JPS63217532A - 情報を記録再生する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［技術分野〕 本発明は光ディスクにおける情報の記録再生方法の改良
に関する。

［従来技術］ 従来、光ディスクの記録層として有機色素系および金属
系のものが知られているが、それぞれ単独の記録層でビ
ーム系を変えることなく記録密度を平面内で増大させる
ことは困難である。

また、最近になって記録層を媒体のＩｖさ方向に重ねて
記録容量を増大させる方式が提案されているが、この場
合４層以上の積層を必要とするためビームスポットの焦
点深度の差で各吸収層の間隔を充分にとらないとクロス
トークを生じる。また、焦点深度が深いことからビーム
スポットの位置制御が困難である。

さらに、特性の類似した記録層を積層させる場合レーザ
パワーの制御が困難である上に解像度が劣るという問題
がある。

［目　　的ゴ 本発明は上記問題に鑑みてなされたものであって、その
目的は記録密度と解像度を増大させる情報の記録再生方
法を提供することである。

［構　　成］ 本発明の上記目的は基板上に高反射性の記録層とそれよ
りも低い反射率を有する記録層を積層させてなる記録媒
体においてレーザの吸収量により低反射の記録層にのみ
ピットを形成する場合と前記の再記録層にピットを形成
する場合とで生じる２値の信号レベルで情報を記録再生
することによって達成することができる。

本発明に用いられる記録媒体は第１図に示すように基板
１の上に反射率が低い記録層２と高反射性記録層３を積
層するかあるいは第２図に示すように基板１の上に高反
射性記録層３と反射率が低い記録層２を積層したもので
ある。また、第２図に示されるように記録層の上に保護
層を設けてもよいしあるいは基板と記録層との間に下引
き層を設けてもよい。

高反射性記録層３としては例えば金属、半金属またはそ
の化合物からなる金属系記録層が用いられる。金属の例
としてＴｅ系金属、ＳＣ，Ｂｌ。

Ｓｂ、５ｎ−Ｐｂ、Ａｇ、Ｃｕなどがあげられる。

また、これらの金属、半金属またはその化合物はそれぞ
れ単独で用いてもよいし２種以上組合せて合金としても
よくあるいは２種以上の積層としてもよい。金属系記録
層は主として蒸着によって形成され、その膜厚は１００
人〜１０μｍである。

一方、反射率が低い記録層としては例えばを機系色素記
録層が用いられる。記録層の主成分としてポリメチン系
、フタロシアニン系、テトラヒドロコリン系、ジオキサ
ジン系、トリフエッチアジン系、フェナンスレン系、ア
ントラキノン（インダンスレン）系、キサンチン系、ト
リフェニルメタン系、アズレン系などの色素が用いられ
るが、記録特性および安定性向上のために前記色素を２
種以上組合せても積層させてもよい。また、記録層はそ
の他に高分子材料、保存安定剤（例えば、金属錯体、フ
ェノール系化合物など）、分散剤、難燃剤、滑剤、帯電
防止剤、可塑剤などを含有していてもよい。

記録層の形成は蒸着、スパッタリング、ＣＶＤまたは溶
液塗布などの通常の手段によって行なうことができる。

溶液塗布による場合には有機溶媒例えばアルコール類、
ケトン類、アミド類、エーテル類、スルホキシド類、エ
ステル類、脂肪族ハロゲン化炭化水素類、芳香族類中に
上記色素を溶解してスプレー、スピナー、ディップ、ブ
レード、ローラーなどの慣用のコーティング法によって
行なわれる。記録層の膜厚は１００人〜ＩＯμｍ好まし
くは２００　人〜２μｍである。

基板１としては例えばアクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリ
カーボネート、ポリエステル、エポキシ樹脂などのプラ
スチック、ガラス、セラミックなどが用いられる。基板
の必要特性としては基板側より記録再生を行う場合のみ
使用レーザ光に対して透明でなければならず、記録側か
ら行う場合は透明である必要はない。なお、基板の表面
にはアドレス信号などのプレフォーマットや案内溝のプ
レグルーブが形成されていてもよい。

下引き層は（ａ）接着性の向上、（ｂ）水またはガスな
どのバリヤー、（Ｃ）記録層の保存安定性の向上および
（ｄ）反射率の向上、（ｅ）溶剤からの基板の保護、（
「）プレグルーブの形成などを目的として使用される。

（ａ）の目的に対しては高分子材料例えばアイオノマー
樹脂、ポリアミド樹脂、ビニル系樹脂、天然高分子、シ
リコーン、液状ゴムなどの種々の高分子物質およびシラ
ンカップリング剤などを用いることができ、（ｂ）およ
び（Ｃ）の目的に対しては上記高分子材料以外に無機化
合物例えばＳｔ　ＯＭｇ　Ｆ２．Ｓｉ　Ｏ，ＴＩ　Ｏ２
゜２　′ Ｚｎ　Ｏ，Ｔｉ　Ｎ、Ｓｉ　Ｎなど、金属または半金属
例えばＺｎ、Ｃｕ、Ｓ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｅ。

Ａｕ、Ａｇ、ＡＮなどを用いることができ、（ｄ）の目
的に対しては金属例えばＡｇ、Ａｇ、金属光沢を有する
色素例えばメチン系色素、キサンチン系色素などを用い
ることができる。上記（Ｃ）および（ｆ）の目的に対し
ては紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂など
を用いることができる。

下引き層の膜厚は０．１〜３０μｍ好ましくは０．２〜
１０μｍが適当である。

保護層 保護層は記録層をキズ、ホコリ、汚れなどから保護する
こと、記録層の保存安定性および反射率の向上を目的と
して設けられ、その材料としては下引き層と同じ材料を
使用することができる。保護層の膜厚は０．０５μｍ以
上好ましくは５μｍ以下が適当である。

なお、下引き層と保護層中には安定剤、分散剤、難燃剤
、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、可塑剤などが含有さ
れていてもよい。

次に、本発明の光学的特性を第３図について説明すると
第１図および第２図に示すように記録層を積層構造にす
ることにより未記録の場合記録層２の反射光が得られ、
一方記録層２のみを記録することにより２よりも反射率
の高い３が現われ２のみを記録した場合よりも高い反射
光が得られる。

さらに、記録層２および３を同時に記録することにより
基板のみの反射光（低反射）が得られる。

このように本発明を用いることにより記録密度は計算上
約２倍となる。

［実　施　例］ 以下の実施例により本発明をさらに説明するがこれらの
みに限定されるものではない。

実施例　１ ポリカーボネート基板上にＴｃを膜厚３００人で真空蒸
着して第１の記録層を形成した。次に、この上に銅フタ
ロシアニンを膜厚８００人で真空蒸着して第２の記録層
を形成した。

実施例　２ ポリカーボネート基板上にＴｅ　／　Ｓｓ　　（９／ｌ
　）を膜厚３００人で真空蒸着して第１の記録層を形成
した。次に、この上に下記式のシアニン色素をメタノー
ル／エチレンジクロライド（８／２　）の混合溶媒に溶
解した溶液をスピンコードして第２の記録層を形成した
。

実施例　３ ポリカーボネート基板上に実施例２で用いたシアニン色
素を実施例２と同様にしてスピンコードにより膜厚８０
０人で第１の記録層を形成し次にこの上にＴｅを膜厚３
００人で真空蒸着して第２の記録層を形成した。

実施例１および２で作製した記録媒体に記録層側から波
長７９０止の半導体レーザ光を用いて記録周波数０　、
５ＭＨｚ、線速１．５　ｍ／ｓｅｅで第２の記録層のみ
に記録したところ、反射率は実施例１のもので約４６％
、実施例２のもので約４３％であった。なお、未記録の
場合の反射率は実施例１のもので１７％、実施例２のも
ので２１％であった。同様にして第１および第２の記録
層双方に記録したところ、反射率は実施例１のもので約
６％、実施例２のもので約６％であった。

実施例３で作製した記録媒体について基板側から上述し
たとまったく同様にして反射率を測定したところ、未記
録の場合２０％、第１の記録層のみを記録した場合４５
％、第１および第２の記録層双方に記録した場合７％で
あった。

［効　　果］ 本発明によれば、従来の光記録媒体を用いて得られる記
録密度の約２倍の記録密度が得られ、しかもクロストー
クが少なく解像の高い記録が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す模式図であり、第２図
は本発明の別の実施例を示す模式図でありそして第３図
は本発明の光学的特性を示す図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板上に高反射性の記録層とそれよりも低い反射率を有
   する記録層を任意の順序で積層させてなる記録媒体を用
   いて、レーザの吸収量により低反射の記録層にのみピッ
   トを形成する場合と前記の再記録層にピットを形成する
   場合とで生じる２値の信号レベルで情報を記録再生する
   方法。