JPS63225918A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し産業上の利用分野］ この発明は磁気ディスクに関するものであり、ざらに詳
しくは耐久性を向上させるべき保護膜が形成された磁気
記録媒体に関するものである。

［従来の技術］　　　　　゛ 近年、コンピュータ・システムにおける磁気ディスクな
どの外部記憶装置の重要性が増大しており、これにとも
ない磁気ディスクなどを使用した磁気記録装置の高記録
密度化に対する要求はますます高まっている。かかる磁
気記録′ＩＡ置は記録再生ヘッドと磁気ディスクとの主
要構成部から構成されており、該磁気ディスクは高速で
回転していて前記記録再生ヘッドは磁気ディスク表面か
ら微小間隔だけ離れた位置に置かれている。この微小間
隔を小さくして磁気記録装置の高性能化を図るために記
録再生ヘッドの荷重を小さくするとともに、接触始動・
停止（コンタクト・スタート・ストップ（Ｃ３Ｓ））型
ヘッド浮上システムが採用されている。磁気ディスクの
高記録密度化および高性能化を図るためには、磁気記録
媒体の薄層化、均−一様化、磁気特性の改良および低浮
上量における安定したヘッド浮揚状態を確保し、さらに
ヘッドとディスクの衝突（ヘッドクラッシュ）を防止す
べきディスク表面の粗さの精度の向上および耐ヘッドク
ラツシユ性などの向上が必要である。しかしディスク表
面の粗さの精度の向上にともない、磁気ディスクと磁気
ヘッドとの接触摺動時における動ｆ！ｌ擦係数が著しく
大きくなり、ヘッド浮上までの摺動特性が悪いという欠
点が生じる。また磁性層が金属合金であるものについて
は、腐食による磁気特性の劣化などの欠点がある。

従来の磁気ディスクとしては樹脂フィルムの基板、アル
ミ合金の基板またはＸｌ−Ｃｕ−Ｐ合金の基板上にＦｅ
と酸素を用いて反応スパッタ法でＦｅの酸化物からなる
層を形成した後、さらに大気中で酸化することによりγ
−Ｆｅ２Ｏ３からなる磁性層としたものならびにアルミ
合金の基板上にＸｌ−Ｐ合金の下地層をメッキ法により
形成し、さらにその上にＮ１−Ｃｏ−Ｐ合金の磁性層を
メッキ法により形成したものが知られている。

しかしながらこのような磁気ディスクにおいては、磁気
ヘッドとの前述の摺動特性が悪く、そのため磁気ディス
クあるいは、磁気ヘッドの損傷を生じ機械的耐久性が悪
いという欠点がある。また下地層がＮ１−Ｐ合金であり
、磁性層がＮ　１−Ｃｏ−Ｐ合金である前記磁気ディス
クにおいては、これらの層が金属からなるために耐食性
に劣り前述の磁気特性の劣化などの欠点がある。

このような欠点を解消し磁気ディスクの下地層および磁
性層を保護するために、従来より磁性層表面上にスピン
コード法などによりフッ素系潤滑剤などを塗布したり、
またスパッタ法あるいはＥ、Ｂ蒸着法などによりはＳｉ
Ｏ、５ｉ０２またはカーボンからなる膜を形成したり、
またシランカップリング剤層を形成しさらにその上にフ
ッ素系潤滑剤などをスピンコード法などにより塗布した
りして保護層を形成している。

ここでこのような保護層の厚さが厚いばあいには、これ
がスペーシングロスとして大きく影響し、磁気ディスク
の再生出力の低下を引き起こすため、保護層の膜厚は数
百Å以下にする必要がある。

なお、上記従来技術としては、特公昭５５−４０９３２
号公報、特開昭５３−３９７０６号公報および「昭和６
１年度電子通信学会総合全国大会、予講集、１−１６７
　Ｊなどに記載されている。

［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら再生出力の低下を起こさない数百へ以下の
膜厚の従来の保護膜においては磁性層表面上に塗布した
フッ素系潤滑剤の保持が困難であり、磁気ディスクの回
転にともないフッ素系潤滑剤が飛散したり、放置時間お
よび放置温度に依存してフッ素系１Ｉ２ＩＷ４剤が蒸発
したりして、保ＩＩＩの磁気ヘッドに対する潤滑効果が
劣化し、磁気ディスクあるいは磁気ヘッドに損傷が生じ
やすくなったり、充分な耐久性および信頼性かえられな
いという問題がある。

この発明はかかる従来の問題点を解決するためになされ
たもので、フッ素系潤滑剤層をフッ素系シランカップリ
ング剤層におきかえることで潤滑剤の飛散、蒸発現象が
ほとんどなく、その結果として再生出力が低下せず、さ
らに実用上充分な耐久性および耐食性を有する磁気記録
媒体を提供することを目的とする。

［間ｉ解決するための手段］ 本発明の磁気記録媒体は、磁性層上にフッ素系シランカ
ップリング剤からなる保護層が形成されているものであ
り、また前記磁性層と前記保護層との間にシランカップ
リング剤層が形成されていてもよく、また前記磁性層と
前記保護層との間に硬質層が形成されていてもよく、さ
らには前記磁性層と前記シランカップリング剤層との間
に硬質層が形成されていてもよい。

ここで前記硬質層とはＳ＋０２、ＳｉＯ、ＴｉＮ　、　
ＴｉＯ、カーボンおよびタングステン合金などならびに
これらの混晶系のものからなる。

［作　和］ 本発明における保護層の成分であるフッ素系シランカッ
プリング剤は、磁気記録媒体の前記磁性層、シランカッ
プリング剤層および硬質層との接着力が強いため、保護
層の厚さが薄くても保護層の成分の飛散や蒸発がほとん
ど生じず、充分な機械的耐久性を有するとともに充分な
撥水性を有する。

また磁性層上に形成される層の合計の膜厚を薄くできる
ので、磁性層と磁気ヘッドとのスペーシングロスが少な
く、磁気記録媒体の再生特性を良好に保持できる。

なお前記シランカップリング剤層はフッ素系シランカッ
プリング剤と化学的に反応し、その結果としてフッ素系
シランカップリング剤の基板への付着力を促進するよう
な機能を有する。

また前記硬質層は、ヘッド、ディスク間での摺動にとも
なう、フッ素系シランカップリング剤および基板自身の
摩耗による劣化を遅らせる効果をもち、また記録部であ
る磁性層に直接損傷を与えないような機能を有する。

また、前記シランカップリング剤層を設け、その層と前
記磁性層とのあいだに硬質層を設けたものは上記に示す
機能を両方ともかねそなえた機能を有する。

［実施例］ 以下この発明の実施例について説明する。

本発明に用いるフッ素系シランカップリング剤とは、少
なくとも分子末端に１つ以上のカルボキシル基を有する
フッ素系潤滑剤を酸塩基反応を示し塩素を含む材料を用
いて塩素化し、つぎにこの塩素化したフッ素系Ｉｌｌ！
ｌＷ！剤に、少なくとも分子末端に１つ以上のアミノ基
を有するシランカップリング剤を加えることにより化学
的に両者を結合合成したものをいう。

ここで用いるフッ素系潤滑剤の一実施例としては、デュ
ポン社製フッ素系潤滑剤であるにＲＹＴＯＸ１５７ＦＳ
（Ｌ）　、ＫＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）　、まｔｃ
　Ｌｌｔ　ＫＲＹＴＯＸ１５７ＦＳ（旧があり、これら
の構造式は□ で表わされる。ここで前記商品名における添字の（Ｌ）
　、（Ｈ）および（旧はそれぞれの平均分子量が低いも
の、中程度のものおよび高いものを表わし、それぞれ分
子式中のｎが小さいもの、中程度のものおよび大きいも
のである。また用いられるフッ素系潤滑剤の他の実施例
としては、モンテフロース社製のＺ−ＤＩＡＣ［構造式
： ％式％］ や大日本インキ化学社製メガフ？ツクＦ−１２０［構造
式：　　Ｆ　−ｆｃｈ’ｒｒ　Ｃ０ＯＨ］などがある。

またここで用いる酸塩基反応を示し塩素を含む材料とし
ては、塩化チオニール、５塩化リン、塩化ベンゾイルな
どがある。

さらにここで用いるアミノ基を有するシランカップリン
グ剤としては、日本ユニカー社製のＮｔｌＳシランカッ
プリング剤Ａ−１１００［構造式：）１２８ｃ８２ｃ）
１２ｃ）１２ｓｉ（ＯＣ２Ｈｓ）３］ならびに信越化学
工業■製のにＢＨ６０３［構造式： ％式％［ 式：　Ｈ２ＮＣ２Ｈ４ＮＨＣｘＨａＳｉ（ＯＣＨ３）ｚ
　］Ｈ３ などがある。

つぎにフッ素系シランカップリング剤の合成力の例を示
す。

まず、デュポン社製フッ素系潤滑剤である５０ｇのにＲ
ＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｍ）　　（平均分子ｉｉ　：　
５０００）と、５０グの塩化チオニールとを３００１ｇ
ｄ！の四つロフラスコに入れ、それぞれの口に水冷コン
デンサー、チッ素ガス導入管、テフロン性撹拌羽および
温度計を取り付け、オイルバス中にセットした。そして
前記フッ素系潤滑剤と塩化チオニールとの混合物を反応
させるため、フラスコ内をチッ素置換しながら、撹拌羽
を回転させ、水冷コンデンサーに水を流して、オイルバ
スの温度を１２０℃まで上昇させた。そして、そのまま
６時間環流を行なった。つぎに過剰の塩化チオニールを
除去するために、アスピレータ−を接続したエバポレー
ターに反応物をセットし、８０℃のオイルバス中で３時
間減圧吸引し過剰の塩化チオニールを分離除去して、塩
素化したフッ素系潤滑剤をえた。この時の収量は４８９
であった。このえられた塩素化したフッ素系潤滑剤をＩ
Ｒ分析すると、未反応時の前記にＲＹＴＯＸ　１５７Ｆ
Ｓ（Ｈ）中にあったカルボキシル基によるＶＣ−Ｏの吸
１〜 収スペクトル（１７５５ｃＩＩ−Ｍがなくなり、かねり
に酸りＯライドの吸収スペクトルにもとづくＶＣ＝Ｏの
吸収スペクトルが”１　１８２００１１−１のところに
現われた。

これによってフッ素系潤滑剤中のＣ０ＯＨ基のほとんど
が酸・塩基反応により塩素化されていることがわかる。

つぎにこの塩素化した３０９のフッ素系潤滑剤と０．５
ｇのピリジンを２００ｄの四つロフラスコに入れそれぞ
れの口にチッ素ガス導入管、排出管、テフロン性撹拌羽
および温度計を取り付け２０℃のオイルバス中にセット
した。

つぎに信越化学工業■製シランカップリング剤ＫＢＨ６
０３の１．５ｇを注射器に入れ、チッ素ガス排出管を通
して、四つ目フラスコ内に毎分０．５ｇの割合で注入し
た。このとき四つロフラスコ内の温度は２２℃まで上昇
した。なお、この反応は、チッ素ガス置換しながら撹拌
羽を回転させ２時間行なった。つぎにこのままオイルバ
スの温度を１００℃まで上昇させ３時間保持した。

つぎに過剰の前記に８８６０３とピリジンを除去するた
めに、ロータリーポンプを接続したエバポレーターに反
応物をセットし、１００℃のオイルバス中で３時間減圧
吸引し過剰のにＢＨ６０３およびピリジンを除去した。

さらにこの生成物を減圧ろ過して目的のフッ素系シラン
カップリング剤をえた。この時の収量は３１．１ｇであ
った。

つぎにえられたフッ素系シランカップリング剤の０．１
ｇを１００Ｉ１１のフッ素系溶媒であるトリフロロトリ
クロロエタン［ダイフロンＳ３（ダイキン工業■製）］
に溶かし、この中に０．１ｗｔ％のチモールブルー（ジ
メチルホルムアミド溶液）を２〜３滴加えたところ緑色
に変色した。このことから目的のフッ素系シランカップ
リング剤は、中性であることを確認した。

つぎにこのフッ素系シランカップリング剤を実際に適用
した磁気記録媒体の実施例について説明する。

実施例１ 第１図は本発明の実施例１の磁気記録媒体を示す断面図
である。第１図において（１）はアルミ合金からなる厚
さが約１．９鑓の基板であり、（２）は基板（１）上に
形成された旧−Ｐ合金からなる厚さが約１０ｐの下地層
であり、（３）は下地層（ｚ上に形成されたＮ１−Ｃｏ
−Ｐ合金からなる厚さ約１８００人の磁性層であり、（
４）は磁性層（３）上にスパッタ法、ゾルゲル法または
Ｅ、８蒸着法などにより形成された酸化シリコンからな
る厚さが約１５０人の硬質層である。また（５）は硬質
層（４）上にスピンコード法またはディップコート法な
どにより前記に８８６０３によって形成されたシランカ
ップリング剤層で塗布後、大気中で１００℃で１０分間
熱処理をほどこしてあり、その厚さは約３０人程度であ
る。（６）はシランカップリング剤層（５）上にスピン
コード法などにより形成されたフッ素シランカップリン
グ剤からなる保護層で、塗布後、大気中で１００℃で６
０分間の熱処理をほどこしてあり、その厚さは、約４０
Ａである。

実施例２ 第２図は本発明の実施例２の磁気記録媒体を示す断面図
である。第２図において（１）はアルミ合金からなる厚
さが約１．９ｇｍの基板であり、（２）は基板（１）上
に形成されたＮ１−Ｐ合金からなる厚さが約１０ρの下
地層であり、（３）は主地層（ｚ上に形成されたＮ１−
Ｃｏ−Ｐ合金からなる厚さが約１８００人の磁性層であ
る。（４）は磁性層（３）上にスパッタ法、ＣＶＤ法、
ゾルゲル法またはＥ、８１１１法などにより形成された
酸化シリコンからなる厚さが約２０人の硬質層である。

また（６）は硬質層（４）上にスピンコード法またはデ
ィップコート法などにより形成されたフッ素系シランカ
ップリング材からなる保護層であり、塗布後、大気中に
おいて１００℃で６０分間の熱処理をほどこしあり、そ
の厚さは約３５人である。

実施例３ 第３図は本発明の実施例３の磁気記録媒体を示す断面図
である。第３図において′（１）はアルミ合金からなる
厚さが約１．９履の基板であり、（２）は基板（１）上
に形成されたＮ１−Ｐ合金からなる厚さが約１０虜の下
地層であり、（３）は下地層（ａ上に形成されたＮ１−
Ｃｏ−Ｐ合金からなる厚さが約７１３００人の磁性層で
ある。（５）は磁性層（３）上にスピンコード法または
ディップコートと法などによりにＢＨ６０３によって形
成されれたシランカップリング剤層で塗布後、大気中で
１００℃で１０分間熱処理をほどこしてあり、その厚さ
は、約３０人程度である。（６）はシランカップリング
剤層（５）上にスピンコード法またはディップコート法
などにより形成されたフッ素系シランカップリング剤か
らなる保護層で、塗布後、大気中で１００℃で６０分間
の熱処理をほことこしてあり、その厚さは約４０人であ
る。

実施例４ 第４図は本発明の実施例４の磁気記録媒体を示す断面図
である。第４図において（１）はアルミ合金からなる厚
さが約１．９履の基板であり、（２）は基板（１）上に
形成されたＮ１−Ｐ合金からなる厚さが約１０−の下地
層であり、（３）は下地層（ａ上に形成されたＮ１−Ｃ
ｏ−Ｐ合金からなる厚さが約１８００人の磁性層である
。（６）は磁性層（３）上にスピンコード法またはディ
ップコート法などにより形成されたフッ素系シランカッ
プリング剤からなる保護層で、塗布後人気中で１００℃
で６０分間の熱処理をほどこしてあり、その厚さは約３
０人である。

比較例１ フッ素系シランカップリング剤からなる保護層（６）に
替えてデュポン社製フッ素系潤滑剤である前記にＲＹＴ
ＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）による潤滑剤層を形成した以外
は実施例１と同様にして比較例１の磁気記録媒体を作製
した。

比較例２ フッ素系シランカップリング剤からなる保護層（０に替
えてデュポン社製フッ素系潤滑剤である前記にＲＹＴＯ
Ｘ　１５７ＦＳ（Ｈ）による潤滑剤層を形成した以外は
実施例２と同様にして比較例２の磁気記録媒体を作製し
た。

比較例３ フッ素系シランカップリング剤からなる保護層（６）に
替えてデュポン社製フッ素系潤滑剤である前記にＲＹＴ
ＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）による潤滑剤層を形成した以外
は実施例３と同様にして比較例３の磁気記録媒体を作製
した。

比較例４ フッ素系シランカップリング剤からなる保護層（６）に
替えてデュポン社製フッ素系潤滑剤である前記にＲＹＴ
ＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）による潤滑剤層を形成した以外
は実施例４と同様にして比較例４の磁気記録媒体を作製
した。

実施例５ 実施例１の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　ｔ
ｏｒｒの雰囲気中で２週間放置し実施例５の磁気記録媒
体とした。

実施例６ 実施例２の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　ｔ
ｏｒｒの雰囲気中で２週間放置し実施例６の磁気記録媒
体とした。

実施例７ 実施例３の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　ｔ
ｏｒｒの雰囲気中で２週間放置し実施例７の磁気記録媒
体とした。

実施例８ 実施例４の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　ｔ
ｏｒｒの雰囲気中で２週間放置し実施例８の磁気記録媒
体とした。

比較例５ 比較例１の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　ｔ
ｏｒｒの雰囲気中で２週間放置し比較例５の磁気記録媒
体とした。

比較例６ 比較例２の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　ｔ
ｏｒｒの雰囲気中で２週間放置し比較例６の磁気記録媒
体とした。

比較例７ 比較例３の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　ｔ
ｏｒｒの雰囲気中で２週間放置し比較例７の磁気記録媒
体とした。

比較例８　　。

比較例４の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　ｔ
ｏｒｒの雰囲気中で２週間放置し比較例８の磁気記録媒
体とした。

前記実施例１〜８と比較例１〜８とについて、磁気記録
媒体の信頼性を表わす接触始動・停止［コンタクト・ス
タート・ストップ（Ｃ３Ｓ）］試験をフェライトヘッド
を用いて行ないディスクの表面状態、走行状態および動
摩擦係数を調べた。また温度が６０℃で相対湿度が９０
％の恒温槽中に１週問および２″ａ間放置して磁気記録
媒体の耐食性の試験を行なった。また、温度６０℃、気
圧１　ｔｏｒｒの真空槽内で２週間放置したものについ
ても同様の実験をするとともに、それぞれにおける残存
フッ素１〜 量を反射ＦＴＩＲ法（ＲＡＳ法）を用いて（−ｒ−１３
３１〜１２３８０−１の吸収スペクトルを使用）ｌｌｌ
定した。測定法については、ｒ　ＩＥＥＥ　ＨＡＧ　１
９　、Ｎｏ、５、ＰＰ１６６２〜１６６４（１９８３）
Ｊに記載の方法に基づいて行なった。

第１表において「ｃｓｓ回数」とはＣ８Ｓ試験トラック
における最初の再生出力値とＣ８Ｓ試験中における再生
出力信号のピーク値の比（ｃｓｓ　トラックの再生出力
値／最初のＣ８Ｓ再生出力値）が０．８以下になるまで
のＣ８Ｓ試験回数を示しており、第１表におけるＣ３Ｓ
回数の値は比較例４のＣ８Ｓ回数に対する他の実茄例お
よび比較例でのＣ８Ｓ回数の比の値を示している。従っ
てこの数値が大きいものほど良好なＣ８Ｓ特性を示して
いる。

また第１表における「動摩擦係数」とは、ディスクとヘ
ッドとのあいだの相対速度がＯ，５ａＩＩ／ｓｅｃで摺
動したばあいの動摩擦力をヘッドディスク間にかかる荷
重で割った値を示しており、従って動摩擦係数が小さい
ほど良好な潤滑特性を示している。第１表においてはＣ
８Ｓ試験前の動摩擦係数と、Ｃ８Ｓ試験後の同一面位置
での動摩擦係数とを示している。

またディスクの表面状態とは、Ｃ８Ｓ試験後において磁
気記録媒体表面を倍率が５０倍の顕微鏡で観察したばあ
いに磁気記録媒体表面に傷が発生しているかいないかを
調べた結果を示しており、良好とは、傷の発生がなかっ
たことを示している。

また「摺動音」とはＣ８Ｓ試験中においてヘッドと磁気
記録媒体との間で発生する摩擦音の大きさの状態を示し
ている。

また「フッ素強度」とは磁気記録媒体の表面のフッ素量
を反射ＦＴＩＲ法（ＲＡＳ法）を用いて、測定した値で
フッ素系シランカップリング剤からなる保ＩＩＩの厚さ
またハＫＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）　（７）ＩＩ（
７）Ｊｌサニ対応している。すなわちフッ素強度が大き
いほどこれらの厚さは厚くなる。第１表においては、比
較例４の磁気記録媒体表面のフッ素強度の値に対する他
の比較例および実施例のフッ素強度の値の比を示してい
る。

第１表の結果から理解されるようにフッ素系シランカッ
プリング剤からなる保ｌ１層を形成した磁気記録媒体は
、潤滑剤層としてにＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）を使
用した磁気記録媒体と比較し低い動＊＊係数の値となっ
ており、Ｃ３Ｓ試験後においても動摩擦係数の値の著し
い変化はなく、Ｃ８Ｓ試験にともなう摺動音も微小であ
る。また、磁気記録媒体の表面状態も良好であって傷の
発生は観察されず、結果的にＣ８Ｓ試験結果も良好であ
った。

ところがにＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）を用いた磁気
記録媒体では良好な特性を示すものもあるが全体的にみ
て必ずしもよくない。とりわけ温度が６０℃で気圧が１
　ｔｏｒｒの真空槽中に２週間放置したばあいフッ素系
シランカップリング剤を用いた磁気記録媒体と比較し、
ＫＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）を用いた磁気記録媒体
は、Ｃ８Ｓ回数が低くなり、摺動音もやや大きくなり、
Ｃ８Ｓ試験後の動摩擦係数の増大も大きくなり、結果と
してＣ８Ｓ特性は良くなかった。

このことは、真空槽中に放置した磁気記録媒体の表面に
含有されるフッ素分子の数を示すフッ素強度の減少量が
、フッ素系シランカップリング剤とにＲＹＴＯＸ　１５
７ＦＳ（Ｈ）をくらべるとにＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（
Ｈ）の方が大きかったことからにＲＹＴＯＸ　１５７Ｆ
Ｓ（Ｈ）の分子の磁気記録媒体の基板への保持力がフッ
素系シランカップリング剤を使用したばあいの保持力よ
り弱く、とりわけ、シランカップリング材層の形成のな
い磁気記録媒体においては、著しく弱かったことによる
ものと思われる。いいかえると、フッ素系シランカップ
リング剤ＧＥ、ＫＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）よりも
磁性層（３）への吸着力が強いため、蒸発現象や飛散現
象による潤滑効果の劣化が小さかったように思われる。

恒温恒湿槽内での２週間の放置後の磁気記録媒体の表面
状態の観察結果はフッ素系シランカップリング剤を用い
た磁気記録媒体の方が、にＲＹＴＯＸ１５７ＦＳ（Ｈ）
を用いたものより変色または斑点の発生が少なかった。

このことはフッ素系シランカップリング剤を用いたもの
の方がにＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（）４）を用いたもの
より耐食性が優れていることによるものと思われる。

そして実施例１、実施例２、実施例５および実施例６に
おいて極めて良好なＣ８Ｓ特性および耐食性をえるため
にはフッ素系シランカップリング剤からなる保護層の厚
さを５〜１００人とするのがよい。また、実施例３およ
び実施例４において極めて良好なＣ８Ｓ特性および耐食
性をえるためにはフッ素系シランカップリング剤からな
る保Ｘ［の厚さを１０〜７０人とするのがよく、実施例
４および実施例８についてはフッ素系シランカップリン
グ剤からなる保護層の厚さを２５〜７０人とするのがよ
い。

またＣ３Ｓ特性を良好に保持することだけを考慮し耐食
性の保持を考慮しないばあいにはフッ素系シランカップ
リング剤の保護層の厚さは前記最低膜厚の６ｖ１程度で
あれば充分なＣ８Ｓ特性を保持できる。

そしてこれらの条件では、磁性層（３）上に形成された
各層の合成の厚さが薄いのでスペーシングロスの影響が
少なく再生特性を良好に保持できる。

実施例９ 第５図は本発明の実施例９の磁気記録媒体を示す断面図
である。（１ａ）はアルミ合金からなる厚さが約１．ｈ
ｗの基板であり、（２ａ）は基板（１ａ）上に形成され
たＮ１−Ｃｕ−Ｐ合金からなる厚さが約１０４の下地層
であり、（３ａ）は下地１　（２ａ）上に形成されたγ
−Ｆｅ２Ｏ３からなる厚さが約１８００への磁性層であ
り、（４ａ）は磁性層（３ａ）上にスパッタ法、ＣＶＤ
法、ゾルゲル法またはＥ、Ｂ蒸着法などにより形成され
た酸化シリコンからなる厚さが約１５０人の硬質層であ
る。また（５ａ）は硬質層（４ａ）上にスピンコード法
またはディップコート法などによりにＢＨ６０３を用い
て形成されたシランカップリング剤層で塗布後、大気中
で１００℃で１０分間の熱処理をほどこしてあり、その
厚さは、約３０Ａ程度である。（６ａ）はシランカップ
リング剤１１　（５ａ）上にスピンコード法またはディ
ップコートなどにより形成されたフッ素系シランカップ
リング剤からなる保護層で、塗布後、大気中で１００℃
で６０分間の熱処理を施してあり、その厚さは約４０人
である。

実施例１０ 第６図は本発明の実施例１０の磁気記録媒体を示す断面
図である。第６図において（１ａ）はアルミ合金からな
る厚さが約１．９厘基板であり、（２ａ）は基板（１ａ
）上に形成されたＮ１−Ｃｕ−Ｐ合金からなる厚さが約
１０卓の下地層であり、（３ａ）は下地層（２ａ）上に
形成されたγ−ｒｅ２ｏ３からなる厚さが約１８００人
の磁性層である。（４ａ）は磁性層（３ａ）上にスパッ
タ法、ＣＶＤ法、ゾルゲル法またはＥ、Ｂ蒸着法などに
より形成された酸化シリコンからなる厚さが約１５０人
の硬質層である。（６ａ）は硬質ＩＩ　（４ａ）上にス
ピンコード法またはディップコート法などにより形成さ
れたフッ素系シランカップリング剤からなる保護層で、
塗布後、大気中で１００℃で６０分間の熱処理を施して
あり、その厚さは約３５人である。

実施例１１ 第７図は本発明の実施例１１の磁気記録媒体を示す断面
図である。第７図において（１ａ）はアルミ合金からな
る厚さが約Ｌ！３ｍの基板であり、（２ａ）は基板（１
ａ）上に形成されたＮ１−Ｃｕ−Ｐ合金からなる厚さが
約１０Ｉの下地層であり、（３ａ）は下地層（２ａ）上
に形成されたγ−Ｆｅ２Ｏ３からなる厚さが約１８００
人の磁性層である。また（５ａ）は硬質層（３ａ）上に
スピンコード法またはディップコート法などによりにＢ
Ｈ６０３を用いて形成されたシランカップリング剤層で
あり、塗布後、大気中で１００℃で１０分間の熱処理を
ほどこしてあり、その厚さは、約３０Ａ程度である。　
（６ａ）はシランカップリング剤層（５ａ）上にスピン
コード法またはディップコート法などにより形成された
フッ素系シランカップリング剤からなる保護層で、塗布
後、大気中で１００℃で６０分間の熱処理をほどこして
あり、その厚さは約４０人である。

実施例１２ 第８図は本発明の実施例１２の磁気記録媒体を示す断面
図である。第１２図において（１ａ）はアルミ合金から
なる厚さが約１．９ｇの基板であり、（２ａ）は基板（
１ａ）上に形成されたＸｌ−Ｃｕ−Ｐ合金からなる厚さ
が約１０１Ａの下地層であり、（３ａ）は下地１　（２
ａ）上に形成されたγ−Ｆｅ２Ｏ３からなる厚さが約１
８００Ａの磁性層である。（６ａ）は磁性層（３ａ）上
にスピンコード法またはディップコート法などにより形
成されたフッ素系シランカップリング剤からなる保護層
で、塗布後、大気中で１００℃で６０分間の熱処理をほ
どこしてあり、その厚さは約２５人である。

比較例９ フッ素系シランカップリング剤からなる保′ｆ！！１ｌ
（６ａ）に替えてデュポン社製フッ素系潤滑剤である前
記にＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）による潤滑剤層を形
成した以外は実施例９と同様にして比較例９の磁気記録
媒体を作製した。

比較例１０ フッ素系シランカップリング剤からなる保護層（６ａ）
に替えてデュポン社製フッ素系潤滑剤である前記にＲＹ
ＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）による潤滑剤層を形成した以
外は実施例１０と同様にして比較例１０の磁気記録媒体
を作製した。

比較例１１ フッ素系シランカップリング剤からなる保護層（６ａ）
に替えてデュポン社製フッ素系潤滑剤である前記にＲＹ
ＴＯＸ　１５７ＦＳ（１４）による潤滑剤層を形成した
以外は実施例１１と同様にして比較例１１の磁気記録媒
体を作製した。

゛比較例１２ フッ素系シランカップリング剤からなる保：！！層（６
ａ）に替えてデュポン社製フッ素系潤滑剤である前記Ｋ
ＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）　ニよルｒＩＩ滑剤層を
形成した以外は実施例１２と同様にして比較例１２の磁
気記録媒体を作製した。

実施例１３ 実施例９の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　ｔ
ｏｒｒの雰囲気中で２週間放置した実施例１３の磁気記
録媒体とした。

実施例１４ 実施例１０の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　
ｔｏｒｒの雰囲気中で２週間放置した実施例１４の磁気
記録媒体とした。

実施例１５ 実施例１１の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　
ｔｏｒｒの雰囲気中で２週間放置した実施例１５の磁気
記録媒体とした。

実施例１６ 実施例１２の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　
ｔｏｒｒの雰囲気中で２週間放置した実施例１６の磁気
記録媒体とした。

比較例１３ 比較例９の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　ｔ
ｏｒｒの雰囲気中で２週間放置した比較例１３の磁記録
媒体とした。

比較例１４ 比較例１０の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１℃
ｏｒｒの雰囲気中で２３！！間放置した比較例１４の磁
気記録媒体とした。

比較例１５ 比較例１１の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧が１　
ｔｏｒｒの雰囲気中で２週間放置した比較例１５の磁気
記録媒体とした。

比較例１６ 比較例１２の磁気記録媒体を温度が６０℃で気圧がｉ　
ｔｏｒｒの雰囲気中で２週間放置した比較例１６の磁気
記録媒体とした。

前記実施例９〜１６と比較例９〜１６とについて、磁気
記録媒体の信頼性を表わす接触始動・停止［コンタクト
・スタート・ストップ（Ｃ３Ｓ）］試験をフェライトヘ
ッドを用いて行ないディスクの表面状態、走行状態およ
び動摩擦係数を調べた。また温度が６０℃で相対湿度が
９０％の恒温槽中に１週問および２週間放置して磁気記
録媒体の耐食性の試験を行なった。また、温度６０℃、
気圧１　ｔｏｒｒの真空槽内で２週間放置したものにつ
いても同様の実験をするとともに、それぞれにおける残
存フッ素量を反射ＦＴＩＲ法（ＲＡＳ法）を用いてらシ
１３３１〜１２３８０１−１の吸収スペクトルを使用）
測定した。こ゛・と、：４．＝′ 第２表に示すＣ３Ｓ回数は比較例１２の磁気記録媒体の
Ｃ３Ｓ回数を１としたときにおけるこの回数値に対する
だの実施例および比較例のＣ８Ｓ回数の値のの比で示し
ている。またフッ素強度についても比較例１２の磁気記
録媒体のフッ素強度を１としたときのこの強度値に対す
る他の実施例および比較例のフッ素強度値の比で示して
いる。

第２表の結果から理解されるようにフッ素系シランカッ
プリング剤の保：１層を形成した磁気記録媒体は、潤滑
剤層としてＫＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）を使用した
磁気記録媒体と比較し低い動摩擦係数の値となっており
、Ｃ８Ｓ試験後においても動摩擦係数の値の著しい変化
はなく、Ｃ８Ｓ試験にともなう摺動音も微小である。ま
た、磁気記録媒体の表面状態も良好であって傷の発生は
観察されず、結果的にＣ８Ｓ試験結果も良好であった。

ところがにＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）を用いた磁気
記録媒体では良好な特性を示すものもあるが全体的にみ
て必ずしもよくない。とりわけ温度が６０℃で気圧が１
　ｔｏｒｒの真空槽中に２週間放置したばあいフッ素系
シランカップリング剤を用いた磁気記録媒体と比較し、
にＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）を用いた磁気記録媒体
は、Ｃ３Ｓ回数が低くなり、摺動音もやや大きくなり、
Ｃ８Ｓ試験後の動摩擦係数の増大も大きくなり、結果と
してＣ８Ｓ特性は良くなかった。このことは、真空槽中
に放置した磁気記録媒体の表面に含有されるフッ素分子
の数を示すフッ素強度の減少量が、フッ素系シランカッ
プリング剤とＫＲＹＴＯＸ１５７ＦＳ（Ｈ）をくらべる
と ＫＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）　＋７）方が大きかっ
たことからにＲＹＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）の分子の磁
気記録媒体の基板への保持力がフッ素系シランカップリ
ング剤を使用したばあいの保持力より弱く、とりわけ、
シランカップリング材層の形成のない磁気記録媒体にお
いては、著しく弱かったことによるものと思われる。い
いかえると、フッ素系シランカップリング剤は、にＲＹ
ＴＯＸ　１５７ＦＳ（Ｈ）よりも磁性層（３ａ）への接
着力が強いため、蒸発現象や、飛散現象による潤滑効果
の劣化が小さかったように思われる。

恒温恒湿槽内での２週間の放置後の磁気記録媒体の表面
状態の観察結果はフッ素系シランカップリング剤を用い
た磁気記録媒体および、にＲＹＴＯＸ１５７ＦＳ（Ｍ）
を用いた磁気記録媒体ともに、変色または斑点の発生は
なかった。このことは磁性層の成分であるγ−Ｆｅ２Ｏ
３に充分な耐食性があることによるものと思われる。

さらに実施例９、実施例１０、実施例１３および実施例
１４において、極めて良好なＣ８Ｓ特性および耐食性を
えるためには、フッ素系シランカップリング剤からなる
保護層の厚さを３〜１００人とするのがよい。また、実
施例１１および実施例１５においては、保護層の厚さを
６〜７０人とするのがよく、実施例１２および実施例１
６については保護層の厚さを１５〜７０人とするのがよ
い。そしてこれらの条件では、磁性層（３ａ）上に形成
された各層の合成の厚さが薄いのでスペーシングロスの
影響が少なく再生特性を良好に保持できる。

［発明の効果］ 以上のように本発明に係る磁気記録媒体は基板上に磁性
層を形成しその表面にフッ素系シランカップリング剤か
らなる保：！層を形成し、磁性層に接着反応させること
により、または磁性層上にシランカップリング剤層を形
成して磁性層に接着反応させた後、さらにその上にフッ
素系シランカップリング剤からなる保Ｉｔ層を形成しこ
れと前記シランカップリング剤層表面部と反応させるこ
とにより、または磁性層表面上に酸化シリコンなどから
なる硬質層を形成しその表面上にフッ素系シランカップ
リング剤からなる保護層を形成することまたはシランカ
ップリング剤層とフッ素系シランカップリング剤からな
る保護層を形成することにより、保ｉｌｌの成分である
フッ素系シランカップリング剤が磁気記録媒体の前記磁
性層、シランカップリング剤および硬質層との接着力が
強いため、保護層の厚さが薄くても保護層の成分の飛散
や蒸発がほとんど生じず、充分な機械的耐°久性を有す
るとともに充分な撥水性を有することができ、また磁性
層上に形成される層の合計の膜厚を薄くできるので磁性
層と磁気ヘッドとのスペーシングロスが少なく、磁気記
録媒体の再生特性を良好に保持できる。そして、このた
め耐久性および耐食性に優れたかつ再生出力が低下しな
い磁気記録媒体がえられる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例１に係る磁気記録媒体の断面図
、第２図は本発明の実施例２に係る磁気記録媒体の断面
図、第３図は本発明の実施例３に係る磁気記録媒体の断
面図、第４図は本発明の実施例４に係る磁気記録媒体の
断面図、第５図は本発明の実施例９に係る磁気記録媒体
の断面図、第６図は本発明の実施例１０に係る磁気記録
媒体の断面図、第７図は本発明の実施例１１に係る磁気
記録媒体の断面図、第８図は本発明の実施例１２に係る
磁気記録媒体の断面図である。 （図面の主要符号） （３）、（３ａ）　：磁性層 （４）、（４ａ）　：硬質層 （５）、（５ａ）　ニジランカップリング剤層（６）、
（６ａ）　：保護層 ６：保護層

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）磁性層上にフッ素系シランカップリング剤からな
   る保護層が形成されている磁気記録媒体。
2. （２）前記磁性層と前記保護層との間にシランカップリ
   ング剤層が形成されている特許請求の範囲第１項記載の
   磁気記録媒体。
3. （３）前記磁性層と前記保護層との間に硬質層が形成さ
   れている特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。
4. （４）前記磁性層と前記シランカップリング剤層との間
   に硬質層が形成されている特許請求の範囲第２項記載の
   磁気記録媒体。