JPS6321488A - 流体食品加工装置 - Google Patents

Abstract

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め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の分野 本発明は食品加工、特に、流体（もしくは液体〕の形態
の食品の加工装置昏こ関する。

発明の背景 食品工業は、現在入手できる多くの、種々の食品の製造
に、様々な処理を利用している。そのような処理は、食
品を、現在の消費者シこより期待される種々の形態およ
び型の食品に加工すること、および食品を腐敗し【こく
い形態に変えることであり、後者の要求は、原始人によ
っても強く望まれていたものである。液体食品に関して
は、広く用いられる処理には、単純な混合、乳化、均質
化、粉砕、加熱／冷却などが包含され、多くの型の装置
が、そのような処理を行なうために利用されている。

例えば、サラダドレッシングのような、乳化が要求され
る液体食品（ま々は他の液体基質〕は、機械的に回転す
るパドルを利用する面単なかきまぜ器を有する装置また
は、固定した「じゃま板」を、タンク壁に取り付けたり
、タービン・ローターと固定子の組み合せにおけるごと
く、プロペラをこ隣接して設けたタービンかきまぜ器の
ような、ざらをこ激しい処理を提供する他の混合装置を
包含する装置中で加工できる。よく仰られているコロイ
ドミルは、２種またはそれ以上の液体をローターと固定
子の間の所定の小さな間隙により、均一な小滴または粒
径を有するエマルジョンに変えるのに広く用いられてい
る。いくつかの例では、外部冷却してエマルジョンに加
えられた比較的高い剪断力により生じる熱を取り除いて
もよい。もうｊつの高剪断混合装置は加工すべき相を、
ばね座弁を通過させることにより操作するホモジナイザ
ーである。しかしながら、このような処理は制御できな
い凝集した細かい粒子をもたらすことがあり、これシこ
より生成したいわゆる「ブドウの房」を、ついで、その
基質を第２段のホモジナイザーに通過させて分店しなけ
ればならない。したがって、このような状況においては
、ホモジナイザー装置の使用は必然的に２段処理法を必
要とする。

伝熱処理に移って、プレート式および薄膜流下式装置の
ような永年使用されてきた種々の形態の熱交換器および
近年開発された表面かき取り式熱交換器を含め、この目
的に多くの装置が用いられている。後者の装置は食品工
業に広く用いられている（例えば、アール・エイチ・レ
イ、フード・トレード、ｖビュー（Ｒ，Ｈ，Ｒａｙ、　
Ｆｏｏｄ　ＴｒａｄｅＲｅｖｉｅｗ）による「食品工業
【こおける表面かき取り式熱交換器の役割」、１９７０
年４月参照）。このような装置は製品の通過する比較的
大きな処理帯（装置の大きさにより、約６０ｎ以上）を
有し、この処理帯は熱交換管の内面およびこの管中に設
ケラれた回転シャフトの間で形成される。このシャフト
は、装置の運転中、加工すべき製品を該内面から連続的
にかき取り、熱交換面における製品のやけ、こびりつき
、または結晶化を最少をこするための概ね径方向に延長
した多数のスクレーパー・ブレードを有する。ざら【こ
、シャフトの周囲を回転するにつれて、ブレードが製品
中を、乱流を生じて通過することにより、製品にいくら
かの混合効果を与え、製品が全体としてさらされる処理
の均一性を増強する。このタイプの加工は当該分野にお
いて「統計的」加工として知られている。

この語は処理帯中が一様に維持されていない加工条件（
例えば、製品温度勾配のような）を表わすために用いら
れる。したがって、目的とするある製品のためのある装
置の所定の運転条件下、所望の加工条件を示す処理帯域
、すなわち、「活性加工域」に全ての製品を送ることを
統計的昏こ保障するために、製品の連続的混合が必要と
なる。明らかなごとく、処理帯内に入っている製品の一
部だけが該活性加工域にあり、したがって、いずれの瞬
間においても、意図した加工条件下に置かれる。

したがって、製品全体としての処理は、すでに処理され
た製品を処理帯内の活性加工域の外に移動させ（混合に
より）、該域の外側からの未処理製品で置き換える。し
たがって、活性加工域における未処理製品の処理製品と
の交換は非常を二ランダムであり、この加工はその性質
上、「統計的」である。同様に、製品の試料が処理帯に
滞留する時間が増加するにつれて、試料中の処理された
製品の割合が増加する事実も明らかである。処理帯にお
ける製品混合のランダム効果を与えることにより、該意
図する加工域９こおいてすでＱこ処理された製品と置き
換わる可能性も時間と共に増加する。

△ このような加工の効果は、それを超えては製品処理の均
一性を向上できない「理想的処理製品」平均についての
変動に理論約９こ低い限界を与えることになる。

実際上、他の製品のフロー・パターン、特に、ブレード
支持柱によって生じる渦流により、処理帯内の製品滞留
時間さえ一様にならないので、理論的限界にも達しえな
い。多くの例において、製品が受ける処理のこの変動は
、製品を二対する影響の点で商業的に有意ではない。し
かしながら、蛋白性物質を含有する液体（特にコロイド
）を処理するような他の例において、この変動は得られ
る製品の開業的許容性に有害となりつる。明らかなごと
く、環状空間はスクレーバー・ブレードを収容するに充
分な幅がなければならず、装置の大きさによるが、約６
０Ｈ以上でなければならず、活性加工域はこの大きさよ
り著しく小さい。

注意すべきことは、商業的に入手できる表面かき取り成
熱交換器は、一般に、シャフトの回転速度が約２５０〜
３　Ｑ　Ｑ　ｒｐｍ、例外約０こは約５０Ｏｒｐｍまで
で連続的に運転するように設計されていることである。

したがって、このような装置は効率の良い混合と伝熱を
与えるが、比較的中程度のレベルの剪断力しか与えない
。

発明の概要 液体（もしくは流体）の形態の食品（もしくは他の基質
）に高剪断力をかけ、同時に、制御した方法で迅速にそ
の温度を上昇させることが必要または望ましい場合、公
卸の装置は適当でないことが判明した。さらに、各々、
この加工処理の１つ、すなわち、高剪断力または迅速な
加熱のいずれかを与える２つの装置は大規模では相互を
こ適合しない。したがって、本発明者らは前記の要件に
適合する加工装置を設計しなければならなかった。した
がって、本発明の１つの態様は均一な、液体（流体）基
質の非統計的加工に適した装置を提供するものであり、
該装置は、 一定の径の、本質的昏こ滑らかで、妨害のない凹円筒表
面を有する第１手段、 該第１手段の一定の径より小さい、ただし、約２ｆｆ以
上小さくはない一定の径の、本質的に滑らかで、妨害の
ない凸円筒表面を有する第２手段を有し、 ＠１および第２手段は相互シこ同心軸関係【こ配置され
、該＠ｌおよび第２手段の間の間隙が一様な環状の処理
帯を構成し、該処理帯が伝熱媒体と伝熱関係に配置され
ており、また、 該第１および第２手段の間に、その対称共通軸線の周囲
で相対的回転運動を与える第３の手段を有することを特
徴とする。

この１つの具体例は、内部円筒状表面と外面を有する延
長した管からなり、外面には熱交換媒体を運ぶ手段を有
する装置を提供することにより達成される。延長した円
筒状回転体を該管内に、その内面と同軸に、かつ、管お
よび回転体の共通軸の周りで回転可能に設ける。内面お
よび回転体の間には約２朋以下の幅を有する環状空間が
あり、これが物質の加工または処理帯を構成する。本発
明の装置において、厚さ約２朋以下の物質加工帯を設け
ることにより、該処理帯が実質的に活性加工域と同じに
延長し、同じに終り、これにより、該流体加工装置が流
体基質の非常に均一な処理（すなわち、前記の「統計的
」処理とは区別される）を与えることを見出した。前記
のごとく、このシステムは迅速な加工を可能にするだけ
でなく、より一層の制御を可能とし、より一定した物理
的特性を有する製品を与える。

回転体は高速で回転するよう昏こ配置され、管内面と回
転体表面の間の高い相対速度が該環状帯を通過する物質
に所望の高い剪断力を付与する。内面、すなわち、熱交
換域の細長い特性は、物質の厚さが、全て活性処理域内
）こある比較的薄層に大きく限定されたこととあいまっ
て、迅速な伝達を行ない、これにより、強い剪断力を受
けながら、加工すべき物質の温度が速かに所望の高レベ
ルまで上昇する。したがって、大量の基質を非常に薄い
層状にして、高温で非常に短時間で加工できる。

これは、長い側熱が熱感受性の加工すべき物質に及ぼす
有害な作用を減少し、さけることさえできるようにする
。もちろん、蛋白のような多くの食品成分が熱感受性で
ある。非常に重要なことには、剪断力が、処理すべき物
質中の粒子の望ましくない凝集を制御する助けをし、所
望なこより、そのような阻止すべき凝集加工を可能にす
る。これは従来の装置では容易になしえないことである
。本発明による加熱処理の実質的に瞬間的、非統計的性
質は処理すべき物質の粒径分布を非常に狭くし、非常に
望ましい。

望ましい方法で装置を機能させるには、処理帯を通る流
体物質の迅速な移動に妨害があってはならない。したが
って、もつとも重要なことは、環状空間およびそれを限
定する表面はいかなるタイプの機械的障害、例えば、ス
クレーパー・ブレードまたはブレード支持柱で妨害され
ていないことである。

発明の詳細 な説明のもう１つの態様によれば、 外面および中心軸線を有する内部円筒面を含む管、 該外面上の熱交換媒体を運ぶ手段、 該軸線の周囲を回転する、該管内にその内面と同軸方向
に設けられた回転体、 該回転体と内面の間の、約２１１Ｎ以下の、障害のない
一様環状空間からなる処理帯、 該回転体を高速で回転させる手段、および該処理帯の外
部に設けられた、処理すべき流体で該処理帯を満たし、
その後、加工の間、流体の処理量を処理帯に供給して処
理帯を満たした状態に維持する手段 からなる流体加工装置が提供される。

本発明の装置は非常に迅速な基質の処理を提供し、さら
に、基質物質の装置内の通過を助ける。

管の内面および／韮たは回転体の外面は、ポリテトラフ
ルオロエチレンマタはクロロトリフルオロエチレンポリ
マーのようなハロゲン化ポリエチレンのごとき比較的不
活性な高分子物質ｆｆ１ｆたはそれで被覆されているこ
とが好才しい。

一般に、処理帯に物質を供給するにはポンプ・システム
が用いられる。

本発明の加工装置を、大気圧下、処理帯内で蒸気相が生
じるような温度条件下で流体基質の処理に使用する場合
、そのようなガスの発生は防止しなければならない。通
常、処理帯の上流に供給ポンプを配置し、処理帯の下流
昏こ弁のような手段を設け、これをこより、処理帯内の
圧力が調節できる。

好ましい配置において、処理帯の上流に配置した第１の
ポンプがその源から流体基質を処理帯へ供給し、処理帯
の下流に設けられ、第１ポンプより低速で運転されてい
る第２ポンプか処理帯内に背圧をかける。この背圧を生
じさせるのに、ポンプまたは他の手段を用いるかにかか
わりなく、一般に、流体基質からの揮発性物質の処理帯
内におけるガス発生をさけるためには該背圧は必須であ
る。

処理帯における蒸気相の形成は、流体基質に対する効率
的な、一様な伝熱に対して、不安定な、しばしば、−時
的な、通常、局部的な断熱障害を生じさせ、処理帯内に
おける加工条件の一様性促進を意図する設計特性を損な
う。このため、また、本発明の加工装置で処理すべき流
体基質を、加工前に脱気することも好ましい。これは、
例えば、コーネルーマシーン社（Ｃｏｒｎｅｌｌ　　八
４ａｃｈｉｎｅＣｏｍｐａｎｙ　）から販売されている
ＶＥＲ５ＡＴＯＲＣ商、［）のような萄業的に入手でき
る脱気装置で容易【こ行なうことができる。

前記の２つのポンプ・システムは処理量および背圧の両
方においてバランスのとれた制御を可能／Ｃする。第１
または上流のポンプは処理帯を通る製品処理量の速度を
定めるように調節可能な供給ポンプである。第２または
下流ポンプの運転は２つのポンプの間の装置内〔処理帯
を含む〕で生じる背圧を制御するように調節できる。

処理帯内での蒸気相の発生をさける必要は、流体基質が
食品である場合に重ねて重要である。食品より揮発性成
分の損失は食品の官能的品質を傷つけるが、明らかなご
とく、いくつかの望ましくない揮発性成分の制御された
矯正はある種の食品の価値を実際に向上させる。その処
理の完了後、背圧を減圧する前に、大気圧で望ましくな
い揮発丈たは分離を生じる温度より下に基質を冷却する
ことにより、流体基質からの揮発性成分の損失を制御ま
たはさけることもできる。これは、多分、処理帯および
第２ポンプの間に熱交換蓉を設けることにより容易に行
なえる。製品が第２ポンプ（または適当な背圧をかける
ための他の適当な手段〕を出る温度昏こついて他に考慮
すべきことＱこは、例えば、処理した製品を直接無菌的
をこ包装するか否か、または貯蔵するか否かが含まれる
。いずれの場合も、処理帯内における蒸気相の形成を実
質的にさける必要があり、これは、本発明の装置Ｇこ、
高い処理温度において基質内に含有される成分のガス発
生による処理帯内での蒸気相形成を防ぐのに充分に高い
圧力に処理帯内容物を維持する手段を設けることにより
行なえる。

もちろん、背圧の量は処理すべき流体基質の性質および
処理条件による。処理帯におけるガス発生をさけるに必
要な圧力は容易に計算できる。

前記のごとく、処理帯は約２ｍｍ以下の厚さを有するこ
とが必須である。通常、この処理帯は約０゜５Ｈ以下で
はない。機械的な分野において、実際上、そのような小
さな間隙を維持することは、回転体などのような部品の
固有の機械的許容性を考慮すると非常をこ困難であり、
０．５絹より小さい厚ざでは問題が生じる。同様に、機
械におけるベアリングの摩耗は管ｌ７１Ｈこおいて回転
体の焼付きを生じる。いずれをこしても、狭い処理帯お
よび回転体の高速が組合さって必要な非常に高い剪断力
を生じる。例えば、以下に詳記するパイロット・プラン
ト規模の加工装置（名目生産能力約１００ポンド／時）
は、９００　ｒｐｍ、処理帯の厚さ約１．５ｍ、ｗで運
転すると、約ｓ　ｏ　ｏ　ｏ　ｏ　ｏｓｅｃ　　　の剪
断値を生じる。回転体が９００〜１５００ｒｐｍ、好ま
しくは、９００〜ｌ　ｌ　ＯＯｒｐｍ、特に、約１１０
０Ｏｒｐの速度で運転される場合をこ加工装置内で発生
する剪断力を用いることが好ましい。したがって、これ
から、本明組書において「高剪断」なる語がどの程度の
剪断速度を意味するのかは明らかである。

つぎに添付の図面を用いて本発明をざらに詳しく説明す
るが、これらに限定されるものではない。

第１図は本発明の加工装置の一部の断面図である。

第１Ａ図は第１図に示した加工装置ユニットをその駆動
システムと組合せた側面図である。

＠２図は、かき取り成熱交換器と組合せて配置した本発
明の加工装置システムを組込んだパイロット・プラント
・システムの配置図である。

第２Ａ図は、本発明の加工装置ユニットと付属のポンプ
・システムを組込んだ簡単なパイロット・プラント・シ
ステムの配置図である。

第１図を参照して、本発明の加工装置１０は、延長した
管１２、その両端を閉じる密閉板１４および］６からな
り、これにより、加工域を構成するチャンバー１８が形
成される。管１２はより大きな延長する管２０内に、同
軸に設けられている。

管１２および２０の間の環状空間は、管２０の内面から
管１２の外面へ延長する成形体２２により溝２４に変え
られており、この溝は熱交換媒体入口２６から熱交換媒
体出口２８へ暉旋状に延長している。

外側の管２０は断熱ジャケット３０に包菫れ、これは端
部材３２および３４の間で管２０の全長にわたって延長
している。各々、入口２６および２８を含む端部材３２
および３４は溶接３６および３８により、その軸方回内
側接点で固定され、また、管１２との軸方向外側接点に
おいて、０リング密閉部材４０および４２が設けられ、
熱交換媒体の漏れを防いでいる。端板１４はボルト４４
により端部材３４に固定され、板１６はボルト４６によ
り端部材３２に固定されている。端板１４を通して物質
出口４８が、才た、端板１６を通して物質入口５０が延
長している。明らかなごとく、それらの機能は所望によ
り逆にてきるので、本明組書においては、入口および出
口なる語は互換的に用いる。端板１４は通常のベアリン
グ部材５２を担持するように成形されている。

チャンバー１８を通して軸方向Ｑこステンレス製の、そ
の上にポリテトラフルオロエチレンの被覆を融着した回
転体５４が延長する。回転体５４の本体の径は、回転体
５４と管１２の内面の間に幅約２卵の環状卯工帯が生じ
るように、管１２の内径よりも、わずかに小さい。回転
体５４の細い端５６は板１４に担持されたベアリング部
材５２（例えば、ステンレス・ヘッド中のブツシュ〕に
より支持されている。回転体５４の細い端５８も、通常
のベアリング部材（図示せず）、例えば、ファフナー・
エル・シー・メカニ・シール（ＦＡＦＮ　Ｉ　ＲＬＣＭ
ＥＣＨＡＮ　Ｉ−Ｓ　ＥＡＬ−商標）タイプのような円
筒状カー１−　ＩＪツジ・タイプで回転可能に支持され
ている。

細い端５８の端部６０には平らなポイント・ソケット６
２が設けられている。チャンバー１８の開口１６は通常
の密封板部材７４で密封されている（第１Ａ図参照）。

第１Ａ図を参照して、これ−は、ベース６８上のハウジ
ング６６によって担持された基質加工装置１０を示す。

図示した加工装置は、内径約３インチ（約７．６α）、
管１２の内壁の回転体５４の本体に対向する面積として
定義される処理帯が約９３０１の実験用モデルである。

この処理帯は。

実際には、シール、端板等の存在により狭められ、作業
域は約６５０ｄである。この装置は伝熱媒体として蒸気
、水またはブライン用に適用され、非常に広範囲の加工
温度が可能である。許容される加工装置内の圧力は用い
たシールによるが、ゴム成分を用いる通常のシールでも
、例えば、５０〜１ｏ　ｏ　ｐｓｉの充分に高い圧力と
することができる。

円筒状カートリッジ・タイプ・ベアリング部材が、支持
体７０＆このせられ、ナツト７２によりその位置に固定
されている。チャンバー１８の密閉板部板を７４で示す
。シャフト５８の端６０は可撓性；！ｙ　ツ：７”Ｊ　
’ｙ　り７６、例えば、ＬＯＶＥＪ　ＯＹ　（商標）フ
レキシブル・カップリングをこより剪断ピン（図示せず
、７８に位置するソケット中に位置）に接続されている
。また、シャフト８０を介してカップリング７６が変速
モータ８２に接続され、該モータはベース６８上の支持
体８４で支持されている。このモータと付、寓のギヤは
１５００ｒｐｍ以上の速度で回転体を回転させるためを
こ用いる。

第２Ａ図を参照して、ここには本発明のＺロエ装置１０
および、物質を供給し、圧力を維持し、加工装置１０か
ら加工した物質を引き出すためのポンプ・システムを示
しである。該ポンプ・システムは加工装置１０の入口２
８に導管９２を介して接続した第１ポンプ８６からなる
。加工装置１０の出口２６は導管９８および第２ポンプ
１００に連結している。加工された物質は導管１０４を
介してポンプ１００を出る。

第２図に示したプラントは、好ましくは、第２Ａ図に示
した本発明の加工装置と通常のかき取り式表面熱交換器
からなり、システムの残りは第２Ａ図と同じである。加
工装置１０の軸方向に延長した出口２６は導管１０６を
介して、同様に軸方向【こ延長したかき取り式表面熱交
換器１０Ｂに連結している。図面から明らかなごとく、
この連結により、加工装置１０および熱交換器１０Ｂを
通して、方向を変えることなく、物質の滑らかな流れが
保証される。これは、加工装置１０から熱交換器１０Ｂ
への製品の均一な流れが保証され、製品は熱交換器にお
いて冷却され、前記のごとく、所望の揮発性成分の損失
がさけられる。また、加工装置ｌＯおよび熱交換器１０
Ｂの間の流れにおける渦流をさけることにより、製品は
望ましくないほどの長期間高（ｉＡ’ｔことどまること
がなく、製品の均一特性維持を助ける。

通常の熱交換器１０Ｂの代り番こ、本発明の第２の那エ
ユニットを用いることができる。この配置は、実際上、
２つの部分的な帯が縦列に並び、その各々の温度および
剪断条件を独立して調整できる加工帯を有する加工装置
を提供する。例えば、両方の帯を全く同様に操作し、１
つの処理帯の滞留時間を２倍にできる。一方、１つの帯
で物質を加熱し、もう１つで物質を冷却することも、速
くも、遅くもすることもできる。この配置の融通性は自
明であり、もちろん、３つ以上の加工装置をこのように
接続することができる。

連続導管１０６には断熱ジャケットを設けることができ
、好ましくは、操作の融通性から、その周囲に熱交換媒
体が通過できる手段を設けてもよい。また、温度および
圧力センサー（図示せず）を挿入する口１０８も設けら
れており、これにより、加工中の物質を注意深くモニタ
ーできる。

熱交換媒体は螺旋状チャンバー２４を通り、通常、加工
すべき物質と回流して循環される。例えば、加工すべき
物質は通常、径方向ｆ″−−延長入口５０を通して入り
、軸方向をこ延長した口４８を介して排出され、この場
合、熱交換媒体は口２８を介してチャンバー２４中に入
り、口２６を介して排出される。

運転ｔこ際しては、加工すべき液体食品、スラリーまた
は溶液をポンプ８６に供給し、実質的に一定の速度で導
管９２を介して加工装置１０に導入する。

一方、回転体５４を７５０〜］５００ｒｐｍ、通常、８
５０〜１２００ｒｐｍの一定速度で駆動させる。加工し
た物質４８を介して排出され、導管９８からポンプ１０
０へ通過し、直ちに包装する場合は、最後に包装装置へ
と移動する。この配置および操作は、例えば、滅菌等の
ための製品の再加熱を必要としないので非常に有利であ
る。また、加工した物質を貯蔵することもできる。ポン
プ８６および１００は、加工装置を通る物質の円滑な輸
送を保証し、システムにおける圧力の微妙な調節を可能
９こする配置で一緒【こ作動する。明らかなごとく、作
動を開始したら、正確な圧力、温度、加える剪断力およ
び所望の物質処理量が得られるようにシステムをバラン
スさせる。明らかなごとく、これらのパラメータは非常
に相互に独立したものである。

第２図に示すシステムの好ましい具体例において、加工
装置１０および通常の熱交換器１０Ｂ（基質加工装置で
あってもよい〕は導管１０６によって縦列に配置されて
いる。実際上、この配置は＠１図をこ示すような加工装
置を構成するが、さらに、該システム中で加工された製
品を効率よく冷却できるように調整できる第２の熱交換
帯を提供する。

後者のシステムは蛋白製品ベース製造用の液体ホエー基
質の加工【こもっとも有用である。この目的には、第１
７１０工装置の入口２６に導入する伝熱媒体の温度を約
１２０℃とし、製品を約５０００ｏｏｓｅｃ　　　の剪
断力（約２１ｎＩの幅の処理帯で、約９０　Ｏｒｐｍ　
　のシャフト速度で発生する）で処理′する。通常のか
き取り式熱交換器は、加工した製品を約８０℃に冷却す
るようをこ運転する。このようにして、加工した物質は
、その最高の加工温度から、さらに処理することなく、
無菌に昏こ直接製品を無菌的に包装できる温度まで、制
御された方法で冷却される。第１７ＩＯ工装置内の滞留
時間は全体として約３〜８秒である。加工装置１０円の
製品の圧力は約８０〜ｇＱｐｓｉである。明らかなごと
く、加工装置中で維持すべき圧力は、とりわけ、処理す
べき基質成分の揮発性および採用する処理温度による。

これらの圧力は、必要であれば１００ｐＳｉ以上蚤こす
ることができるが、ただし、ベアリング、シールおよび
加工装置システムの他の部品をそのような圧力【こ適す
るようｔこ設計する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の加工装置の一部分の断面図、第１Ａ図
は第１図の加工装置ユニットをその駆動システムと組合
せた側面図、第２図および＠２Ａ図は、各々、本発明の
１工装置システムを組込んだパイロット・プラント・シ
ステムの配置図である。 図面中の主な符号はつぎのものを意味する。 ｌＯ・・・那工装置、　　１２および２０・・・管、】
８・・・チャンバー、　　５４・・・回転体、８２・・
・モータ、８６および１００・・・ポンプ

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. （１）一定の径の、本質的に滑らかで、妨害のない凹円
   筒表面を有する第１手段、 該第１手段の一定の径より小さい、ただし、約２ｍｍ以
   上小さくはない一定の径の、本質的に滑らかで、妨害の
   ない凸円筒表面を有する第２手段を有し、 第１および第２手段は相互に同心軸関係に配置され、該
   第１および第２手段の間の間隙が一様な環状の処理帯を
   構成し、該処理帯が伝達媒体と伝熱関係に配置されてお
   り、また、 該第１および第２手段の間に、その対称共通軸線の周囲
   で相対的回転運動を与える第３の手段を有することを特
   徴とする、流体基質の一様な、非統計的加工用装置。
2. （２）外面および中心軸線を有する内部円筒面を含む管
   、 該外面上の熱交換媒体を運ぶ手段、 該軸線の周囲を回転する、該管内にその内面と同軸方向
   に設けられた回転体、 該回転体と内面の間の、約２ｍｍ以下の、障害のない一
   様な環状空間からなる処理帯、 該回転体を高速で回転させる手段、および 該処理帯の外部に設けられた、処理すべき流体で該処理
   帯を満たし、その後、加工の間、流体の処理量を処理帯
   に供給して処理帯を満たした状態に維持する手段 からなることを特徴とする流体基質加工装置。
3. （３）高温において、流体基質の成分のガス発生によつ
   て処理帯内で生じる蒸気相の形成を防止するため、実質
   的に大気圧より高い圧力に該処理帯を維持する手段を有
   する前記第（２）項の装置。
4. （４）物質を処理帯に導入する手段がポンプ手段である
   前記第（３）項の装置。
5. （５）ポンプ手段が、入口に物質を供給するように配置
   された１つのポンプと、出口から製品を受けるように配
   置された１つのポンプの２つのポンプからなる前記第（
   ４）項の装置。
6. （６）１つまたは両方の管の内面および回転体の表面が
   ハロゲン化炭化水素ポリマーからなる前記第（２）、（
   ３）または（４）項の装置。
7. （７）回転体が７５０ｒｐｍ以上の速度で回転する前記
   第（２）、（３）または（４）項の装置。
8. （８）回転体が８５０ｒｐｍ以上の速度で回転する前記
   第（２）、（３）または（４）項の装置。
9. （９）回転体が８５０〜１５００ｒｐｍの速度で回転す
   る前記第（２）、（３）または（４）項の装置。
10. （１０）回転体が８５０〜１２００ｒｐｍの速度で回転
    する前記第（２）、（３）または（４）項の装置。
11. （１１）該高圧を維持する手段が第２ポンプ手段である
    前記第（４）項の装置。
12. （１２）処理帯および第２ポンプ手段の間に熱交換手段
    を設けた第（１０）項の装置。