JPS63213801A - 透明光学用成形品 - Google Patents

透明光学用成形品

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Publication number
JPS63213801A
JPS63213801A JP4673587A JP4673587A JPS63213801A JP S63213801 A JPS63213801 A JP S63213801A JP 4673587 A JP4673587 A JP 4673587A JP 4673587 A JP4673587 A JP 4673587A JP S63213801 A JPS63213801 A JP S63213801A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer
ene
substrate
ethylidenebicyclo
compd
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4673587A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Sawada
秀雄 澤田
Mitsuo Fujita
光男 藤田
Yasuo Kobayashi
康男 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Daicel Chemical Industries Ltd filed Critical Daicel Chemical Industries Ltd
Priority to JP4673587A priority Critical patent/JPS63213801A/ja
Publication of JPS63213801A publication Critical patent/JPS63213801A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は光ディスク、光カード、ホログラムディスク、
光回路用基板等の透明光学用成形品に関するものでアシ
、さらに詳しくは、透明性にすぐれ、複屈折が小さい光
学用透明基板に関するものである。
〔従来の技術〕
近年、光デイスク基板等の透明光学部品用材料としては
ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネート、エポキシ
樹脂TPX等の透明樹脂が主として用いられている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかるに、ポリメタクリル酸メチルは耐熱性が劣るため
、高温度では、使用に耐えないなど問題があり、また、
ポリカーボネートは耐熱性がすぐれているが、溶融流動
性が劣るため、成形性が悪く、また成形歪に起因する複
屈折が大きいという問題がある。
特に、光デイスク基板等の光学部品の場合にはきわめて
高度な寸法精度の他に、高度の耐熱性及び透明性が要求
されるが、これらを完全に満足し得る基板は得られてい
ない。
本発明者達は、上記要求を満足する高1げ度の光学部品
用透明基板を得ることを目的としてj鋭意検討した。そ
の結果、5−エチリデンビシクロ(2,2゜1〕ヘプト
−2−エンから得られた単独重合体またはこれと共重合
可能な他の単量体を共重合式せて得られる共重合体から
なる材料は、耐熱性及び透明性にすぐれ、しかも複屈折
が小さいことを見出し、本発明に到達した。
〔問題点を解決するだめの手段及び作用〕すなわち、本
発明は下記式(1): で表わされる5−エチリデンビシクロ(2,2,1)ヘ
プト−2−エンから得られる単独重合体またはこれと共
重合可能な他の単量体と共重合させて得られる共重合体
からなる光学用透明成形品を提供するものでおる。
5−エチリデンビシクロ(2,2,1)ヘプト−2−エ
ンの重合方法に関しては、特に制限はなく、通常公知の
方法で重合することが出来る。
本発明の共重合体を得るに際して、複屈折の原因となる
ベンゼン環を持つスチレン、α−メチルスチレンなどの
スチレン誘導体と5−エチリデンビシクロ(2,2,1
)へブト−2−エンとを共重合するのは、好ましくなく
、エチレン、プロピレン。
無水マレイン酸、アクリル酸、メチルメタアクリル酸、
4−メチルペンテン−1等ベンゼン環ヲ持たないモノマ
ーと共重合するのが望ましい。
本発明で用いられる共重合体自体は公知であり、例えば
、無水マレイン酸と5−エチリデンビシクロ[2,2,
1]ヘグトー2−エンとの共重合体はThJえば、Pl
edger 、 Butler等# J@ Macro
mol、 Set、−Cham。
A5(8)1339(1971)に詳述されている。
本発明の5−エチリデンビシクロl:2,2,1 ]ヘ
ゾトー2−エンを重合して得られる重合体は、それ自体
、共役する二重結合を持たず、したがって、光による分
極が少なく、複屈折が小さい。しかも、かさ高い有橋脂
環構造を有し、重合体のガラス転移温度が高く、耐熱性
にすぐれている。
また、本発明の光学用部品は通常の射出成形法で成形す
ることが出来る。
以下、実施例及び比較例によシ本発明を嘔らに詳しく説
明する。実施例及び比較例で用いられる光線透過率、複
屈折及びガラス転移温度は次の方法によって測定した。
光線透過率: ASTMD−1003に基づいて、光線
透過率測定装置により、厚さ1mの試験片で測定した。
複屈折:偏光顕微鏡を利用して632.8部mにてリタ
ーデーションを測定した。射°出成型によりi!径13
0m)厚11.2簡の形状を有する中心ダートの金型で
ディスク基板を成形し、測定位置としてディスク基板の
中心から20mの位置の複屈折を偏光顕微鏡で測定した
ガラス転移温反:示差走査熱量計(DSC)における吸
熱ピーク時の温度とした。
以下の実施例中の部は重量部を示す。
実施例1  (5−エチリデンビシクロ[2,2,1]
−]ヘゾトー2−エン系共重合体A−1)の装造〕攪拌
機、温度計をそなえた容器に、モノマーの5−エチリデ
ン−ビシクロ(2,2,1)へブドー2−エン50部、
溶媒としてのトルエン500部および重合開始剤の過酸
化ベンゾイル0.2部を加え、攪拌下に反応系を窒素置
換した。
少量の窒素を流しながら、反応系を90℃に昇温する。
内温か90℃に達した時、無水マレイン酸20部を過酸
化ベンゾイル0.85部と共に、220分要して滴下し
た。
反応系を室温まで急冷した後、メタノール中にポリマー
を再沈澱し、r過後、真空乾燥し、白色のポリマー24
mを得た。
実施例2 〔5−エチリデンビシクロ(:2,2.1)
−ヘプト−2−エン系共重合体(A−2)の装造〕実施
例1と同様に攪拌機、温度計をそなえた容器に、モノマ
ーの5−エチリデン−ビシクロ〔2゜2.1〕へブドー
2−エン60部、溶媒ベンゼン200部および重合開始
剤のアゾインブチロニトリル0、2部を加え、攪拌下に
反応系を窒素置恨した。
窒素気流下で、内温な75℃に昇温し、その時点で無水
マレイン酸18部をアゾイソブチロニトリル0.65部
と共に、120分要して滴下し、反応させた。その後、
75℃で4時間、攪拌し、反応を継続した。
内容物を室温まで急冷し、メチルエチルヶトン500部
を加え希釈した後、メタノール4,000部中に再沈澱
した。濾過後、真空乾燥し、白色のポリマー34部を得
た。
(成形品による物性測定) かくして得られた5−エチリデンビシクロ〔2゜2.1
〕−ヘプト−2−二/系共夏合体(A−1,A−2)を
シリンダ一温度260℃で射出成形し、各試験片及びデ
ィスク基板を成形し、各物性を測定した。
結果を表1に示した。
なお、表1には比較のために公知のポリカーゴネートと
アクリル樹脂の特性も示してあり1比較例1は・ぞンラ
イ)AD5503(帝人化成(株)製ポリカーボネート
樹脂)、比較例2はアクリペラ)VH(三菱レイヨン(
株)裟アクリル樹脂)であシ、夫々実施例と同じ方法で
各物性を測定した。
(なお、・にンライ)AD5503の成形のみは、シリ
ンダ一温度320℃で行なった。)実施例及び比較例の
結果から次のようなことが明らかである。すなわち、本
発明の5−エチリデンビシクロ(2,2,1]]ヘグト
ー2−工ン系重合よl)なるディスク基板は、透明性が
すぐれ、複屈折も小感<、またガラス転移温度が島<、
シたがって耐熱性にすぐれている。
一方、ポリメタクリル酸メチル(アクリベットV H)
からなるディスク基板は、ガラス転移温度が低く、耐熱
性が劣る。ポリカーブネート(・gンライトAD550
3)からなるディスク基板は、ガラス転移温度が高く、
耐熱性良好であるが、複屈折が大きく、好ましくない。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の5−エチリデンビシクロ
[: 2.2.1 ]]ヘプトー2−エン系重合よシな
る光デイスク基板は、すぐれた透明性、耐熱性を有し、
複屈折も小さく、これらのバランスが従来の光デイスク
基板に比して、すぐれている。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下式(1): ▲数式、化学式、表等があります▼(1) で表わされる5−エチリデンビシクロ〔2、2、1〕ヘ
    プト−2−エンを重合して得られる単独重合体またはこ
    れと共重合可能な他の単量体と共重合させて得られる共
    重合体により作られた光学用透明成形品。
JP4673587A 1987-03-03 1987-03-03 透明光学用成形品 Pending JPS63213801A (ja)

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JPS63213801A true JPS63213801A (ja) 1988-09-06

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