けられた高圧電源に公知の方法で接続さ
れている。またリング状の横断面の導路部分６８は筒状
の壁面６２と支持体２５の外周面７０によって画定され
ている。
ガス導路２４は支持体２５に形成された２個のガス吹出
口８０を介して粉体導路１４の導路部分６８に連結して
いる。これらのガス吹出口８０は粉体の梳れ方向に対し
て傾斜して設けられて、スプレー口１８に対して傾斜し
ている。またこれらのガス吹出口８０は支持体２５の円
周方向に均等に配置されている。各ガス吹田口８０中に
はそれぞれ導線４８に接続された電極８２が設けられて
いる。
口８０を介して粉体導路１４の導路部分６８に連結して
いる。これらのガス吹出口８０は粉体の梳れ方向に対し
て傾斜して設けられて、スプレー口１８に対して傾斜し
ている。またこれらのガス吹出口８０は支持体２５の円
周方向に均等に配置されている。各ガス吹田口８０中に
はそれぞれ導線４８に接続された電極８２が設けられて
いる。
この電極８２の端部８４はほぼ外周面７０で終るのが好
ましいが、０．１〜３．０ｍｍ前後突出してもよい、後
者の場合には強いガス流が電極を清浄に保つ、ガス吹出
口８０の直径は電極８２のそれよりも若干大である。ガ
ス吹出口８０は１個でもよいが、２個以上の方が静電作
用が良好となる。電極８２はガス吹出口８０内に位置し
てかつガス導路２４からのガスによって囲まれるので、
ガス導路２４を介して少量のガスまたは比較的低圧のガ
スが供給されるときでも、電極上に粉体が沈積すること
はない。
ましいが、０．１〜３．０ｍｍ前後突出してもよい、後
者の場合には強いガス流が電極を清浄に保つ、ガス吹出
口８０の直径は電極８２のそれよりも若干大である。ガ
ス吹出口８０は１個でもよいが、２個以上の方が静電作
用が良好となる。電極８２はガス吹出口８０内に位置し
てかつガス導路２４からのガスによって囲まれるので、
ガス導路２４を介して少量のガスまたは比較的低圧のガ
スが供給されるときでも、電極上に粉体が沈積すること
はない。
支持体２５はスプレー口１８の外側においてスプレー口
１８から吹出された粉体を半径方向に偏向させるための
粉体偏向機構を有している。この粉体偏向機構１０２は
粉体導路１４の導路軸２０と直交するガス壁１０６を形
成するための導路軸と直交するリング状の開口１０４を
有している。
１８から吹出された粉体を半径方向に偏向させるための
粉体偏向機構を有している。この粉体偏向機構１０２は
粉体導路１４の導路軸２０と直交するガス壁１０６を形
成するための導路軸と直交するリング状の開口１０４を
有している。
このようなリング状の開口に代えて半径方向に開口する
多数の開口を形成してもよい、ガス導路２４は半径方向
の孔１０８およびこれに連結するリング状導路１１０を
介してリング状間口１０４にガス、好ましくは空気、を
供給する。上記リング状間口１０４は支持体２５の端面
１１２と支持体の端部側に固定されたキャップ１１４と
の間の隙間により形成される。支持体２５はキャップ１
１４に至るまでその全長に互って同一の直径を有してお
り、キャップ１１４の直径もこれと同じである。しかし
両者の直径を異るものとしてもよい。
多数の開口を形成してもよい、ガス導路２４は半径方向
の孔１０８およびこれに連結するリング状導路１１０を
介してリング状間口１０４にガス、好ましくは空気、を
供給する。上記リング状間口１０４は支持体２５の端面
１１２と支持体の端部側に固定されたキャップ１１４と
の間の隙間により形成される。支持体２５はキャップ１
１４に至るまでその全長に互って同一の直径を有してお
り、キャップ１１４の直径もこれと同じである。しかし
両者の直径を異るものとしてもよい。
電極端部８４、ひいては外周面７０中のガス吹出口８０
の中間点、のスプレー口１８の下流端１１８からの距１
１ｔ１１６は粉体導路１４のスプレー口１８の直接上流
側での外径１１７と実質的に等しい、粉体導路１４の外
径１１７に関係なくこの距１１ｉ１１６は１２〜１６ｍ
ｍの範囲にある。
の中間点、のスプレー口１８の下流端１１８からの距１
１ｔ１１６は粉体導路１４のスプレー口１８の直接上流
側での外径１１７と実質的に等しい、粉体導路１４の外
径１１７に関係なくこの距１１ｉ１１６は１２〜１６ｍ
ｍの範囲にある。
特に１４ｍｍ位がよいとされている。ガス吹出口８０と
スプレー口１８との間にある導路部分＋１９は中央の支
持体２５の故にリング状の横断面を有し、かつガス壁１
０６のがすの速度に応じて堰止め域あるいは吸引域とし
て機能する。この導路部分１１９が堰止め域として機能
するときには、空気的に前進された粉体はガス壁１０６
によって堰止められて導路部分１１９内で圧縮される。
スプレー口１８との間にある導路部分＋１９は中央の支
持体２５の故にリング状の横断面を有し、かつガス壁１
０６のがすの速度に応じて堰止め域あるいは吸引域とし
て機能する。この導路部分１１９が堰止め域として機能
するときには、空気的に前進された粉体はガス壁１０６
によって堰止められて導路部分１１９内で圧縮される。
このためにガス壁１０６のガス流は、スプレーロ１８内
の粉体流に吸引を及ぼさない程度に、ゆっくりしたもの
である、これに対して導路部分１１９が吸引域として機
能するときには、ガス壁１０６のガスのインジェクター
吸引効果により粉体は導路部分１１９からスプレー口１
８を通って吸い出される。これはガス壁１０６のガスの
流速が導路部分１１９中の粉体の流速より犬なときに起
こるのである。
の粉体流に吸引を及ぼさない程度に、ゆっくりしたもの
である、これに対して導路部分１１９が吸引域として機
能するときには、ガス壁１０６のガスのインジェクター
吸引効果により粉体は導路部分１１９からスプレー口１
８を通って吸い出される。これはガス壁１０６のガスの
流速が導路部分１１９中の粉体の流速より犬なときに起
こるのである。
いずれにしてもガス壁１０６はｒ反発体」として機能し
、これにより粉体流は半径方向に互いに引ぎ離されて粉
体雲にされる。ガス導路２４のガスは電極８２により静
電荷電を施されて、この静電荷電を導路部分１９内で全
横断面に互って粉体塊内に噴射する。ガスＪｌｉ！１０
６のガスにより半径方向内側の粉体は外側の粉体と入れ
替わり、旋回する。これにより強く荷電された粉体か弱
く荷電された粉体に荷電を与え、これにより電極８２に
よる荷電の後吸引が行われる。
、これにより粉体流は半径方向に互いに引ぎ離されて粉
体雲にされる。ガス導路２４のガスは電極８２により静
電荷電を施されて、この静電荷電を導路部分１９内で全
横断面に互って粉体塊内に噴射する。ガスＪｌｉ！１０
６のガスにより半径方向内側の粉体は外側の粉体と入れ
替わり、旋回する。これにより強く荷電された粉体か弱
く荷電された粉体に荷電を与え、これにより電極８２に
よる荷電の後吸引が行われる。
粉体に接触する装置部分は全て合成材料で形成するのが
好ましい。
好ましい。
この発明により次のような効果を挙げることができる。
（Ａ）！！！装品貢が向上する。
（Ｂ）エネルギーの消費が減少する。
（Ｃ）スプレー装置から対象物に至る間での粉体の損失
が減少する。
が減少する。
ＣＤ）ガス流による電極の汚染が常に減少するので、均
一な塗装品買が維持され、作業の中断もなくなる。
一な塗装品買が維持され、作業の中断もなくなる。
（Ｅ）単一のスプレー法により種々の対象物に厚い粉体
塗装を施すことが可能となる。
塗装を施すことが可能となる。
またこの発明は次のような作用を有している。
（１）粉体に強い静電荷電が施される。即ち粉体は粉体
導路１４の半径方向中央部において電極８２により静電
荷電され、また最後にガス壁１０６のガスにより粉体は
相互に位置を入れ替えられて、異る荷電を施された粉体
間で荷電交換が行われる。これにより電極８２による荷
電の追処理がなされる。
導路１４の半径方向中央部において電極８２により静電
荷電され、また最後にガス壁１０６のガスにより粉体は
相互に位置を入れ替えられて、異る荷電を施された粉体
間で荷電交換が行われる。これにより電極８２による荷
電の追処理がなされる。
（２）ガス導路２４のガスが電極８２から静電荷電を受
取り、これを導路部分１１９の半径方向全領域に互って
内側から外側に粉体流を通過して噴射搬送する。これに
より導路部分１１９内の粉体は全て静電荷電される。
取り、これを導路部分１１９の半径方向全領域に互って
内側から外側に粉体流を通過して噴射搬送する。これに
より導路部分１１９内の粉体は全て静電荷電される。
（３）静電荷電電極８２と終端電位にある塗装対象物間
を走る電気導線が実質的に拡散界を有さす、ガス壁１０
６を通って理想的なコースをたどっている。
を走る電気導線が実質的に拡散界を有さす、ガス壁１０
６を通って理想的なコースをたどっている。
（４）導路部分１１９内においてスプレー口１８の直接
上演の堰止め域がその中に粉体を圧縮すると、吸引域に
よるよりもより強力な静電荷電が行われる。勿論導路部
分１１９内のスプレー０１８の直接上流側の吸引域でも
全ての粉体を強力に荷電できる。電極８２に近い粉体の
方が遠い粉体よりも強く荷電されるが、ガス壁１０６の
ガス流により内外の強弱荷電粉体が混合される。これに
より荷電され難い粉体でも荷電され易い粉体により追加
荷電され、全体が均一荷電状態となって対象物にスプレ
ーされたとぎによく吸着する。
上演の堰止め域がその中に粉体を圧縮すると、吸引域に
よるよりもより強力な静電荷電が行われる。勿論導路部
分１１９内のスプレー０１８の直接上流側の吸引域でも
全ての粉体を強力に荷電できる。電極８２に近い粉体の
方が遠い粉体よりも強く荷電されるが、ガス壁１０６の
ガス流により内外の強弱荷電粉体が混合される。これに
より荷電され難い粉体でも荷電され易い粉体により追加
荷電され、全体が均一荷電状態となって対象物にスプレ
ーされたとぎによく吸着する。
第２．３図に示すのはこの発明のスプレー装置の第２の
実施憇梯であって、図中第１図に示すものと同じ参照番
号の要素の構造、配列、機能およびそれら相互の組合せ
などは第１図に示したものと実質的に同じである。ただ
し粉体偏向機構が第１図のものとは異っているのである
。
実施憇梯であって、図中第１図に示すものと同じ参照番
号の要素の構造、配列、機能およびそれら相互の組合せ
などは第１図に示したものと実質的に同じである。ただ
し粉体偏向機構が第１図のものとは異っているのである
。
即ち、支持体２５はスプレー口１８の上流側にファンネ
ル状キャップ１２０を有しており、これがガス吹出口８
０とスプレー口１８との間の粉体導路１４の導路部分１
１９において堰止め作用をするのである。キャップ１２
０はそのスプレー口１８とは離れた先端側にガス吹出口
１２４を有しており、これがガス導路２４からリング状
孔１２８およびこれに連結するリング状の導路部分１３
０を介してガスを供給されて、これをキャップ１２０の
頭部１３２に沿って半径方向に導いて、Ｈｔｉ頭部１３
２への粉体の付着を最小にするのである。このためにガ
ス吹出口１２４は第２図に示すようにリング状に構成さ
れており、この吹出口１２４の半径は技術的に可能な限
り小さく形成されているのである。
ル状キャップ１２０を有しており、これがガス吹出口８
０とスプレー口１８との間の粉体導路１４の導路部分１
１９において堰止め作用をするのである。キャップ１２
０はそのスプレー口１８とは離れた先端側にガス吹出口
１２４を有しており、これがガス導路２４からリング状
孔１２８およびこれに連結するリング状の導路部分１３
０を介してガスを供給されて、これをキャップ１２０の
頭部１３２に沿って半径方向に導いて、Ｈｔｉ頭部１３
２への粉体の付着を最小にするのである。このためにガ
ス吹出口１２４は第２図に示すようにリング状に構成さ
れており、この吹出口１２４の半径は技術的に可能な限
り小さく形成されているのである。
ここで重要なのは次の２点である。まず電極の下流端８
４がガス吹出口８０内に位置するということである。更
にスプレー口１８の下流＃６］１８からの電極下流端８
４の距離またガス吹出口８０の半径方向中央点の距離も
重要である。この距離は導路部分１１９内における粉体
導路１４の外径１１７の半径と同じ位であるのが好まし
い。
４がガス吹出口８０内に位置するということである。更
にスプレー口１８の下流＃６］１８からの電極下流端８
４の距離またガス吹出口８０の半径方向中央点の距離も
重要である。この距離は導路部分１１９内における粉体
導路１４の外径１１７の半径と同じ位であるのが好まし
い。
第３図に示す実施態様は基本的には第２図のものと同じ
であるが、第３図の場合にはキャップ１２０の半径方向
中央部に軸方向に開口するガス吹出口１３４が形成され
ている。この吹出口１３４はガス導路２４と連通してお
り、この中には粉体の静電荷電のためにガスによって取
囲まれる電極１３６が設けられている。この電極１３６
は導線１３Ｂにより導線４８に接続されている。
であるが、第３図の場合にはキャップ１２０の半径方向
中央部に軸方向に開口するガス吹出口１３４が形成され
ている。この吹出口１３４はガス導路２４と連通してお
り、この中には粉体の静電荷電のためにガスによって取
囲まれる電極１３６が設けられている。この電極１３６
は導線１３Ｂにより導線４８に接続されている。
この導線１３８の端部は電極１３６として機能するもの
である。
である。
以上の構成により次のような効果が得られるのである。
キャップが粉体導路中スプレー口の直接上流側に堰止め
域を形成し、ここで粉体が圧縮される。ｉｉ極がガス吹
出口内に位置してガスにより取囲まれて洗われるので、
これに粉体が強く付着することがない、電極からの導線
が電極から対象物に至る流路に沿って理想的に走ってお
り、電気的な拡散が殆どない。これにより静電荷電が強
力に行われ、粉体の対象物への付着が良くなる。ガスが
電極による静電荷電を圧縮された粉体に引か渡す。粉体
が圧縮されかつガスの助けにより荷電が粉体に与えられ
るので、静電荷電が強力に行われるのである。これによ
り粉体の消費が低減し、塗装品質が向上され、対象物に
直接粉体塗装が行われるのである。電極の前後端でコロ
ナ放電が起き、これにより電極端部自身が暖められる。
域を形成し、ここで粉体が圧縮される。ｉｉ極がガス吹
出口内に位置してガスにより取囲まれて洗われるので、
これに粉体が強く付着することがない、電極からの導線
が電極から対象物に至る流路に沿って理想的に走ってお
り、電気的な拡散が殆どない。これにより静電荷電が強
力に行われ、粉体の対象物への付着が良くなる。ガスが
電極による静電荷電を圧縮された粉体に引か渡す。粉体
が圧縮されかつガスの助けにより荷電が粉体に与えられ
るので、静電荷電が強力に行われるのである。これによ
り粉体の消費が低減し、塗装品質が向上され、対象物に
直接粉体塗装が行われるのである。電極の前後端でコロ
ナ放電が起き、これにより電極端部自身が暖められる。
しかも電極端部が小さいだけでなくガス導路の開口から
粉体導路内に突出していないから、これに際して粉体の
付着は起きることがない。
粉体導路内に突出していないから、これに際して粉体の
付着は起きることがない。
第１．２図はこの発明の実施態様を示す断面側面図であ
る。 ２・・・機材 １４・・・粉体導路１８・・
・スプレー口 ２４・・・ガス導路２５・・・支持
体 ７０・・・外周面８０・・・ガス吹出口
８２・・・電極１０２・・・粉体偏向機構 １１４．１２０・・・キャップ １２４．１３４・・・ガス吹出口 １３６・・・電極 特許出願代理人 弁理士 菅原一部 ！、事件の表示 特願昭６２−０５６４１７号 ２、発明の名称 塗装粉体用静電スプレー装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 スイス国、ツエーハーー９０１５エステ−、ガ
レン、 ムーベンシュトラッセ １７ 名 称 ランスブルグーゲマ アーゲー住 所 東京都
大田区北千束１丁目５８番９号５、補正命令の日付 昭和６２年７月 １日 （同年７月２８日発送）６、補
正の対象 明細書の「図面の簡単な説明」の欄 ７、補正の内容 明細書第２０頁第１５〜１６行目 「第１．２図は〜断面側面図である。」を「第１図はこ
の発明の一実施態様を示す断面側面図、第２．３図はこ
の発明の他の実施態様を示す断面、側面図である。ｊと
訂正する。
る。 ２・・・機材 １４・・・粉体導路１８・・
・スプレー口 ２４・・・ガス導路２５・・・支持
体 ７０・・・外周面８０・・・ガス吹出口
８２・・・電極１０２・・・粉体偏向機構 １１４．１２０・・・キャップ １２４．１３４・・・ガス吹出口 １３６・・・電極 特許出願代理人 弁理士 菅原一部 ！、事件の表示 特願昭６２−０５６４１７号 ２、発明の名称 塗装粉体用静電スプレー装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 スイス国、ツエーハーー９０１５エステ−、ガ
レン、 ムーベンシュトラッセ １７ 名 称 ランスブルグーゲマ アーゲー住 所 東京都
大田区北千束１丁目５８番９号５、補正命令の日付 昭和６２年７月 １日 （同年７月２８日発送）６、補
正の対象 明細書の「図面の簡単な説明」の欄 ７、補正の内容 明細書第２０頁第１５〜１６行目 「第１．２図は〜断面側面図である。」を「第１図はこ
の発明の一実施態様を示す断面側面図、第２．３図はこ
の発明の他の実施態様を示す断面、側面図である。ｊと
訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ［１］下流端にスプレー口（１８）を具えた粉体導路（
１４）と、粉体流を横断してガス壁（１０６）を形成す
るために粉体流の半径方向中心においてスプレー口（１
８）の下流側に設けられた粉体偏向機構（１０４、１０
６、１０８、１１２）と、粉体導路（１４）の導路部分
（６８、１１９）およびスプレー口（１８）を貫通して
軸方向に延在して上記の粉体偏向機構を支持しかつ粉体
偏向機構にガスを供給するガス導路（２４）と粉体導路
中の塗装粉体に静電荷電を行うための少なくとも１個の
電極（８２）とを具えた支持体（２５）を有してなり、
かつ 該支持体（２５）がガス導路（２４）を粉体導路（１４
）に連結するガス吹出し口（８０）を少なくとも１個有
しており、 ガス導路（２４）からガス吹出口（８０）を介して粉体
導路（１４）中に流れるガスがそれに沿って流れてその
結果そこからの静電荷電が塗装粉体中に噴射される如く
にガス吹出口（８０）中に少なくとも１個の電極（８２
）が設けられており、かつ スプレー口（１８）の下流端（１１８）における横断面
からの支持体（２５）の外周面（７０）中のガス吹出口
（８０）の半径方向中間点の距離（１１６）および電極
（８２）の下流端（８４）の距離がともに１２〜１６ｍ
ｍの範囲にあることを特徴とする塗装粉体用静電スプレ
ー 装置。 ［２］ガス流に関して電極（８２）の下流端（８４）が
ガス吹出口（８０）の下流端とそこから下流側に３ｍｍ
の範囲内に位置する 如き特許請求の範囲第［１］項記載の装置。 ［３］ガス流に関して電極（８２）の下流端（８４）が
ほぼ支持体（２５）の外周面（７０）中のガス吹出口（
８０）の下流端に位置している如き特許請求の範囲第［
１］項記載の装置。 ［４］ガス吹出口（８０）が粉体の流れ方向について粉
体導路（１４）の半径方向に傾斜して粉体導路（１４）
内に指向している 如き特許請求の範囲第［１］〜［３］のいずれかの項記
載の装置。 ［５］下流端にスプレー口（１８）を具えた粉体導路（
１４）と、ガス雲の形成のために粉体流の中心において
スプレー口より下流側に設けられた粉体偏向機構（１２
０）と、粉体導路（１４）の導路部分（１１９）および
スプレー口（１８）を貫通して導路軸（２０）方向に延
在して粉体偏向機構を支持しかつガス導路（２４）と粉
体導路中の塗装粉体を静電荷電するための電極（８２）
を少なくとも１個具えた支持体（２５）を有してなり、
かつ 粉体偏向機構がファンネル状キャップ （１２０）を有しており、 支持体（２５）がガス導路（２４）を粉体導路（１４）
に連結するガス吹出口（８０）を少なくとも１個有して
おり、 ガス吹出口（８０）を介してガス導路（２４）から粉体
導路（１４）に流れ込んだガスがそれに沿って流れかつ
それにより静電荷電が塗装粉体中に噴射される如くにガ
ス吹出口（８０）中に少なくとも１個の電極（８２）が
設けられており、かつ ガス吹出口の下流端（１１８）からの支持体の外周面（
７０）中のガス吹出口の半径方向の中間点の距離（１２
６）および電極（８２）の下流端（８４）の距離がとも
にガス吹出口とスプレー口との間の導路部分（１１９）
における粉体導路（１４）の外径（１１７）の半分であ
る ことを特徴とする塗装粉体用静電スプレー 装置。 ［６］電極（８２）の下流端（８４）が支持体（２５）
の外周面（７０）の面内もしくはこれより約１ｍｍ下流
側ガス吹出口（８０）内に位置している 如き特許請求の範囲第［５］項記載の装置。 ［７］ガス吹出口（８０）が流れ方向に対して粉体導路
（１４）の半径方向に傾斜して粉体導路内に指向してい
る 如き特許請求の範囲第［５］または［６］項記載の装置
。 ［８］ファンネル状キャップ（１２０）の導路軸（２０
）においてガス導路（２４）と連結された軸方向のガス
吹出口（１３４）がキャップのスプレー口（１８）より
離れた側に軸方向前方に開口しており、かつ このガス吹出口（１３４）中に粉体静電荷電用の電極（
１３４）が更に設けられている 如き特許請求の範囲第［５］〜［７］のいずれかの項記
載の装置。 ［９］ファンネル状キャップ（１２０）がそのスプレー
口（１８）から離れた側の頭部（１３２）に実質的に半
径方向に開口するガス吹出口 （１２４）を少なくとも１個有しており、かつこのガス
吹出口がキャップの半径方向中心に位置してガス導路（
２４）と連結されている 如き特許請求の範囲第［５］〜［８］のいずれかの項記
載の装置。 ［１０］支持体（２５）が粉体導路（１４）の内部スプ
レー口（１８）の上流側にそれぞれ少なくとも１個の電
極（８２）を具えた少なくとも２個のガス吹出口（８０
）をその周方向に均等に分配して有している 如き特許請求の範囲第［５］〜［９］のいずれかの項記
載の装置。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19863608415 DE3608415A1 (de) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | Elektrostatische sprueheinrichtung fuer beschichtungspulver |
| DE3608415.8 | 1986-03-13 | ||
| DE3608426.3 | 1986-03-13 | ||
| DE19863608426 DE3608426C3 (de) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | Elektrostatische Sprüheinrichtung für Beschichtungspulver |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6323762A true JPS6323762A (ja) | 1988-02-01 |
| JPH0673644B2 JPH0673644B2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=25841927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62056417A Expired - Lifetime JPH0673644B2 (ja) | 1986-03-13 | 1987-03-10 | 塗装粉体用静電スプレ−装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4788933A (ja) |
| EP (1) | EP0236794B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0673644B2 (ja) |
| ES (1) | ES2019888B3 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014065037A (ja) * | 2007-06-29 | 2014-04-17 | Finishing Brands Holdings Inc | 粉体材料供給システム |
Families Citing this family (30)
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| EP0236794B1 (de) | 1991-01-02 |
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| JPH0673644B2 (ja) | 1994-09-21 |
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