JPS63221984A - 走査型吸着盤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 し産業上の利用分野］ 本発明は、建物、船、大型タンク等の外壁での作業のた
めの吸着装置や、各種物品の吸着搬送等のための吸着装
置において利用するのに適した走査型吸着盤に関するも
のである。

［従来の技術］ 本発明者らは、光に特開昭５９−１８０１１２号によっ
て走査型の吸着装置を提案している。この吸着装置は、
第６図に概念的に示すように、対象物の表面に吸着する
ように配列させた多数の吸盤ユニット１．＠Φと真空源
２との間に、その真空源からの負圧を各吸盤ユニットに
順次分配する分配器３を備えたものである。

このような吸着装置は、吸着対象面に凹凸状の障害物が
ある場合においても、多数の吸盤ユニットのうちのいく
つかが対象面に吸着するため、安定性のある吸着を行い
得ると共に、小容量の真空源により効果的な吸着を行え
る点で有利なものである。

しかしながら、上記走査型吸着装置は、多数の吸盤ユニ
ットを備えた吸着盤と真空源との間に分配器を設けるた
めの具体的な構成について十分に配慮していない。特に
、建物、船、大型タンク等の外壁での作業のための吸着
装置においては、分配器を含めて全体を軽量でコンパク
トに形成すると同時に、配管をできるだけ少なくするこ
とが徒求され、実用化にあたってはそのための構成を考
慮する必要がある。

［発明が解決しようとする問題点」 本発明は、走査型吸着盤における上記の問題を解決した
ものであり、即ち数個の吸盤ユニットを備えた吸Ｍ盤内
に簡単な構成の分配器を組込むことによって、分配器を
含む全体を軽量でコンパクトに形成し、しかも吸盤ユニ
ットと分配器との間の個別的な配管を簡単で短いものと
した走査型吸着盤を提供しようとするものである。

Ｅ問題点を解決するだめの手段］ 上記目的を達成するため、本発明の走査型吸着盤は、対
象面に吸着する複数の吸盤ユニットを配列させた支持部
材を備え、ｈ記支持部材と一体化されたマニホールドを
真空源に接続すると共に、そのマニホールド内に各吸盤
ユニットへの連通路に設けた弁を−・つの円周上に配列
させて設け、マニホールド内においてモータにより回転
駆動される回転盤上に、上記各弁に順次当接して吸盤ユ
ニットへの流路を開放する当接子を設けることによって
構成される。

［作　用］ 上記走査型吸着盤においては、モータによりマニホール
ド内の回転盤が回転駆動されると、その回転盤−ヒに設
けた当接子が、各吸盤ユニットへの連通路に設けた３ｆ
に順次当接して、その弁を開放するので、各吸盤ユニッ
トが順次真空源に連通し、吸盤ユニット内の空気が排気
される。−・つの円周りに配設した弁及びモータにより
回転駆動されて各弁を順次開放する回転盤は、簡単な構
造の分配器を構成し、吸着盤に容易に組込むことができ
るので、分配器を含む全体の構成が軽量でコンパクトに
なり、吸盤ユニットと分配器との間の個別的な配管も非
常に短いものになる。

［実施例］ 第１図及び第２図は、本発明の走査型吸着盤の実施例を
示すもので、円板状の支持部材１ｏＬに、対象面に吸着
させるための５個の吸盤ユニット１１を、それらの吸着
面が一つの平面」二に位置するように配列させて取付け
ている。なお、吸盤ユニット１１の数は、５個に限るも
のではなく、用途に応じてその適数個を設けることがで
きる。

Ｌ記支持部材１０には、各吸盤ユニッ）１１を順次真空
源１２に連通させるための分配器を組込むマニホールド
１３が、連結杆１４を介して一体的に取付けられている
。各吸盤ユニッ）１１とこのマニホールド１３とは、そ
れぞれユニ／（、−サルエルボ１６及び連通用配管１７
によって形成される連通路１８を介して連通せしめられ
、マニホールド１３内の分配室１９は気密に形成し、継
手２０を介して真空源１２に連通させている。

また、マニホールド１３内には、各吸盤ユニ・７トエ１
への連通路１８に通しる位置に、それぞれ球状の弁体２
３をスプリング２４によって分配室１９側へ付勢したｙ
ｆ２２ヲ設けている。これらの弁２２は、分配室１９内
において一つの円周、］二に等間隔に配列させ、しかも
球状の弁体２３の一部を分配室１９内に突出させている
。

一方、上記マニホールド１３には小型のモータ２６を取
付け、分配室１９内においてそのモータ２６により回転
駆動される回転盤２７トに、−ヒ記各弁２２にｌｌｌＧ
ｆ次当接して吸盤ユニット１１への流路を順次開放する
当接子２８を設けている。なお、図中、２９はスラスト
軸受を示している。

上記構成を有する走査型吸着盤においては、モータ２６
によりマニホールド１３の分配室１９内の回転盤２７が
回転駆動されると、その回転盤２７」二に設けた当接子
２８が、各吸盤ユニット１１への連通路１８に設けた弁
２２における弁体２３に順次当接して、その弁体２３を
スプリング２４の付勢力に抗して開放するので、各吸盤
ユニット１１が順次真空源１２に連通し、吸盤ユニー、
ｉｌｌ内の空気が排気される。

このような吸着盤は、吸着対象面に凹凸状の障害物があ
って、多数の吸盤ユニット１１のうちのいくつかが対象
面に確実に吸着せず、それらの吸盤ユニットｉｌ内の真
空が破壊されても、残る吸盤ユニット１１により安定性
のある吸着か行われると共に、小容量の真空源により効
果的な吸着を行うことが可能である。

第３図は、弁２２（Ｖ＋〜Ｖ５）の位昌と回転盤２７上
に設けた当接子２８の関係を示しているが、上述した安
定性のある吸着を行うためには、いずれかの吸盤ユニッ
）・１１の真空が破壊されている可能性があるため、常
に単一の弁２２のみを開放して、真空破壊された吸盤ユ
ニットと正常に作動している吸盤ユニッ）１１か相〃に
連通しないようにする必要かある。また、第４図はＬ記
−ｊ’Ｐ（Ｖ＋〜Ｖ５）の開閉のタイミングを示してい
る。

第５図は、−上記構成を有する走査型吸着盤における一
つの吸盤ユニッ）１１、及びマニホールドの分配室１９
内における負圧の変化を示すもので、各吸盤ユニット１
１が＋＋ｍ次分配分配室１９通ずることから、吸盤ユニ
ットｌｌ内の負圧は階段状に変化するが、比較的短い峙
間内に一定の負圧に達することがわかる。

［発明の効果」 このような本発明の走査型吸着盤によれば、マニホール
ド内に配設した各吸盤ユニットに通じる弁及びモータに
より回転駆動されて答弁を順次開放する回転盤により構
成される分配器は、その構成が簡単で、吸着盤に容易に
組込むことができるので、分配器な含む全体の構成を軽
量でコンパクトなものとすることができ、吸盤ユニット
と分配器との間の個別的な配管も非常に短くなり、装置
を簡素化することかできる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の走査型吸着盤の実施例を示す断面図、
第２図は同平面図、第３図は上記実施例の動作説明図、
第４図は答弁の開閉状態の説明図、第５図は要部の圧力
変化を示す線図、第６図は既提案の走査型吸着装置の構
成図である。 １０−・支持部材、　　１１Φ・吸盤ユニット、１２・
・真空源、　　　　１３・・マニホールド、１８・・連
通路、　　　２２・・弁、 ２６・・モータ、　　　２７・会同転盤、２８・・当接
子。 第３図 第４図 ５７６一 時間＜Ｔ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、対象面に吸着する複数の吸盤ユニットを配列させた
   支持部材を備え、上記支持部材と一体化されたマニホー
   ルドを真空源に接続すると共に、そのマニホールド内に
   各吸盤ユニットへの連通路に設けた弁を一つの円周上に
   配列させて設け、マニホールド内においてモータにより
   回転駆動される回転盤上に、上記各弁に順次当接して吸
   盤ユニットへの流路を開放する当接子を設けたことを特
   徴とする走査型吸着盤。