JPS63223702A - 光学部品 - Google Patents
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- JPS63223702A JPS63223702A JP5939287A JP5939287A JPS63223702A JP S63223702 A JPS63223702 A JP S63223702A JP 5939287 A JP5939287 A JP 5939287A JP 5939287 A JP5939287 A JP 5939287A JP S63223702 A JPS63223702 A JP S63223702A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 60
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 46
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 46
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 52
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 abstract description 40
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 39
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 28
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 13
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 abstract description 4
- 239000012788 optical film Substances 0.000 abstract description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000013461 design Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 6
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- -1 5i02 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004366 ThF4 Inorganic materials 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910001635 magnesium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011017 operating method Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052950 sphalerite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、偏光ビームスプリッタ−、ビームスプリッタ
−等、複数ケの基板を接合して成る光学部品の接着工程
による特性劣化を改善するものである。
−等、複数ケの基板を接合して成る光学部品の接着工程
による特性劣化を改善するものである。
従来の技術
最近の情報化社会の発展は著しく、それに伴ない大容量
の記録媒体並びに記録再生方式の必要性が高まっており
、一部民にレーザーディスク、文書ファイル装置等が実
用化されて■る。従来この種の光学ヘッドの光学系は、
例えば第4図のような構成である0すなわち、光源であ
る半導体レーザ1から出たP偏光の光束2は、コリメー
タレンズ3によって平行光4となり偏光ビームスプリッ
タ−6、全反射ミラー6、樋波長板7、絞りレンイ8を
通って光ディスクのトラック9上に光束10のように集
束される。トラックeからの反射光束は再び絞りレンズ
8、全反射ミラー7を経てS偏光となり偏光ビームスグ
リツタ−6で反射する。
の記録媒体並びに記録再生方式の必要性が高まっており
、一部民にレーザーディスク、文書ファイル装置等が実
用化されて■る。従来この種の光学ヘッドの光学系は、
例えば第4図のような構成である0すなわち、光源であ
る半導体レーザ1から出たP偏光の光束2は、コリメー
タレンズ3によって平行光4となり偏光ビームスプリッ
タ−6、全反射ミラー6、樋波長板7、絞りレンイ8を
通って光ディスクのトラック9上に光束10のように集
束される。トラックeからの反射光束は再び絞りレンズ
8、全反射ミラー7を経てS偏光となり偏光ビームスグ
リツタ−6で反射する。
この反射光11を利用してフォーカシングエラー信号検
出、トラッキングエラー信号検出およびRF信号検出を
行なう構成である。前記のような光学ヘッドに用いる偏
光ビームスプリッタ−5ハ、P偏光とS偏光とを高効率
で分離することと同時に高伝達率が要求される。このよ
うな偏光ビームスプリッタ−5は、第6図に示すように
、所定形状に加工されたプリズム12.13の、一方の
プリズム12のある面14に、高屈折率の誘電体物質と
低屈折率の誘電体物質とが真空蒸着等により交互に積層
された光学多層膜16が形成されている。
出、トラッキングエラー信号検出およびRF信号検出を
行なう構成である。前記のような光学ヘッドに用いる偏
光ビームスプリッタ−5ハ、P偏光とS偏光とを高効率
で分離することと同時に高伝達率が要求される。このよ
うな偏光ビームスプリッタ−5は、第6図に示すように
、所定形状に加工されたプリズム12.13の、一方の
プリズム12のある面14に、高屈折率の誘電体物質と
低屈折率の誘電体物質とが真空蒸着等により交互に積層
された光学多層膜16が形成されている。
その後、プリズム12とプリズム13とを接着剤1eで
接合して、所望の特性を得るものである。
接合して、所望の特性を得るものである。
前記の光学多層膜15は、高屈折率の誘電体物質として
TiO2、ZrO2、ZnS 、 ZnTiO4、Ta
205゜CeO2、Th02、低屈折物質の誘電体物質
としては、MgF2 、5i02 、 ThF4. N
a5ム711F6等の中より用途により、種々選出する
が物理的、化学的に安定であるTiO2とSiO2の組
合せが一般的である。
TiO2、ZrO2、ZnS 、 ZnTiO4、Ta
205゜CeO2、Th02、低屈折物質の誘電体物質
としては、MgF2 、5i02 、 ThF4. N
a5ム711F6等の中より用途により、種々選出する
が物理的、化学的に安定であるTiO2とSiO2の組
合せが一般的である。
第6図に従来の偏光ビームスプリッタ−6の構成図を示
す。プリズム12.13は屈折率が約1.61であシ、
光学多層膜16部は、高屈折率物質HとしてTiO2、
低屈折率物質りとして5102を用い、プリズム12か
ら数えて奇数層がTiO2゜偶数層が5in2であり、
第1層、第3層、第17層、第19層の光学的膜厚が0
.77λo/4(λ0は設計基準波長)で前記以外の各
層の光学的膜厚はλo/4 の19層交互多層膜である
。
す。プリズム12.13は屈折率が約1.61であシ、
光学多層膜16部は、高屈折率物質HとしてTiO2、
低屈折率物質りとして5102を用い、プリズム12か
ら数えて奇数層がTiO2゜偶数層が5in2であり、
第1層、第3層、第17層、第19層の光学的膜厚が0
.77λo/4(λ0は設計基準波長)で前記以外の各
層の光学的膜厚はλo/4 の19層交互多層膜である
。
前記の接着剤16は熱硬化型、紫外線硬化型等が種々開
発されているが、それぞれに長所、欠点を持っている。
発されているが、それぞれに長所、欠点を持っている。
熱硬化型接着剤を用いた場合の作業手順について、第7
図を用いて説明する。光学多層膜16が形成されたプリ
ズム12を接着治具20のホルダ一部21上にセットし
、光学多層膜16上に熱硬化型接着剤161Lを塗布し
、その上にプリズム13をのせ、プリズム12とプリズ
ム13とを所定形状に成るよう位置合せを行なうと同時
にバネ22で加圧する。その後、前記状態のまま、オー
プン等で加熱する。加熱温度、加熱時間は、接着剤の種
類などによって適宜選択することは勿論である。
図を用いて説明する。光学多層膜16が形成されたプリ
ズム12を接着治具20のホルダ一部21上にセットし
、光学多層膜16上に熱硬化型接着剤161Lを塗布し
、その上にプリズム13をのせ、プリズム12とプリズ
ム13とを所定形状に成るよう位置合せを行なうと同時
にバネ22で加圧する。その後、前記状態のまま、オー
プン等で加熱する。加熱温度、加熱時間は、接着剤の種
類などによって適宜選択することは勿論である。
発明者らが試みた接着剤では、80℃に2時間程度放置
することで3okg/d以上の引張剪断力が得られた。
することで3okg/d以上の引張剪断力が得られた。
その後、冷却し、接着治具から取外して、偏光ビームス
プリッタ−6が得られる。
プリッタ−6が得られる。
次に紫外線硬化型接着剤を用いる場合の作用手順につい
て説明する。前記の熱硬化型を用いる場合と同様に、プ
リズム12を接着治具20のホルダ一部21上にセット
し、光学多層膜16上に紫外線硬化型接着剤16bを塗
布し、その上にプリズム13をのせ、プリズム12と1
3とを所定形状に成るように位置合せを行なうと同時に
バネ22で加圧する。その後、発明者らが試みた接着剤
の場合、0.1!IIW/(?l11の紫外線強度で約
10秒程度、紫外線を接合部に照射してプリズム12と
プリズム13との仮固定を行なう。(仮固定とは、プリ
ズム12.13を引張っても動かなくなる程度)その後
、接着治具20によりプリズム12と13とが接合して
成る偏光ビームスプリッタ−5を取出す。この時点で、
プリズム12とプリズム13との位置ズレ、および接着
剤層部の気泡が発生状態をチェックする0位置ズレおよ
び気泡が発生した場合は、ジメチルホルムアミド等の溶
液中に入れ、80℃に加熱すると約10分根度でプリズ
ム12とプリズム13とに分割できる。位置ズレ、気泡
等がなく良好の場合は、接合面に1mw/dの紫外線で
約10分根度で3okg/d以上の引張剪断強度を有す
る接合ができ、偏光ビームスプリッタ−6が完成する。
て説明する。前記の熱硬化型を用いる場合と同様に、プ
リズム12を接着治具20のホルダ一部21上にセット
し、光学多層膜16上に紫外線硬化型接着剤16bを塗
布し、その上にプリズム13をのせ、プリズム12と1
3とを所定形状に成るように位置合せを行なうと同時に
バネ22で加圧する。その後、発明者らが試みた接着剤
の場合、0.1!IIW/(?l11の紫外線強度で約
10秒程度、紫外線を接合部に照射してプリズム12と
プリズム13との仮固定を行なう。(仮固定とは、プリ
ズム12.13を引張っても動かなくなる程度)その後
、接着治具20によりプリズム12と13とが接合して
成る偏光ビームスプリッタ−5を取出す。この時点で、
プリズム12とプリズム13との位置ズレ、および接着
剤層部の気泡が発生状態をチェックする0位置ズレおよ
び気泡が発生した場合は、ジメチルホルムアミド等の溶
液中に入れ、80℃に加熱すると約10分根度でプリズ
ム12とプリズム13とに分割できる。位置ズレ、気泡
等がなく良好の場合は、接合面に1mw/dの紫外線で
約10分根度で3okg/d以上の引張剪断強度を有す
る接合ができ、偏光ビームスプリッタ−6が完成する。
発明が解決しようとする問題点
前記のように、熱硬化型接着剤を用いた方法では、
(1)プリズム13.14間に塗布した熱硬化型接着剤
が加圧、加熱されることにより、接着剤の粘度が低くな
りプリズム13と接着治具20との間に流込み、プリズ
ム13と接着治具20とが接着されて、取外しが困難で
あるばかりか、プリズム13が破損することもある。
が加圧、加熱されることにより、接着剤の粘度が低くな
りプリズム13と接着治具20との間に流込み、プリズ
ム13と接着治具20とが接着されて、取外しが困難で
あるばかりか、プリズム13が破損することもある。
(2)治具でプリズム12.13とを位置合せした状態
で加熱するため、治具に熱応力、熱膨張が発生し、プリ
ズム12.13の位置ズレを起し易い。
で加熱するため、治具に熱応力、熱膨張が発生し、プリ
ズム12.13の位置ズレを起し易い。
(3)接着時に気泡等が発生すると再生が困難である。
(4)接着剤の種類によシ多少異なるが、一般的に紫外
線硬化型に比べ硬化時間を長く必要とする。
線硬化型に比べ硬化時間を長く必要とする。
上記の熱硬化型に比艮紫外線硬化型を用いた方法では、
(1)仮固定の状態で接着治具2oから偏光ビームスプ
リッタ−6を取出すため、取外しが容易でありプリズム
12.13の破損が少ない。
リッタ−6を取出すため、取外しが容易でありプリズム
12.13の破損が少ない。
(2)接着治具を加熱する必要がない為、プリズム12
.13の位置ズレの発生が起りにくい。仮固定の状態で
位置ズレ、気泡の発生等を検査可能であり、仮に位置ズ
レ、気泡が発生しても容易に再生することができる。
.13の位置ズレの発生が起りにくい。仮固定の状態で
位置ズレ、気泡の発生等を検査可能であり、仮に位置ズ
レ、気泡が発生しても容易に再生することができる。
(3)接着治具2oは、仮固定までしか使わないため、
治具の回転効率が高い。
治具の回転効率が高い。
以上のように、紫外線硬化型接着剤を用いた場合、熱硬
化型接着剤を用いる場合に比べ、作業性。
化型接着剤を用いる場合に比べ、作業性。
作業効率の面で多くの長所を持っている。
しかし、紫外線硬化型接着剤を用いて紫外線を照射して
接合させると以下のような欠点があった。
接合させると以下のような欠点があった。
第8図に従来の偏光ビームスプリッタ−6の分光透過率
特性を示す。横軸は波長(単位:nm)であり、縦軸は
透過率(単位:チ)である。
特性を示す。横軸は波長(単位:nm)であり、縦軸は
透過率(単位:チ)である。
31はシュミレーションによるP偏光の分光透過率特性
を示し、32はシュミレーションによるS偏光の分光透
過率特性を示す。入射角は45−設計基準波長λ0は8
851mである。33は前記偏光ビームスプリッタ−5
を紫外線硬化型接着剤を用いて、1mw/dの紫外線を
10分間照射して接合した後の、P偏光の分光透過率特
性を示し、34は接合後のS偏光の分光透過率特性を示
す0 上記のように、使用波長800nuにおいて、P偏光の
透過率は、接合後85%と大幅な透過率劣化が発生した
。光学多層膜の製造時の透過率劣化でない事は、仮固定
時(o、1mw/dの紫外線で約10秒程度照射)でシ
ュミレーション特性と同等である事を確認している。
を示し、32はシュミレーションによるS偏光の分光透
過率特性を示す。入射角は45−設計基準波長λ0は8
851mである。33は前記偏光ビームスプリッタ−5
を紫外線硬化型接着剤を用いて、1mw/dの紫外線を
10分間照射して接合した後の、P偏光の分光透過率特
性を示し、34は接合後のS偏光の分光透過率特性を示
す0 上記のように、使用波長800nuにおいて、P偏光の
透過率は、接合後85%と大幅な透過率劣化が発生した
。光学多層膜の製造時の透過率劣化でない事は、仮固定
時(o、1mw/dの紫外線で約10秒程度照射)でシ
ュミレーション特性と同等である事を確認している。
また、接合後800nllにおけるP偏光の反射率を測
定したが、反射率は1%以下であり、接着剤層が光の干
渉効果に関るものではない。800nmでのS偏光反射
率も90%であった。
定したが、反射率は1%以下であり、接着剤層が光の干
渉効果に関るものではない。800nmでのS偏光反射
率も90%であった。
そこで、膜構成の異なるフィルターについて行なった。
2レーザ光ヘツドの構成部品の1つである、λ1のS偏
光の光は反射し、P偏光の光は透過すると同時に、λ2
のP偏光およびS偏光の光を透過させる機能を有する偏
光ビームスプリッタ−兼2波長分離フィルターの検討結
果を第7図に示す。プリズムの屈折率が1.51であり
、光学多層膜部は、高屈折率物質HがTiO2、低屈折
率物質すが8102から成る29層の交互多層膜であり
、奇数層がTiO2、偶数層が8102である。第1層
。
光の光は反射し、P偏光の光は透過すると同時に、λ2
のP偏光およびS偏光の光を透過させる機能を有する偏
光ビームスプリッタ−兼2波長分離フィルターの検討結
果を第7図に示す。プリズムの屈折率が1.51であり
、光学多層膜部は、高屈折率物質HがTiO2、低屈折
率物質すが8102から成る29層の交互多層膜であり
、奇数層がTiO2、偶数層が8102である。第1層
。
第29層は0.54λo/4(λ0は設計基準波長)で
第3層、第27層は0.82λo/4.第6層、第25
層は1.08λo/4.第7層、第23層は0.89λ
o/4.第9層、第21層は1.03λo/4で前記以
外の各層λg/4である。入射角は66°、設計基準波
長λ0は8401m1である。
第3層、第27層は0.82λo/4.第6層、第25
層は1.08λo/4.第7層、第23層は0.89λ
o/4.第9層、第21層は1.03λo/4で前記以
外の各層λg/4である。入射角は66°、設計基準波
長λ0は8401m1である。
第9図において、41はシュミレーションによるP偏光
の分光透過率特性を示し、42はシュミレーションによ
るS偏光の分光透過率特性を示す。
の分光透過率特性を示し、42はシュミレーションによ
るS偏光の分光透過率特性を示す。
43は前記、偏光ビームスプリッタ−兼2波長分離フィ
ルターを紫外線硬化型接着剤を用いて、1mw/dの紫
外線を10分間照射して接合した後のP偏光の分光透過
率特性を示し、44は接合後のS偏光の分光透過率特性
を示す。
ルターを紫外線硬化型接着剤を用いて、1mw/dの紫
外線を10分間照射して接合した後のP偏光の分光透過
率特性を示し、44は接合後のS偏光の分光透過率特性
を示す。
P偏光のλ1 ==7 s On II +λ2=as
onmにおける接合後の透過率は85%程度に、また、
S偏光のλ2=aaonmにおける接合後の透過率は7
5%程度まで劣化している。
onmにおける接合後の透過率は85%程度に、また、
S偏光のλ2=aaonmにおける接合後の透過率は7
5%程度まで劣化している。
光学ヘッドの光学系は、半導体レンズ、コリメータレン
ズ、純波長板、偏光ビームスプリッタ−1偏光ビームス
プリッタ−兼2波長分離フィルター等の光学部品が、保
持基板上に配設される。この際、偏光ビームスプリッタ
−1偏光ビームスプリッタ−兼2波長分離フィルターと
保持基板とは接着により固定されるのが一般的である。
ズ、純波長板、偏光ビームスプリッタ−1偏光ビームス
プリッタ−兼2波長分離フィルター等の光学部品が、保
持基板上に配設される。この際、偏光ビームスプリッタ
−1偏光ビームスプリッタ−兼2波長分離フィルターと
保持基板とは接着により固定されるのが一般的である。
この接着作業においても、前記で接着剤16と同様に、
紫外線硬化型接着剤を使用する効果は大である。
紫外線硬化型接着剤を使用する効果は大である。
しかし、熱硬化型接着剤を用いてプリズム12と13を
接着した偏光ビームスプリッタ−や偏光ヒームスフリッ
ター兼2波長分離フィルターヲ前記保持基板上に紫外線
硬化型接着剤を用いて紫外線を照射した場合でも、透過
率特性の劣化が発生した。
接着した偏光ビームスプリッタ−や偏光ヒームスフリッ
ター兼2波長分離フィルターヲ前記保持基板上に紫外線
硬化型接着剤を用いて紫外線を照射した場合でも、透過
率特性の劣化が発生した。
以上のように、光学多層膜にTiO2を用いた光学部品
に紫外線を照射すると透過率特性が劣化する欠点があり
、光学ヘッド等のように伝達効率が機器性能に影響を与
える光学部品の接着には不向きであった。
に紫外線を照射すると透過率特性が劣化する欠点があり
、光学ヘッド等のように伝達効率が機器性能に影響を与
える光学部品の接着には不向きであった。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決する本発明の技術的な手段は、光学多
層膜上の接着剤との界百部にAl2Osから成る保護膜
を形成することである〇 作用 一 本発明は、上記の保護膜を形成する事により、光学多層
膜の形成されたプリズムと、他のプリズムとを紫外線硬
化型接着剤を用いて接着しても、透過率特性劣化の少な
い光学部品が得られる。
層膜上の接着剤との界百部にAl2Osから成る保護膜
を形成することである〇 作用 一 本発明は、上記の保護膜を形成する事により、光学多層
膜の形成されたプリズムと、他のプリズムとを紫外線硬
化型接着剤を用いて接着しても、透過率特性劣化の少な
い光学部品が得られる。
実施例
光学多層膜の構成物質を考慮することによシ、紫外線照
射による特性劣化は防止できるが、TiO2は高屈折率
、化学的物理的に安定である等の理由により、発明者ら
は光学多層膜の高屈折率物質層としてTiO2を用いた
光学部品を、紫外線を照射しても膜特性劣化を防止する
検討を行なった。その結果、光学多層膜の上部にム1r
20sから成る保護膜を形成する事で、紫外線を照射し
ても膜特性劣化が減少できることを見出した。
射による特性劣化は防止できるが、TiO2は高屈折率
、化学的物理的に安定である等の理由により、発明者ら
は光学多層膜の高屈折率物質層としてTiO2を用いた
光学部品を、紫外線を照射しても膜特性劣化を防止する
検討を行なった。その結果、光学多層膜の上部にム1r
20sから成る保護膜を形成する事で、紫外線を照射し
ても膜特性劣化が減少できることを見出した。
第1図に本発明の偏光ビームスプリッタ−の構成図を示
す。従来の偏光ビームスプリッタ−5と同様に、屈折率
1.61から成るプリズム12上に、高屈折率物質Hと
してTiO2、低屈折率物質りとして5102を用い、
プリズム12から数えて奇数層をTiO2、偶数層を8
102とし19層積層する。
す。従来の偏光ビームスプリッタ−5と同様に、屈折率
1.61から成るプリズム12上に、高屈折率物質Hと
してTiO2、低屈折率物質りとして5102を用い、
プリズム12から数えて奇数層をTiO2、偶数層を8
102とし19層積層する。
第1層、第3層、第17層、第19層の光学的膜厚はo
、77λa /4で前記以外の各層の光学的膜厚はλo
/4である。光学多層膜16の上部には、ムe203の
物質から成る保護膜6oが光学的膜厚λ、/4が形成さ
れ、紫外線硬化型接着剤16−aを介して、プリズム1
2と13とが接合されている。
、77λa /4で前記以外の各層の光学的膜厚はλo
/4である。光学多層膜16の上部には、ムe203の
物質から成る保護膜6oが光学的膜厚λ、/4が形成さ
れ、紫外線硬化型接着剤16−aを介して、プリズム1
2と13とが接合されている。
第3図に本発明の偏光ビームスプリッタ−のシュミレー
ションによる分光透過率特性と紫外線硬化型接着剤を用
いて接着した後の分光透過率特性を示す。入射角は46
°であり、設計基準波長λ0は885nllである。
ションによる分光透過率特性と紫外線硬化型接着剤を用
いて接着した後の分光透過率特性を示す。入射角は46
°であり、設計基準波長λ0は885nllである。
第3図において、61はシュミレーションによるP偏光
の分光透過率特性を示し、62はシュミレーションによ
るS偏光の分光透過率特性を示す。
の分光透過率特性を示し、62はシュミレーションによ
るS偏光の分光透過率特性を示す。
本発明では光学多層膜の上部にAl2Osを形成してい
るが、従来の偏光ビームスプリッタ−の分光透過率特性
に比べても、はとんど大差なく実現できている。
るが、従来の偏光ビームスプリッタ−の分光透過率特性
に比べても、はとんど大差なく実現できている。
63は本発明の偏光ビームスプリッタ−を紫外線硬化型
接着剤を用いて1 mw/dの紫外線で10分間照射し
て接合した後のP偏光の分光透過率特性を示し、54は
接合後のS偏光の分光透過率特性を示す。波長800n
mにおいて、P偏光の透他率は、接合後においても99
チ以上を確保しており、紫外線照射による特性劣化は大
幅に減少している。
接着剤を用いて1 mw/dの紫外線で10分間照射し
て接合した後のP偏光の分光透過率特性を示し、54は
接合後のS偏光の分光透過率特性を示す。波長800n
mにおいて、P偏光の透他率は、接合後においても99
チ以上を確保しており、紫外線照射による特性劣化は大
幅に減少している。
また、soonmにおけるS偏光の反射率を測定した結
果、99チ以上を確保していた。以上のように光学多層
膜の上部に五120sから成る保護層50を設けた効果
は大である。
果、99チ以上を確保していた。以上のように光学多層
膜の上部に五120sから成る保護層50を設けた効果
は大である。
次に、膜構成の異なるフィルターについても、前記の効
果を確認した。2レーザ光ヘツドの構成部品の1つであ
シ、λ1のS偏光の光は反射しP偏光の光は透過すると
同時に、λ2のP偏光およびS偏光の光を透過させる機
能を有する偏光ビームスプリッタ−兼2波長分離フィル
ターの検討結果を第2図に示す。プリズムの屈折率は1
.61であり、光学多層膜部は従来例と同様に、高屈折
率物質HがTiO2、低屈折率物質りが5i02から成
る29層の交互多層膜であり、奇数層がTiO2、偶数
層が5i02である。光学的膜厚は第1層、第3層、第
5層、第7層、第9層、第21層、第23層、第25層
、第27層、第29層はλo/4からずらしてあり、そ
の他の各層はλa /4である。光学多層膜の上部には
、五1205の物質から成る保護層が形成され、紫外線
硬化型接着剤16−ILを介して、プリズム12と13
とが接合されている。
果を確認した。2レーザ光ヘツドの構成部品の1つであ
シ、λ1のS偏光の光は反射しP偏光の光は透過すると
同時に、λ2のP偏光およびS偏光の光を透過させる機
能を有する偏光ビームスプリッタ−兼2波長分離フィル
ターの検討結果を第2図に示す。プリズムの屈折率は1
.61であり、光学多層膜部は従来例と同様に、高屈折
率物質HがTiO2、低屈折率物質りが5i02から成
る29層の交互多層膜であり、奇数層がTiO2、偶数
層が5i02である。光学的膜厚は第1層、第3層、第
5層、第7層、第9層、第21層、第23層、第25層
、第27層、第29層はλo/4からずらしてあり、そ
の他の各層はλa /4である。光学多層膜の上部には
、五1205の物質から成る保護層が形成され、紫外線
硬化型接着剤16−ILを介して、プリズム12と13
とが接合されている。
入射角は66°、設計基準波長λ0は885nllであ
る。第2図において、61はシーミレージョンによるP
偏光の分光透過率特性を示し、62はシュミレーション
によるS偏光の分光透過率特性を示す。
る。第2図において、61はシーミレージョンによるP
偏光の分光透過率特性を示し、62はシュミレーション
によるS偏光の分光透過率特性を示す。
63は接合後のP偏光の分光透過率特性を示し64は接
合後のS偏光の分光透過率特性を示す。
合後のS偏光の分光透過率特性を示す。
P偏光のλ1=750nm、λ2=:ssonmにおけ
る接合後の透過率は99チ以上を確保しており、S偏光
のλ2=asonmにおける接合後の透過率も98チ以
上を確保でき、紫外線照射による特性劣化は大幅に減少
している。
る接合後の透過率は99チ以上を確保しており、S偏光
のλ2=asonmにおける接合後の透過率も98チ以
上を確保でき、紫外線照射による特性劣化は大幅に減少
している。
詳細な説明の中で、光学多層膜の膜構成を、プリズムか
ら奇数層をTlO2、偶数層を8102の膜構成につい
てのみ説明してきたが、奇数層が5in2゜偶数層がT
lO2で、最終層が8102から成る光学多層膜上に五
120sから成る保護層を設けても同様の効果がある事
はもちろんである。
ら奇数層をTlO2、偶数層を8102の膜構成につい
てのみ説明してきたが、奇数層が5in2゜偶数層がT
lO2で、最終層が8102から成る光学多層膜上に五
120sから成る保護層を設けても同様の効果がある事
はもちろんである。
発明の効果
以上、述べてきたように、高屈折率物質としてTlO2
を用いた光学多層膜を有するプリズムと他のプリズムと
を紫外線硬化型接着剤Yを用いて接合しても、前記の光
学多層膜と接着層の界面(光学多層膜の上部)に五12
0s層を設ける事により透過率特性劣化を防止できると
ともに、製造容易で安価な光学部品を提供できる。
を用いた光学多層膜を有するプリズムと他のプリズムと
を紫外線硬化型接着剤Yを用いて接合しても、前記の光
学多層膜と接着層の界面(光学多層膜の上部)に五12
0s層を設ける事により透過率特性劣化を防止できると
ともに、製造容易で安価な光学部品を提供できる。
第1図は本発明の光学部品の一実施例である偏光ビーム
スプリッタ−の構成図、第2図は同偏光ビ・−ムスプリ
ッター兼2波長分離フィルターのシュミレーションと製
造後の分光特性比較図、第3図は本発明の実施例におけ
る光学部品のシュミレーションと製造後の偏光ビームス
プリッタ−の分 。 光特性図、第4図は光学ヘッドの概要図、第6図は偏光
ビームスプリッタ−の断面図、第6図は従来の偏光ビー
ムスプリッタ−の構成図、第7図は接着方法の概要図、
第8図は従来例における偏光ビームスプリッタ−のシュ
ミレーションと製造後の分光特性比較図、第9図は従来
例における偏光ビームスプリッタ−兼2波長分離フィル
ターのシーミレージョンと製造−の分光特性比較図であ
る。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名菓
1!1 13 プリ、2こzl 12 ブリスンに 第4図 1O尤末 /◇ 光〒彩1裏 第6図 18 プリズム /2 プリズム 第7図 22 ノ〈\η( TRANSMITTANCE TR^NSMITTANCE
スプリッタ−の構成図、第2図は同偏光ビ・−ムスプリ
ッター兼2波長分離フィルターのシュミレーションと製
造後の分光特性比較図、第3図は本発明の実施例におけ
る光学部品のシュミレーションと製造後の偏光ビームス
プリッタ−の分 。 光特性図、第4図は光学ヘッドの概要図、第6図は偏光
ビームスプリッタ−の断面図、第6図は従来の偏光ビー
ムスプリッタ−の構成図、第7図は接着方法の概要図、
第8図は従来例における偏光ビームスプリッタ−のシュ
ミレーションと製造後の分光特性比較図、第9図は従来
例における偏光ビームスプリッタ−兼2波長分離フィル
ターのシーミレージョンと製造−の分光特性比較図であ
る。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名菓
1!1 13 プリ、2こzl 12 ブリスンに 第4図 1O尤末 /◇ 光〒彩1裏 第6図 18 プリズム /2 プリズム 第7図 22 ノ〈\η( TRANSMITTANCE TR^NSMITTANCE
Claims (2)
- (1)第1の光学基板上に、TiO_2から成る誘電体
層を有する光学多層膜を設け、この光学多層膜の上部に
、Al_2O_3から成る誘電体層を設け、この誘電体
層を紫外線硬化型接着剤を用いて第2の光学基板に接合
した光学部品。 - (2)第1の光学基板上に、TiO_2から成る誘電体
層を有する光学多層膜の上部に、Al_2O_3から成
る誘電体層を設けて、熱硬化型接着剤を用いて第2の光
学基板と接合された後に、紫外線硬化型接着剤を用いて
第3の基板に接合される光学部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5939287A JPS63223702A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | 光学部品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5939287A JPS63223702A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | 光学部品 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63223702A true JPS63223702A (ja) | 1988-09-19 |
Family
ID=13111966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5939287A Pending JPS63223702A (ja) | 1987-03-13 | 1987-03-13 | 光学部品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63223702A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6928649B2 (en) | 2001-09-13 | 2005-08-09 | Funai Electric Co., Ltd. | Method of attaching a sensor to a pickup head and pickup head |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57130001A (en) * | 1981-02-05 | 1982-08-12 | Canon Inc | Low polalization achromatic beam splitter |
JPS59107304A (ja) * | 1982-12-10 | 1984-06-21 | Hoya Corp | 半透過鏡 |
JPS6028601A (ja) * | 1983-07-26 | 1985-02-13 | Minolta Camera Co Ltd | プリズム式ビ−ムスプリツタ |
JPS6240634A (ja) * | 1985-08-16 | 1987-02-21 | Olympus Optical Co Ltd | 光ヘツド |
-
1987
- 1987-03-13 JP JP5939287A patent/JPS63223702A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57130001A (en) * | 1981-02-05 | 1982-08-12 | Canon Inc | Low polalization achromatic beam splitter |
JPS59107304A (ja) * | 1982-12-10 | 1984-06-21 | Hoya Corp | 半透過鏡 |
JPS6028601A (ja) * | 1983-07-26 | 1985-02-13 | Minolta Camera Co Ltd | プリズム式ビ−ムスプリツタ |
JPS6240634A (ja) * | 1985-08-16 | 1987-02-21 | Olympus Optical Co Ltd | 光ヘツド |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6928649B2 (en) | 2001-09-13 | 2005-08-09 | Funai Electric Co., Ltd. | Method of attaching a sensor to a pickup head and pickup head |
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