JPS63230570A - SiC−TiC常圧焼結体およびその製造方法 - Google Patents
SiC−TiC常圧焼結体およびその製造方法Info
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- JPS63230570A JPS63230570A JP62064086A JP6408687A JPS63230570A JP S63230570 A JPS63230570 A JP S63230570A JP 62064086 A JP62064086 A JP 62064086A JP 6408687 A JP6408687 A JP 6408687A JP S63230570 A JPS63230570 A JP S63230570A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 13
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 13
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 claims description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001272 pressureless sintering Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- -1 titanium hydride Chemical compound 0.000 description 1
- 229910000048 titanium hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、SiC−TiC常圧焼結体およびその製造方
法に関し、特に粒界などに金属や酸化物からなる結合相
を含むことのない複合材料についての開発成果に関し、
耐熱性や耐摩耗性はもちろん、高強度、高靭性で高密度
なSi C−Ti C複合焼結体を有利に製造する方法
についての提案である。
法に関し、特に粒界などに金属や酸化物からなる結合相
を含むことのない複合材料についての開発成果に関し、
耐熱性や耐摩耗性はもちろん、高強度、高靭性で高密度
なSi C−Ti C複合焼結体を有利に製造する方法
についての提案である。
(従来の技術)
従来、SiC質セラミックス焼結体などの強度、靭性を
改善する技術として、例えば、特開昭61wt6316
8号公報では、SiCに対し、強度または高温で安定な
TiCを5〜25 vo1%添加する方法を開示してい
る。これによって、5tC−TiCセラミンクスの破壊
靭性値は、SiC単体のものに比べて約3倍も向上する
ことが報告されている。
改善する技術として、例えば、特開昭61wt6316
8号公報では、SiCに対し、強度または高温で安定な
TiCを5〜25 vo1%添加する方法を開示してい
る。これによって、5tC−TiCセラミンクスの破壊
靭性値は、SiC単体のものに比べて約3倍も向上する
ことが報告されている。
このようなSiCとTiCの複合化に対する要請は次の
ような背景によるものと考えられる。
ような背景によるものと考えられる。
一般に、SiC焼結体は、高温曲げ強度の低下が無(、
エンジニアリングセラミックスとして有望である反面、
破壊靭性値が低く、ワイプル係数も低い欠点がある。
エンジニアリングセラミックスとして有望である反面、
破壊靭性値が低く、ワイプル係数も低い欠点がある。
これに対しTiC焼結体は、破壊靭性には優れるものの
サーメットなどのよ・うに金属相や酸化層を有するため
、高温強度の低下が起こり、耐酸化性も低下する欠点が
ある。
サーメットなどのよ・うに金属相や酸化層を有するため
、高温強度の低下が起こり、耐酸化性も低下する欠点が
ある。
そこで、特開昭61wt63168号公報に開示の技術
では、SiCの靭性を向上させることを目的として、S
iC焼結体中ニTiCヤWC,TaC,NbC,VC,
t(fCftどの炭化物を5〜25 vo1%を限度と
して添加し、粒界層にAI!、Si、Oを存在させるこ
とで前記欠点の解決を自損していた。
では、SiCの靭性を向上させることを目的として、S
iC焼結体中ニTiCヤWC,TaC,NbC,VC,
t(fCftどの炭化物を5〜25 vo1%を限度と
して添加し、粒界層にAI!、Si、Oを存在させるこ
とで前記欠点の解決を自損していた。
(発明が解決しようとする問題点)
上記従来技術で開示された技術は、それ以前のSiC焼
結体に比べるとある程度の靭性改善があり、有効ではあ
ったが、充分な靭性値が得られていた、 わけではな
い、また、粒界にAI!、Si、0を含むために高温で
強度低下が起こり、SiCの特性が失われていた。さら
に、かがる従来技術は、ホットプレス法で行われている
ために生産性が悪く、コストが高く、複雑形状のものが
得られにくいという問題点もあった。
結体に比べるとある程度の靭性改善があり、有効ではあ
ったが、充分な靭性値が得られていた、 わけではな
い、また、粒界にAI!、Si、0を含むために高温で
強度低下が起こり、SiCの特性が失われていた。さら
に、かがる従来技術は、ホットプレス法で行われている
ために生産性が悪く、コストが高く、複雑形状のものが
得られにくいという問題点もあった。
本発明の目的は、上述の各問題点を克服できるSiC−
TiC焼結体とその有利な製造方法を開発提供するとこ
ろにある。
TiC焼結体とその有利な製造方法を開発提供するとこ
ろにある。
(問題点を解決するための手段)
上掲の目的は、次の事項を要旨構成とする課題解決手段
、すなわち、 若干の残留焼結助剤を除き主としてSiCおよびTiC
からなるSiC−TiC常圧焼結体であって、前記Si
Cの含有量が5〜95wt%、前記TiCの含有量が5
〜951%で、該SiCとTiCの合計量が80w t
%以上である結晶が均一に結合されたSiC−TiC常
圧焼結体、 と、その製造方法として、 平均粒径がl、c1m以下のSiC粉末5〜95wt%
、平均粒径が1μm以下のTiC粉末5〜95wt%の
混合粉末100重量部に対し、焼結助剤として0、OI
〜5.0重量部のBおよび0.5〜5.0重量部のCを
添加混合し、この混合物を所定の形状に成形し、その後
非酸化性雰囲気中での常圧下で2000〜2500℃に
加熱して焼結することを特徴とするSi C−Ti C
常圧焼結体の製造方法、の採用を通じて達成される。
、すなわち、 若干の残留焼結助剤を除き主としてSiCおよびTiC
からなるSiC−TiC常圧焼結体であって、前記Si
Cの含有量が5〜95wt%、前記TiCの含有量が5
〜951%で、該SiCとTiCの合計量が80w t
%以上である結晶が均一に結合されたSiC−TiC常
圧焼結体、 と、その製造方法として、 平均粒径がl、c1m以下のSiC粉末5〜95wt%
、平均粒径が1μm以下のTiC粉末5〜95wt%の
混合粉末100重量部に対し、焼結助剤として0、OI
〜5.0重量部のBおよび0.5〜5.0重量部のCを
添加混合し、この混合物を所定の形状に成形し、その後
非酸化性雰囲気中での常圧下で2000〜2500℃に
加熱して焼結することを特徴とするSi C−Ti C
常圧焼結体の製造方法、の採用を通じて達成される。
上記のSi C−Ti C焼結体は、密度が90%以上
で、残留焼結助剤として、Bを5wt%以下、m離Cを
51%以下含み、かつNを0.5〜10wt%の範囲で
含むことが許される。
で、残留焼結助剤として、Bを5wt%以下、m離Cを
51%以下含み、かつNを0.5〜10wt%の範囲で
含むことが許される。
(作 用)
以下に本発明焼結体が上記のように限定される理由につ
き述べる。
き述べる。
まず、SiC,TiCともその含有量が5〜95wt%
(以下は単に「%」で略記する)に限定される理由は、
これらの範囲を超える焼結体は、TiCまたはSiCの
各結晶粒子が、Si C−Ti C常圧焼結体中に均一
に分散することなく、かつ十分な量存在しないため、実
質的に破壊靭性値(K+c)の高いSiC−TiC常圧
焼結体が得られないがらである。
(以下は単に「%」で略記する)に限定される理由は、
これらの範囲を超える焼結体は、TiCまたはSiCの
各結晶粒子が、Si C−Ti C常圧焼結体中に均一
に分散することなく、かつ十分な量存在しないため、実
質的に破壊靭性値(K+c)の高いSiC−TiC常圧
焼結体が得られないがらである。
また、残留焼結助剤の量につき、B:5%以下、C:5
%以下とした理由は、この範囲で高密度でかつ高温強度
の高いSiC−TiC常圧焼結体が得られるからである
。好ましくはSiCが5〜70%、TiCが30〜95
%、Bが0.2〜2.0%およびCが0.5〜2.0%
の範囲で含有するのが望ましい。
%以下とした理由は、この範囲で高密度でかつ高温強度
の高いSiC−TiC常圧焼結体が得られるからである
。好ましくはSiCが5〜70%、TiCが30〜95
%、Bが0.2〜2.0%およびCが0.5〜2.0%
の範囲で含有するのが望ましい。
本発明にかかる焼結体は、SiCおよびTiCの平均結
晶粒径が0.5〜10μmであり、それらの結晶が均一
にかつ特定の方向に配向しないで含まれていることが必
要である。このように、SiCおよびTiCの平均結晶
粒径を0.5〜10μmにしなければならない理由は、
この範囲内だと強度の高いSiC−TiC常圧焼結体が
得られるからである。また、これらSiCとTiCの結
晶が特定の方向に配向しないようにする必要の根拠は、
結晶が特定の方向に配向していると、焼結体の方向によ
り特性が著しく変化し、信頼線のある材料が得られない
からである。
晶粒径が0.5〜10μmであり、それらの結晶が均一
にかつ特定の方向に配向しないで含まれていることが必
要である。このように、SiCおよびTiCの平均結晶
粒径を0.5〜10μmにしなければならない理由は、
この範囲内だと強度の高いSiC−TiC常圧焼結体が
得られるからである。また、これらSiCとTiCの結
晶が特定の方向に配向しないようにする必要の根拠は、
結晶が特定の方向に配向していると、焼結体の方向によ
り特性が著しく変化し、信頼線のある材料が得られない
からである。
次に、本発明焼結体は、理論密度が90%以上を示すS
i C−Ti C常圧焼結体であることが好ましい。
i C−Ti C常圧焼結体であることが好ましい。
この理由は、理論密度が90%より低いと、SiC−T
iC常圧焼結体の強度と耐酸化性が劣化するからである
。この理論密度は95%よりも高いとさらに好ましいも
のとなる。
iC常圧焼結体の強度と耐酸化性が劣化するからである
。この理論密度は95%よりも高いとさらに好ましいも
のとなる。
本発明焼結体のさらに好ましい組成例は、50〜95%
のSiCs5〜50%のTiC,5%以下のB、 5%
以下のCおよび0.5〜10%のNからなるSiC−T
iC常圧焼結体である。要するに、TiCが50%以下
で、SiCが50%より高い組成では、Nを0.5〜l
O%含有させると極めて高密度で、均一微細な結晶組織
を有するSiC−TiC常圧焼結体が得られるからであ
る。
のSiCs5〜50%のTiC,5%以下のB、 5%
以下のCおよび0.5〜10%のNからなるSiC−T
iC常圧焼結体である。要するに、TiCが50%以下
で、SiCが50%より高い組成では、Nを0.5〜l
O%含有させると極めて高密度で、均一微細な結晶組織
を有するSiC−TiC常圧焼結体が得られるからであ
る。
次に、製造方法について述べる。
所定の粒径のSiC粉末(5〜95%)とTiC粉末(
5〜95%)との混合原料を焼結助剤を使って焼成する
際、混合原料中の各粉末配合割合を上記のような範囲の
量に限定した理由は、この範囲外での組成では焼結体中
にSiC結晶またはTiC結晶が均一に分散することに
よる密度高く破壊靭性(K +c)の高いSiC−Ti
C常圧焼結体が得られないからである。とくにSfC粉
末5〜70%、TiC粉末30〜95%の組成のものは
焼結性に優れ、均一微細結晶からなる高密度の焼結体が
得られるのでより好ましい。
5〜95%)との混合原料を焼結助剤を使って焼成する
際、混合原料中の各粉末配合割合を上記のような範囲の
量に限定した理由は、この範囲外での組成では焼結体中
にSiC結晶またはTiC結晶が均一に分散することに
よる密度高く破壊靭性(K +c)の高いSiC−Ti
C常圧焼結体が得られないからである。とくにSfC粉
末5〜70%、TiC粉末30〜95%の組成のものは
焼結性に優れ、均一微細結晶からなる高密度の焼結体が
得られるのでより好ましい。
本発明の製造方法において、原料中のSiC粉末とTi
C粉末の平均粒径を1μ瀧以下に限定する理由は、Si
C粉末とTiC粉末は共に粒径が小さい程焼結性に富む
性質があり、常圧焼結法により高密度のSiC−TiC
常圧焼結体を得るには平均粒径は1μm以下であること
が必要である。なお、焼結性の点でより好ましいSiC
粉末の平均粒径は0.5μm以下、TiCの平均粒径は
0.7μm以下である。
C粉末の平均粒径を1μ瀧以下に限定する理由は、Si
C粉末とTiC粉末は共に粒径が小さい程焼結性に富む
性質があり、常圧焼結法により高密度のSiC−TiC
常圧焼結体を得るには平均粒径は1μm以下であること
が必要である。なお、焼結性の点でより好ましいSiC
粉末の平均粒径は0.5μm以下、TiCの平均粒径は
0.7μm以下である。
また、これらの各粉末中に含まれるFeの如きメタル不
純物は、1%以下にしないと高温強度が悪くなる傾向が
ある。
純物は、1%以下にしないと高温強度が悪くなる傾向が
ある。
なお、前記SiC粉末は、シリカ還元法、CVD法、ア
ルコキシド法あるいは直接反応法などで製造したものが
使用できる。
ルコキシド法あるいは直接反応法などで製造したものが
使用できる。
一方、前記TiC粉末は、メンストラム法、酸化物法、
水素化チタン炭化法、ハロゲン化物法あるいはCVD法
などで得られた粉末が使用できる。
水素化チタン炭化法、ハロゲン化物法あるいはCVD法
などで得られた粉末が使用できる。
次に、上記主原料粉末(SiC−TiC)に対して添加
する助剤について、B:0.01〜5.0%、C:0.
5〜5.0%とする理由について述べる。
する助剤について、B:0.01〜5.0%、C:0.
5〜5.0%とする理由について述べる。
SiC,TiCの焼結助剤として用いるB、Cの焼結特
性については、本発明者らの研究によると、その添加量
がホウ素CB)の場合0.01%以下では焼結性が著し
く低下し、一方、5,0%を超えて添加しても焼結性の
向上には効果が認められなかった。
性については、本発明者らの研究によると、その添加量
がホウ素CB)の場合0.01%以下では焼結性が著し
く低下し、一方、5,0%を超えて添加しても焼結性の
向上には効果が認められなかった。
炭素(C)については、添加量が0.5%以下だと焼結
体に異常粒成長が多く見られ、一方、5.0%を超える
添加量の場合は、焼結性の低下が認められた。
体に異常粒成長が多く見られ、一方、5.0%を超える
添加量の場合は、焼結性の低下が認められた。
なお、Bについては純B粉末のみならず熱分解してBお
よびB、Cを生成するB化合物を使用することができ、
Cについても微粉Cの他分解してCを生成する合成樹脂
が使用できる。
よびB、Cを生成するB化合物を使用することができ、
Cについても微粉Cの他分解してCを生成する合成樹脂
が使用できる。
次に焼成条件について述べる0本発明方法の特徴の1つ
は、常圧−非酸化性雰囲気下での焼成にある。このよう
な雰囲気中で前記混合粉末原料を2000〜2500℃
の範囲に加熱して焼結させる。
は、常圧−非酸化性雰囲気下での焼成にある。このよう
な雰囲気中で前記混合粉末原料を2000〜2500℃
の範囲に加熱して焼結させる。
その理由は、常圧下で焼成することにより、SiC−T
iC常圧焼結体中に存在するTiCまたはSiCの結晶
が特定の方向に配向することなく均一な焼結・体が得ら
れ、さらには焼結体中の残留応力を比較的少なくするこ
とができる。従って、焼結体は高強度、高靭性を示す物
性のものが得られる。なお、複雑形状の製品が安価に得
られることもこの方法の特徴の1つである。
iC常圧焼結体中に存在するTiCまたはSiCの結晶
が特定の方向に配向することなく均一な焼結・体が得ら
れ、さらには焼結体中の残留応力を比較的少なくするこ
とができる。従って、焼結体は高強度、高靭性を示す物
性のものが得られる。なお、複雑形状の製品が安価に得
られることもこの方法の特徴の1つである。
本発明の製造方法において限定した上記焼成温度は、2
000〜2500℃であるが、この範囲に限定される理
由は、2000℃以下の場合、85%TD以上の高密度
焼結体を得ることが難しく、一方、2500℃以上にな
るとSiC,TiCの昇華が起こるため表面ががさつく
からである。
000〜2500℃であるが、この範囲に限定される理
由は、2000℃以下の場合、85%TD以上の高密度
焼結体を得ることが難しく、一方、2500℃以上にな
るとSiC,TiCの昇華が起こるため表面ががさつく
からである。
次に、焼成の雰囲気については、Ar、 N2. He
および真空のいずれか1種以上から選ばれる非酸化性雰
囲気とすることが必要である。なお、SiC粉末50〜
90wt%、 Ti C粉末5〜50w t % 、
B 5w L’X以下およびC3wt%以下の混合物の
組成においては、本発明者らの研究によるとN2雰囲気
で行うことがより好ましい。この理由は明確でないが、
Si −Ti−C−N系の化合物が生成し、焼結性を促
進して高密度の焼結体を得るものと推定される。
および真空のいずれか1種以上から選ばれる非酸化性雰
囲気とすることが必要である。なお、SiC粉末50〜
90wt%、 Ti C粉末5〜50w t % 、
B 5w L’X以下およびC3wt%以下の混合物の
組成においては、本発明者らの研究によるとN2雰囲気
で行うことがより好ましい。この理由は明確でないが、
Si −Ti−C−N系の化合物が生成し、焼結性を促
進して高密度の焼結体を得るものと推定される。
上述のようにて製造したrSi C−Ti C複合焼結
体」は、X線回折図形を調べたところ、SiC−TiC
焼結体ともシャープなピークが観察された。また格子定
数を測定した結果、第1表に示すような結果が得られた
。
体」は、X線回折図形を調べたところ、SiC−TiC
焼結体ともシャープなピークが観察された。また格子定
数を測定した結果、第1表に示すような結果が得られた
。
第1表
上記の測定値を見る限り両者の区別は明確ではないが、
第1図に示すSEM反射電子像(X2000)を見ると
判るように、SiCマトリックス中に白く浮き彫りにな
ったTiCが均一に分散している様子が明らかである。
第1図に示すSEM反射電子像(X2000)を見ると
判るように、SiCマトリックス中に白く浮き彫りにな
ったTiCが均一に分散している様子が明らかである。
TiCは焼成前の平均粒径が0.65μmのものであっ
たが、焼成過程では粒成長が起こると推定される。
たが、焼成過程では粒成長が起こると推定される。
また、第2図は、SiC−TiC焼結体をビッカース圧
子を10kgで加圧した時に発生するクランクの進行状
況を示すSEM反射電子像(x500)を示すものであ
る。この図(写真)から、SiCとTiCの熱膨張差に
より、粒界に生じた残留応力にもとづいて発生するクラ
ンクは、残留応力場を選択的に選んで進行し、デフレク
ションが起きていることが確認できる。いわゆるこのデ
フレクション効果により高い靭性値が得られるものと思
われる。
子を10kgで加圧した時に発生するクランクの進行状
況を示すSEM反射電子像(x500)を示すものであ
る。この図(写真)から、SiCとTiCの熱膨張差に
より、粒界に生じた残留応力にもとづいて発生するクラ
ンクは、残留応力場を選択的に選んで進行し、デフレク
ションが起きていることが確認できる。いわゆるこのデ
フレクション効果により高い靭性値が得られるものと思
われる。
なお、第1,2図に用いた焼結体はSiC/TiC=7
0/30 のものである。
0/30 のものである。
(実施例)
以下実施例およびこれにあわせて比較例について説明す
る。その結果を第2表、第3表にまとめて示す。
る。その結果を第2表、第3表にまとめて示す。
実施例の場合、基本的には平均粒径0.6μm、比表面
積8 m”/gのTiC粉と、平均粒径0.25μm、
比表面積20 m”/HのSiC粉との混合物100重
量部に対し、焼結助剤として84C1,0重量部、C源
としてフェノールレジン2.0重量部を添加し、溶媒と
して水を300部添加し、ボールミルにて混合した。2
4時間混合した後、スプレードライヤーで乾燥した。
積8 m”/gのTiC粉と、平均粒径0.25μm、
比表面積20 m”/HのSiC粉との混合物100重
量部に対し、焼結助剤として84C1,0重量部、C源
としてフェノールレジン2.0重量部を添加し、溶媒と
して水を300部添加し、ボールミルにて混合した。2
4時間混合した後、スプレードライヤーで乾燥した。
成形は、金型ブレス150 kg/cm2で行った。そ
の後、3 t/cm”でラバープレスした。
の後、3 t/cm”でラバープレスした。
焼成はAr雰囲気で毎分5℃で昇温し、2300℃で1
時間保持した後冷却した。
時間保持した後冷却した。
こうして得られた焼結体は、例えば表中の実施例4 (
SiC/TiC−70/30)の例だと、焼結体密度9
2.5%TD、破壊靭性値(K +c) 8 MPam
””と大変高い値が得られた。また、曲げ強度は室温で
58kgflra11” 1300℃で45kgr/m
m”と、高温での強度低下がほとんどなかった。さらに
比抵抗1.6X10−”Ω値と放電加工性の良い焼結体
が得られた。
SiC/TiC−70/30)の例だと、焼結体密度9
2.5%TD、破壊靭性値(K +c) 8 MPam
””と大変高い値が得られた。また、曲げ強度は室温で
58kgflra11” 1300℃で45kgr/m
m”と、高温での強度低下がほとんどなかった。さらに
比抵抗1.6X10−”Ω値と放電加工性の良い焼結体
が得られた。
(発明の効果)
以上説明したように本発明によれば、常圧焼結を特徴と
しているために生産性、コストの面で有利であり、複雑
形状のものを容易に製造できる。また、得られるSi
C−7i C焼結体は高密度で、強度とくに高温強度に
優れかつ靭性の高い数値を示すものとなる。
しているために生産性、コストの面で有利であり、複雑
形状のものを容易に製造できる。また、得られるSi
C−7i C焼結体は高密度で、強度とくに高温強度に
優れかつ靭性の高い数値を示すものとなる。
第1図は、本発明Si C−Ti C焼結体の粒子構造
を示す電子顕微鏡写真、 第2図は、本発明SiC−TiC焼結体にビッカース圧
子を押圧したときに入るクランクのもようを示す粒子構
造の電子顕微鏡写真である。
を示す電子顕微鏡写真、 第2図は、本発明SiC−TiC焼結体にビッカース圧
子を押圧したときに入るクランクのもようを示す粒子構
造の電子顕微鏡写真である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、若干の残留焼結助剤を除き主としてSiCおよびT
iCからなるSiC−TiC常圧焼結体であって、前記
SiCの含有量が5〜95wt%、前記TiCの含有量
が5〜95wt%で、該SiCとTiCの合計量が80
wt%以上である結晶が均一に結合されたSiC−Ti
C常圧焼結体。 2、理論密度が90%以上である特許請求の範囲第1項
に記載のSiC−TiC常圧焼結体。 3、前記残留焼結助剤として、Bを5wt%以下および
遊離Cを5wt%以下含有する特許請求の範囲第1また
は第2項のいずれかに記載のSiC−TiC常圧焼結体
。 4、前記残留焼結助剤として、Nを0.5〜10wt%
含有する特許請求の範囲第1または第2項のいずれかに
記載のSiC−TiC常圧焼結体。 5、前記残留焼結助剤として、Bを5wt%以下、遊離
Cを5wt%以下およびNを0.5〜10wt%含有す
る特許請求の範囲第1または第2項のいずれかに記載の
SiC−TiC常圧焼結体。 6、平均粒径が1μm以下のSiC粉末5〜95wt%
、平均粒径が1μm以下のTiC粉末5〜95wt%の
混合粉末100重量部に対し、焼結助剤として0.01
〜5.0重量部のBおよび0.5〜5.0重量部のCを
添加混合し、この混合物を所定の形状に成形した後、非
酸化性雰囲気中での常圧下で2000〜2500℃に加
熱して焼結することを特徴とするSiC−TiC常圧焼
結体の製造方法。 7、前記非酸化性雰囲気がN_2ガス雰囲気である特許
請求の範囲第6項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62064086A JPS63230570A (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | SiC−TiC常圧焼結体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62064086A JPS63230570A (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | SiC−TiC常圧焼結体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63230570A true JPS63230570A (ja) | 1988-09-27 |
Family
ID=13247916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62064086A Pending JPS63230570A (ja) | 1987-03-20 | 1987-03-20 | SiC−TiC常圧焼結体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63230570A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102390999A (zh) * | 2011-08-10 | 2012-03-28 | 武汉钢铁(集团)公司 | 液相烧结SiC-TiC复合陶瓷及其制备方法 |
EP2459500A2 (en) * | 2009-07-24 | 2012-06-06 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics Inc. | High toughness ceramic composites |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55116668A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-08 | Asahi Glass Co Ltd | Silicon carbide sintered body |
JPS6054978A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-29 | 住友電気工業株式会社 | 非鉄金属および非鉄合金用塑性加工工具 |
JPS62260774A (ja) * | 1986-05-01 | 1987-11-13 | 新日本製鐵株式会社 | 炭化珪素系複合セラミックス焼結体 |
-
1987
- 1987-03-20 JP JP62064086A patent/JPS63230570A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55116668A (en) * | 1979-02-28 | 1980-09-08 | Asahi Glass Co Ltd | Silicon carbide sintered body |
JPS6054978A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-03-29 | 住友電気工業株式会社 | 非鉄金属および非鉄合金用塑性加工工具 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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EP2459500A2 (en) * | 2009-07-24 | 2012-06-06 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics Inc. | High toughness ceramic composites |
EP2459500A4 (en) * | 2009-07-24 | 2012-12-26 | Saint Gobain Ceramics | CERAMIC COMPOSITES HAVING HIGH TENACITY |
CN102390999A (zh) * | 2011-08-10 | 2012-03-28 | 武汉钢铁(集团)公司 | 液相烧结SiC-TiC复合陶瓷及其制备方法 |
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