JPS63208746A - Defect inspecting device - Google Patents

Defect inspecting device

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JPS63208746A
JPS63208746A JP62042247A JP4224787A JPS63208746A JP S63208746 A JPS63208746 A JP S63208746A JP 62042247 A JP62042247 A JP 62042247A JP 4224787 A JP4224787 A JP 4224787A JP S63208746 A JPS63208746 A JP S63208746A
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pellicle
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すなお 村田
Kinya Kato
欣也 加藤
Kazunori Imamura
今村 和則
Fumitomo Hayano
史倫 早野
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Abstract

PURPOSE:To perform inspection without any irregularity in sensitivity by correcting foreign matter information which is detected photoelectrically according to transmissivity characteristics corresponding to the angle of light incidence on a light-transmissive substrate (e.g. pellicle) provided nearly in parallel to a substrate to be inspected (e.g. reticle). CONSTITUTION:Laser light 100 from a laser 11 is made incident on the pellicle 2a through half-mirrors 12 and 13 and a mirror 15 and photodetecting elements 3 and 4 measure the quantities of transmitted light 106 and reflected light 105 respectively. The pellicle 2a is rotated on an axial l1 and light transmissivity and a reflection factor corresponding to an angle theta of incidence are measured and stored. Then laser light passed through the prism 12 and a mirror 19 scans on the reticle 22 with the pellicle 23a through a scanning mirror 20 and a lens 21. Photodetecting elements 25 and 27 detect scattered light from foreign matter on the surface of the reticle 22. Their detection results are corrected with the measured and stored transmissivity according to the angle of light incidence on the pellicle 23a. Then there is no irregularity in sensitivity with the scanning position.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体素子の製造に使われるマスクやレチクル
に存在する欠点、特にマスクやレチクルに付着した異物
を検出する装置に関し、特に環境中に浮遊する微小なゴ
ミからマスクやレチクルを保護する目的で、透明な基板
(高分子薄膜又はガラス板)を一体に設けたマスクやレ
チクル又は透明基板自体等を検査する装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a device for detecting defects existing in masks and reticles used in the manufacture of semiconductor devices, and in particular foreign matter adhering to masks and reticles, and particularly relates to an apparatus for detecting foreign matter attached to masks and reticles, and particularly to an apparatus for detecting defects present in masks and reticles used in the manufacture of semiconductor devices. The present invention relates to a device for inspecting a mask or reticle, or a transparent substrate itself, which is integrally provided with a transparent substrate (polymer thin film or glass plate) for the purpose of protecting the mask or reticle from floating minute dust.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、マスクやレチクル(以下、レチクルで代表する)
を光ビームで走査して、付着した異物を自動検出する装
置として、特開昭58−62543号公報、特開昭58
−62544号公報等に開示されたものが知られている
。この装置は集光したレーザ光のスポットをレチクル表
面に10°〜45″の角度で入射させた状態で、例えば
ガルバノミラ−(振動鏡)等でX方向に一次元走査し、
レチクルをy方向に移動させ、レチクル表面から生じる
反射光のうち、側方散乱光、後方散乱光等を、レーザ光
照射位置に対して特定の空間位置に配置された複数の光
電検出器で受光することによって、異物の有無、付着状
況、大きさ等を検査するものである。
Traditionally, masks and reticles (hereinafter referred to as reticles)
JP-A-58-62543, JP-A-58
One disclosed in Japanese Patent No.-62544 and the like is known. This device scans one-dimensionally in the X direction using, for example, a galvanometer mirror (vibrating mirror) with a focused laser beam spot incident on the reticle surface at an angle of 10° to 45''.
The reticle is moved in the y direction, and among the reflected light generated from the reticle surface, side scattered light, back scattered light, etc. are received by multiple photoelectric detectors placed at specific spatial positions relative to the laser beam irradiation position. By doing so, the presence, adhesion status, size, etc. of foreign objects can be inspected.

このような検査装置において、近年、高分子薄膜(以下
ペリクルと呼ぶ)付きのレチクルに対しても有効な検査
ができるようにすることが望まれてきた。
In recent years, it has been desired that such an inspection apparatus be capable of effectively inspecting a reticle with a thin polymer film (hereinafter referred to as a pellicle).

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

従来の装置でペリクル付のレチクルをそのまま検査する
場合、以下のような問題点が生じることが本願発明者に
よって確認された。
The inventor of the present application has confirmed that the following problems occur when a reticle with a pellicle is inspected as is with a conventional apparatus.

第1点は、レーザ光がペリクル側からレチクルに入射す
る際、レーザ光が斜入射で走査されているために、走査
位置に応じて入射角が変化し、レチクル面に達するレー
ザ光のスポット光強度が変化することである。これはペ
リクルに対するレーザ光の入射角が変化することによっ
て、そのレーザ光に対する光透過率が見かけ1変化する
ことに起因する。
The first point is that when the laser beam enters the reticle from the pellicle side, the laser beam is scanned at oblique incidence, so the incident angle changes depending on the scanning position, and the spot light of the laser beam reaches the reticle surface. This is because the intensity changes. This is because the light transmittance of the laser beam apparently changes by 1 when the angle of incidence of the laser beam on the pellicle changes.

第2点は、光電検出器が特定の空間に配置され、異物の
付着位置、すなわぢスポット光の走査位置に応じて、異
物から光電検出器に達する散乱光の光路とペリクルとの
なす角度が変化することである。これも散乱光のペリク
ルに対する入射角が変わることで生じるペリクルの見か
け上の光透過率変化に起因する現象である。
The second point is that the photoelectric detector is placed in a specific space, and depending on the adhesion position of the foreign object, that is, the scanning position of the spot light, the angle between the optical path of the scattered light reaching the photoelectric detector from the foreign object and the pellicle is determined. is to change. This is also a phenomenon caused by a change in the apparent light transmittance of the pellicle caused by a change in the incident angle of the scattered light with respect to the pellicle.

このため、ペリクルの付いていないレチクルと、ペリク
ル付きのレチクルとでは、例え同位置に同程度の異物が
付着していても、異物の検出感度が異なってしまうとい
った不都合が生じることになる。
For this reason, a reticle without a pellicle and a reticle with a pellicle have different foreign object detection sensitivities even if the same amount of foreign matter is attached to the same position.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

そこで本発明では、被検査基板(レチクルやマスク等)
とほぼ平行に設けられる光透過性基板(ペリクル又は保
護ガラス板)の光透過率又は反射率、具体的には透過率
又は反射率の光線(レーザ光又は散乱光)の入射角変化
に依存した変化特性を入力する入力手段、例えば予め算
出、又は実験により求めた透過率の変化特性に関する情
報を記憶するメモリ、あるいは実測する測定部を設ける
。そして、レーザ光をペリクルを介してレチクルに入射
するか、異物からの散乱光をペリクルを介して光電検出
する場合には、光電検出された異物の情報(電気信号又
はソフトウェア上の数値データ)を透過率の変化特性に
よって補正する補正手段を設けるようにした。
Therefore, in the present invention, the substrate to be inspected (reticle, mask, etc.)
The light transmittance or reflectance of a light transmitting substrate (pellicle or protective glass plate) provided almost parallel to the An input means for inputting the change characteristics, for example, a memory that stores information regarding the change characteristics of transmittance calculated in advance or experimentally determined, or a measuring section for actually measuring the change characteristics is provided. When laser light is incident on a reticle through a pellicle, or when scattered light from a foreign object is photoelectrically detected through a pellicle, information on the photoelectrically detected foreign object (electrical signal or numerical data on software) is collected. A correction means is provided for correction based on the change characteristics of transmittance.

〔作用〕[Effect]

上記構成により、レーザ光等がレチクルを走査するとき
に生じる各稲光(レーザ光、あるいは散乱光)のペリク
ルに対する入射角が変化しても、この入射角変化に応じ
て異物の検出感度がハードウェア上、又はソフトウェア
上で補正されることになり、検査領域全面で均一な異物
検出感度を得ることができる。
With the above configuration, even if the angle of incidence of each lightning bolt (laser light or scattered light) on the pellicle changes when a laser beam or the like scans the reticle, the foreign object detection sensitivity will be adjusted by the hardware according to the change in the angle of incidence. This is corrected on the top or software, and it is possible to obtain uniform foreign object detection sensitivity over the entire inspection area.

この検出感度の補正は、レーザ光が一次元に走査される
場合は、−次元の走査位置に応じて光電信号に対してリ
アルタイムに加えることができる。
When the laser beam is scanned in one dimension, this detection sensitivity correction can be applied to the photoelectric signal in real time according to the scanning position in the -dimension.

従って検査にあたって、ペリクル付レチクルか否かのみ
を指定すれば、その両者に対してほぼ同一の検出感度で
異物の付着の有無、異物の大きさ、あるいは付着状況を
自動的に検査することができる。
Therefore, by specifying only whether the reticle is equipped with a pellicle or not, it is possible to automatically inspect the presence or absence of foreign objects, the size of the foreign objects, and the state of adhesion with almost the same detection sensitivity for both. .

〔実施例〕〔Example〕

第1図は、本発明の第1の実施例に使用される入力手段
の測定部を原理的に示す斜視図であって、1、.12は
、ペリクルフレーム2に張設されたペリクル(薄膜)2
a上に直交するように定めた直線でペリクルフレーム2
はl、を回転軸として、モータ等により回転可能である
。レーザ光源1は異物検査時に用いるレーザ光と同じ波
長の光を出力し、そのレーザ光はN、、12を含むペリ
クル2aの面に斜入射し、その透過光は受光素子3に入
射する。直線12は光源1からのレーザ光の光軸のペリ
クル面上での写影である。
FIG. 1 is a perspective view showing the principle of a measuring section of an input means used in a first embodiment of the present invention, 1, . 12 is a pellicle (thin film) 2 stretched on a pellicle frame 2;
Pellicle frame 2 with a straight line set perpendicular to a
can be rotated by a motor or the like using l as a rotation axis. A laser light source 1 outputs light of the same wavelength as the laser light used for foreign matter inspection, and the laser light is obliquely incident on the surface of the pellicle 2a including N, , 12, and the transmitted light is incident on the light receiving element 3. A straight line 12 is a projection of the optical axis of the laser beam from the light source 1 on the pellicle surface.

その際、ペリクル2aをll中心に回転させ、入射角に
対する受光素子3の光電出力を測定することにより、ペ
リクル2aの該レーザ光に対する透過率の入射角依存性
(透過率の変化特性)を知ることができる。
At this time, by rotating the pellicle 2a around ll and measuring the photoelectric output of the light receiving element 3 with respect to the incident angle, the dependence of the transmittance of the pellicle 2a on the laser beam on the incident angle (transmittance change characteristics) can be determined. be able to.

またペリクルフレーム2及びペリクル2aがすでにレチ
クルにペリクル2aとレチクル面とが平行になるように
取り付けられていた場合は、透過率を直接測定すること
は不可能だが、ペリクル2aでの反射光を受光素子4を
用いて光電検出することにより反射率の変化特性を測定
することがでこの実施例では直線lIを中心にペリクル
2aを回転したが、この回転範囲は異物検査装置におけ
る入射レーザ光とペリクル2aとが成す角度範囲、ある
いは、受光系への散乱光の角度範囲と同じであれば好都
合であるが、特にその必要はない。
Furthermore, if the pellicle frame 2 and pellicle 2a are already attached to the reticle so that the pellicle 2a and the reticle surface are parallel, it is impossible to directly measure the transmittance, but the light reflected by the pellicle 2a is received. In this example, the pellicle 2a was rotated around the straight line II, but this rotation range is limited to the range of the incident laser beam in the foreign object inspection device and the pellicle. 2a or the angular range of the scattered light to the light receiving system, but this is not particularly necessary.

なぜなら、波長の決った光線に対しである入射角範囲で
、ペリクル2aの透過率変化特性を知ることができて、
かつ、そのペリクル自体の特性つまり単一物質からでき
ているか、表面に反射防止膜を付着させているか等が判
れば、その特性は十分推定できるからである。尚、この
ペリクル2aの回転範囲によっては、反射光を検出する
受光素子4を不図示の装置でペリクル2aの回転と同期
させて移動させる必要がある。
This is because it is possible to know the transmittance change characteristics of the pellicle 2a within a certain incident angle range for a light beam of a fixed wavelength.
Moreover, if the characteristics of the pellicle itself, such as whether it is made of a single material or whether an antireflection film is attached to the surface, can be determined, the characteristics can be sufficiently estimated. Note that depending on the rotation range of the pellicle 2a, it is necessary to move the light receiving element 4 for detecting reflected light in synchronization with the rotation of the pellicle 2a using a device not shown.

また、レーザ光源1からのレーザ光の波長も異物検査用
レーザ光と同じにする必要もなく、異なっていても透過
率は推定可能である。
Further, the wavelength of the laser light from the laser light source 1 does not need to be the same as the laser light for foreign object inspection, and the transmittance can be estimated even if the wavelength is different.

さらに、光源として単色光である必要もない。Furthermore, the light source does not need to be monochromatic.

さらに本実施例ではべりクル2aの位置による厚みムラ
はないものと仮定するが、厚みムラがある場合でも後述
する方法によって十分対応できる。
Further, in this embodiment, it is assumed that there is no thickness unevenness due to the position of the flange 2a, but even if there is thickness unevenness, it can be sufficiently dealt with by the method described later.

またレーザ光源lからペリクル2aに達するレーザ光は
異物検査装置側のレーザ光と同一の開口数(N、A、)
及びスポットサイズとすることが望ましいが、かならず
しもその必要はない。
Also, the laser light reaching the pellicle 2a from the laser light source 1 has the same numerical aperture (N, A,) as the laser light on the foreign object inspection device side.
Although it is desirable that the spot size be the same, it is not necessary.

さて第2図は、第1図の測定部を異物検査装置に組み入
れた本発明の第1実施例による構成を示す斜視図である
。レーザ光源11を出たレーザビーム100はハーフプ
リズム12により透過率測定部Aに向うし□゛−ザビー
ム102異物検査部Bに向うレーザビーム101に分け
られる。測定部Aに向かうレーザビーム102は、さら
にハーフプリズム13によってレーザビーム103とレ
ーザビーム104に分けられる。レーザビーム104は
光量モニター用受光素子14によって受光される。また
、レーザビーム103はミラー15により偏向後、測定
部A内の所定位置に設置されたペリクル2aに入射する
。このペリクルフレーム2はペリクル2a上に定めた回
転軸!、のまわりを矢印111の方向に適宜モータ等に
より回転する。ペリクル2aからの反射光105又は透
過光106をそれぞれ受光素子4.3により受光し、光
線の入射角(又は射出角)θの関数として、それぞれ受
光素子14によって受光された光量を分母にとり、受光
素子3.4により受光された各光量をそれぞれ分子にと
ることによって、透過率又は反射率の変化特性を実測す
る。このとき、たとえば反射光105を測定する場合は
べりクル2a(フレーム2)の回転にともなって、受光
素子4も移動(直線11のまわりに回転)する方が、受
光素子4の受光面の小型化という点からは好都合である
。尚、第2図中の測定部Aには光学系(レンズ等)が省
略されているが、適宜最適なものが設けられることは述
べるまでもない。
Now, FIG. 2 is a perspective view showing a structure according to a first embodiment of the present invention, in which the measuring section of FIG. 1 is incorporated into a foreign object inspection apparatus. A laser beam 100 emitted from a laser light source 11 is divided by a half prism 12 into a laser beam 101 directed toward a transmittance measurement section A, and a laser beam 102 directed toward a foreign matter inspection section B. The laser beam 102 heading toward the measuring section A is further divided into a laser beam 103 and a laser beam 104 by a half prism 13. The laser beam 104 is received by the light receiving element 14 for monitoring the amount of light. Further, the laser beam 103 is deflected by a mirror 15 and then enters a pellicle 2a installed at a predetermined position within the measurement section A. This pellicle frame 2 is a rotation axis set on the pellicle 2a! , in the direction of arrow 111 by an appropriate motor or the like. The reflected light 105 or the transmitted light 106 from the pellicle 2a is received by the light receiving element 4.3, respectively, and the amount of light received by the light receiving element 14 is taken as a denominator as a function of the incident angle (or exit angle) θ of the light beam. By taking each amount of light received by the element 3.4 into molecules, the change characteristics of transmittance or reflectance are actually measured. At this time, for example, when measuring the reflected light 105, it is better to move the light-receiving element 4 (rotate around the straight line 11) with the rotation of the frame 2a (frame 2), thereby reducing the size of the light-receiving surface of the light-receiving element 4. From that point of view, it is convenient. Incidentally, although the measuring section A in FIG. 2 does not include an optical system (lens, etc.), it goes without saying that an optimal system may be provided as appropriate.

さて、透過率測定部Aでペリクル2aの入射角による透
過率変化特性が計測されると、異物検査部Bには、ペリ
クル単体又はペリクル付のレチクルが不図示の移動装置
で搬送される。本実施例ではべりタル付のレチクル22
を検査する場合を図示する。異物検査部Bでは、レーザ
ビーム101がミラー19により光路を曲げられ、スキ
ャナーミラー20で反射されて、いわゆるレーザビーム
偏向が行なわれる。走査用対物レンズ21及び不図示の
ビームエキスパンダー光学系により走査レーザビームは
、走査軌跡110(第2図ではレチクル220表面で図
示)上で焦点を結ぶ。このとき焦点上にフレーム23に
張設したペリクル23aやレチクル22の表面が位置し
、そこに異物があると、異物から散乱光を生じるが、こ
れを集光レンズ24.26を介して受光素子25.27
で受光して異物を検出する。異物検出の方法は種々提案
されているが、基本的には先に揚げた特開昭58−62
544号公報に開示されているように、レーザビームの
走査軌跡110のX座標位置(レーザ走査方向の位置)
による受光光学系への散乱光のとり込み率の変化を、各
受光素子からの光電信号の電気増巾率(利得)にフィー
ドバンクして補正するか、あるいは散乱光であることを
電気信号で2値化するためのコンパレート電圧(スライ
スレベル)を変化させるかして、異物の付着場所による
検出感度の変化を一様にしている。
Now, when the transmittance change characteristic of the pellicle 2a depending on the incident angle is measured in the transmittance measurement section A, the pellicle alone or the reticle with the pellicle is transported to the foreign matter inspection section B by a moving device (not shown). In this embodiment, the reticle 22 with a bevel
The following figure shows a case where a test is performed. In the foreign matter inspection section B, the optical path of the laser beam 101 is bent by a mirror 19 and reflected by a scanner mirror 20, thereby performing so-called laser beam deflection. A scanning laser beam is focused on a scanning locus 110 (shown on the surface of a reticle 220 in FIG. 2) by a scanning objective lens 21 and a beam expander optical system (not shown). At this time, the surfaces of the pellicle 23a and reticle 22 stretched over the frame 23 are located on the focal point, and if there is a foreign object there, scattered light will be generated from the foreign object, but this will be transmitted to the light receiving element via the condensing lens 24 and 26. 25.27
Detects foreign objects by receiving light. Various foreign object detection methods have been proposed, but the basic method is the method of Japanese Patent Application Laid-open No. 58-62 mentioned earlier.
As disclosed in Japanese Patent No. 544, the X-coordinate position of the scanning locus 110 of the laser beam (position in the laser scanning direction)
The change in the rate of absorption of scattered light into the light-receiving optical system due to By changing the comparator voltage (slice level) for binarization, changes in detection sensitivity depending on the location of foreign matter are made uniform.

ここでレチクル22にはべりクル23aが貼付されてい
ると、レーザビーム101が斜入射であることから、レ
ーザビーム101のペリクル23aにおける透過率が1
ではないことがあり、さらに、入射ビーム光学系(レン
ズ21等)が、いわゆるテレセンドリンク光学系でない
場合はレーザビームの走査により、入射角が変化してい
るので透過率も一定とならない。かつ、異物からの散乱
光においても、受光光学系(レンズ24.26)への散
乱光の光線とペリクル23aとのなす角度がレーザビー
ムの走査位置により変化するので、たとえばレチクル2
2上の異物からの散乱光信号は、ペリクルの有無により
レーザビームが例え同一走査位置にあったとしても変化
することになる。
Here, if the pellicle 23a is attached to the reticle 22, since the laser beam 101 is obliquely incident, the transmittance of the laser beam 101 at the pellicle 23a is 1.
Furthermore, if the incident beam optical system (lens 21, etc.) is not a so-called telescend link optical system, the incident angle changes due to laser beam scanning, so the transmittance will not be constant. In addition, even for scattered light from a foreign object, the angle between the rays of scattered light to the light receiving optical system (lenses 24 and 26) and the pellicle 23a changes depending on the scanning position of the laser beam.
The scattered light signal from the foreign object on the laser beam 2 changes depending on the presence or absence of a pellicle even if the laser beam is at the same scanning position.

またペリクル23aの内側の面に付着している異物から
の散乱光についても同様に、レーザビームの走査位置に
応じて強度変化をうける。このときの変化は、ペリクル
23aの膜厚等が判れば、推定できるが、この情報は透
過率測定部Aにより得ることができるので、レーザビー
ムを走査させた異物検出時に容易に補正することができ
る。
Similarly, the intensity of scattered light from foreign matter adhering to the inner surface of the pellicle 23a changes depending on the scanning position of the laser beam. The change at this time can be estimated if the film thickness of the pellicle 23a is known, but since this information can be obtained by the transmittance measuring section A, it can be easily corrected when detecting a foreign object by scanning the laser beam. can.

なお、この補正は異物検出時に行なう必要はなく、検出
後、異物の大きさや位置等を検査結果として表示させる
時に、ソフトウェア上の演算で補正をかけても構わない
。このときは透過率や反射率の変化特性の測定を異物検
査の後で行なえる。
Note that this correction does not need to be performed at the time of detecting a foreign object, and may be corrected by calculation on software when displaying the size, position, etc. of the foreign object as an inspection result after detection. In this case, the change characteristics of transmittance and reflectance can be measured after the foreign matter inspection.

異物検査は、レチクル22をy方向に移動させることに
よりレーザビーム走査を2次元的に行ない、全面検査を
行う。また、レチクル22又はペリクル23aの異物検
査は、不図示のZ方向に移動するステージにてレーザビ
ームのスポット光の走査軌跡110をレチクル表面上ま
たはペリクル面上に移してから、y方向移動により、そ
れぞれレチクル22及びペリクル23a上の異物検査を
行なう。
In the foreign matter inspection, by moving the reticle 22 in the y direction, laser beam scanning is performed two-dimensionally, and the entire surface is inspected. In addition, foreign matter inspection of the reticle 22 or pellicle 23a is performed by moving the scanning locus 110 of the spot light of the laser beam onto the reticle surface or pellicle surface using a stage (not shown) that moves in the Z direction, and then moving it in the Y direction. Foreign matter inspection is performed on the reticle 22 and pellicle 23a, respectively.

さて第3図は、第2図で示した実施例の電気信号処理の
ブロック図である。まず、受光素子14からの光電信号
30は電圧変換器とA/D変換器等を含む前処理回路3
3を介して、CPU35に入力する。一方、受光素子3
.4のうち反射光105を受光する受光素子4からの光
電信号31は電圧変換器とA/D変換器等を含む前処理
回路34を経てCPU (計算器)35に入力する。同
時にペリクル2aの回転111を角度にしたデータ32
も、不図示のロータリーエンコーダ等からCPU35に
入力する。ペリクル2aの透過率の入射角依存性を知る
のに必要な角度範囲だけ、これらのデータをCPU35
に入力後、CPU35はレーザビーム1030人射角と
透過率の関係(透過率の変化特性)をテーブルとして作
成しておく。
Now, FIG. 3 is a block diagram of the electrical signal processing of the embodiment shown in FIG. 2. First, a photoelectric signal 30 from the light receiving element 14 is transmitted to a preprocessing circuit 3 including a voltage converter, an A/D converter, etc.
3 to the CPU 35. On the other hand, the light receiving element 3
.. 4, a photoelectric signal 31 from a light receiving element 4 that receives reflected light 105 is input to a CPU (calculator) 35 via a preprocessing circuit 34 including a voltage converter, an A/D converter, and the like. At the same time, data 32 is the angle of the rotation 111 of the pellicle 2a.
is also input to the CPU 35 from a rotary encoder (not shown) or the like. These data are sent to the CPU 35 only in the angular range necessary to know the incident angle dependence of the transmittance of the pellicle 2a.
After inputting the data, the CPU 35 creates a table of the relationship between the incident angle of the laser beam 1030 and the transmittance (transmittance change characteristics).

また、CPU35は、作成したテーブルに基づいて、X
方向のレーザビームの走査位置変化に対応した透過率を
演算により求め、これをRAM36、57に各受光素子
25.27からの信号側に記憶させる動作も行なう。従
ってこのRAM36.57の夫々に、トリガー発生器3
8からの時系列信号(パルス信号)をカウントした値を
アドレスとして印加すると、その走査位置での透過率が
自動的に読み出されることになる。
Further, the CPU 35 executes X based on the created table.
An operation is also performed in which the transmittance corresponding to the change in the scanning position of the laser beam in the direction is calculated and stored in the RAMs 36 and 57 on the signal side from each light receiving element 25 and 27. Therefore, each of the RAMs 36 and 57 has a trigger generator 3.
When the value obtained by counting the time series signals (pulse signals) from 8 is applied as an address, the transmittance at that scanning position is automatically read out.

尚、上記前処理回路33.34、CPU35、RAM3
6.57、により本発明の入力手段が構成され、掛は算
器43.44、増中度可変器49.50により本発明の
補正手段が構成される。また前処理回路33.34、C
PU35、RAM36.57は本発明における光透過性
基板(ペリクル)に関する情報を保持する部分なので、
ここを特にペリクル情報保持部37とする。
In addition, the above preprocessing circuits 33, 34, CPU 35, RAM 3
6.57 constitutes the input means of the present invention, and the multiplier 43.44 and the multiplier 49.50 constitute the correction means of the present invention. Also, pre-processing circuits 33, 34, C
PU35 and RAM36.57 are parts that hold information regarding the light-transmissive substrate (pellicle) in the present invention, so
This is particularly referred to as the pellicle information holding section 37.

ところで異物からの散乱光は受光素子25及び27に受
光され、その光量に応じた大きさの光電信号45及び4
6が得られる。この信号45.46は各々、電圧変換器
47及び48により、電圧変換される。ここで、レーザ
ビームのX方rLt査位置に関しては、トリガー発生器
38によるスタートパルスを同期信号としてのこぎり波
発生器39からの電気信号40をスキャナーミラー20
の駆動回路に入れることから、トリガー発生器38から
の時系列信号(位置に応じたパルス信号)をカウントす
ることで知ることができる。そこでこのカウント値に基
づいて散乱光が出ているときのX方向の走査位置が判る
Incidentally, the scattered light from the foreign object is received by the light receiving elements 25 and 27, and photoelectric signals 45 and 4 of a magnitude corresponding to the amount of light are generated.
6 is obtained. These signals 45 and 46 are converted into voltages by voltage converters 47 and 48, respectively. Here, regarding the scanning position of the laser beam in the
This can be determined by counting the time-series signal (pulse signal depending on the position) from the trigger generator 38. Then, based on this count value, the scanning position in the X direction when the scattered light is emitted can be determined.

ペリクルがない場合でも、受光素子25.27に入射す
る散乱光量は、受光立体角がX方向の位置に応じて変化
することから、光量の規格化のために電圧変換器47.
48の各々からの信号に対して利得調整を行なう増中度
可変器49.50が各々設けられる。このための増中度
変換定数は予め実験等により求めてROM42及び41
に記憶   “してあり、トリガー発生器38からの時
系列信号に応答してROM42.41から順次増中度変
換値を読み出し、夫々掛は算器44.43を介して増中
度可変器49及び50に入力する。これにより、X方向
の走査位置に応じた散乱光量の光電信号補正を行なって
いる。尚、掛は算器44.43の夫々の他方の入力定数
は、ペリクルがないレチクルの場合は1に設定され、R
OM42.41からの値がそのまま増巾変可変器49.
50に指示される。ここでペリクル23が貼付されてい
たときは、そのX方向の走査位置に応じた補正値をさら
にかえる必要がある。つまり、X方向の異物の位置がわ
かれば、まず、異物に入射するレーザビームの入射角が
判る。又、異物からの散乱光もある光線束として受光素
子25.27に入射することがこのときの光線束とペリ
クル23aとの入射角も、受光素子25.27の幾何学
的な配置から容易に求められる。そこで、走査軌跡11
0上でのスポット光のX方向位置に対応するトリガー発
生器38からの時系列信号を、透過率(又は反射率)の
変化特性を走査位置に対する透過率のテーブルとして記
憶したRAM57及びRAM36に人力すれば、レーザ
ビームのX方向の走査位置に応じた散乱光の透過量補正
値を順次得ることができる。このようにペリクルの存在
により生じるレーザビーム(スポット光)のX方向の走
査位置に応じた補正値は、前記ROM42及び41にあ
る補正値と同様なものなので、両者の補正値を掛は算器
44.43で掛は合わせてから増中度可変器49.50
にペリクル23aがあるときの増中度変換値として入力
すれば、ペリクル23aがあっても正しく散乱光量を規
格化できる。こうして規格化された増中度可変器49.
50からの各信号は、基準電圧(スライスレベル)53
.54と比較されるコンパレータ51.52により一定
の信号レベル以上の散乱光量に対して2値化が行なわれ
る。そして、どちらの散乱光量も一定レベル以上である
ときにデジタル信号56を出力するAND回路55によ
り、例えば、特定の方向に強く散乱光を出す、レチクル
パターンエツジからの散乱光を誤検出することなく、は
ぼ等友釣に散乱光を発生する異物の存在を知ることがで
きる。
Even if there is no pellicle, the amount of scattered light incident on the light receiving element 25.27 changes depending on the position of the solid angle of reception in the X direction, so voltage converters 47.27 are used to normalize the amount of light.
Variable multipliers 49 and 50 are provided, respectively, for performing gain adjustment on the signals from each of 48. The enhancement degree conversion constant for this purpose is determined in advance through experiments, etc., and is stored in ROM42 and 41.
In response to the time-series signal from the trigger generator 38, the intensification degree conversion values are sequentially read out from the ROM 42.41, and the respective multipliers are multiplied by the intensification degree variable device 49 via calculators 44 and 43. and 50. As a result, the photoelectric signal correction of the amount of scattered light is performed according to the scanning position in the X direction.The other input constant of each of the multipliers 44 and 43 is is set to 1 if R
The value from OM42.41 is used as is for the variable amplification variable 49.
50 is instructed. Here, if the pellicle 23 is attached, it is necessary to further change the correction value according to the scanning position in the X direction. In other words, if the position of the foreign object in the X direction is known, first the incident angle of the laser beam that is incident on the foreign object can be determined. In addition, the scattered light from the foreign object also enters the light receiving element 25.27 as a certain light ray bundle, and the angle of incidence between the light ray bundle and the pellicle 23a at this time can be easily determined from the geometrical arrangement of the light receiving element 25.27. Desired. Therefore, the scanning trajectory 11
The time-series signal from the trigger generator 38 corresponding to the X-direction position of the spot light on Then, it is possible to sequentially obtain the scattered light transmission amount correction value according to the scanning position of the laser beam in the X direction. The correction value corresponding to the scanning position in the X direction of the laser beam (spot light) caused by the presence of the pellicle is the same as the correction value in the ROMs 42 and 41, so it is easy to multiply the two correction values. 44.43, and then add the multiplication factor to 49.50.
If the intensity conversion value is input when there is a pellicle 23a, the amount of scattered light can be correctly normalized even if there is a pellicle 23a. The variable multiplier 49 standardized in this way.
Each signal from 50 has a reference voltage (slice level) 53
.. Comparators 51 and 52 compared with 54 perform binarization on the amount of scattered light above a certain signal level. By using an AND circuit 55 that outputs a digital signal 56 when both amounts of scattered light are above a certain level, for example, scattered light from a reticle pattern edge that emits strongly scattered light in a specific direction can be prevented from being erroneously detected. , it is possible to know the presence of foreign objects that generate scattered light.

以上で、異物からの散乱光は光線束としてペリクル23
aを透過することや散乱光が偏光性を有すること(偏向
成分による異物検出感度のちがい)などは、予め、CP
U35に各種物理条件として入れておけば、補正が正確
になることは明らかである。
In the above, the scattered light from the foreign object is transmitted to the pellicle 23 as a beam of light.
The fact that the scattered light has polarization properties (differences in foreign object detection sensitivity depending on the polarization component), etc., must be determined in advance by the CP.
It is clear that the correction will be more accurate if various physical conditions are included in U35.

なお、ここでペリクルによる補正手段は、この実施例と
全く同じにする必要はなく例えは、ペリクル情報保持部
37からの情報に基づいて基準電圧53−54を可変に
するように構成してもよいし、又、異物を検査後、透過
率測定部Aで透過率を測り異物検出後に異物の大きさや
位置の情報をCRTに表示するときにその表示レベルを
可変するようにしてもよい。この表示方法については例
えばPROCEEDINGS  OF  5PIEVo
1.470 (1984年3月14.15日)の242
−!−249頁に記載されたものが応用できる。この場
合はソフトウェア上の演算が本発明の補正手段に相当す
る。さらにまた、ペリクルの透過率変化特性が予め、既
知であれば、測定部Aを用いることはな(異物検査前に
、そのペリクルの透過率データを求めてCP U 3 
’5に入力してもよいことは明らかである。
Note that the correction means using the pellicle does not need to be exactly the same as in this embodiment; for example, it may be configured to make the reference voltages 53-54 variable based on information from the pellicle information holding section 37. Alternatively, after inspecting a foreign object, the transmittance may be measured by the transmittance measuring section A, and the display level may be varied when displaying information on the size and position of the foreign object on the CRT after detecting the foreign object. For this display method, for example, PROCEEDINGS OF 5PIEVo
1.470 (March 14.15, 1984) 242
-! - What is described on page 249 can be applied. In this case, the software calculation corresponds to the correction means of the present invention. Furthermore, if the transmittance change characteristics of the pellicle are known in advance, there is no need to use the measuring section A.
It is clear that it may be entered in '5.

さらにCPU35に入力した透過率データをRAM57
.36に出力するときも、予め想定されるデータを幾つ
かCPU35内部に入れておき、透過率測定部Aで得ら
れたデータとよく相応するデータを選択し、走査位置に
対応する透過率(補正ファクタ)に変換してRAM57
.36に出力する方法でもよい。この場合、CPU35
、RAM36.57に記憶される各種データは例えば第
4図に示したグラフのように定められる。CPU35に
はべりタルの種類によって予め定められる反射率の変化
特性(入射角度依存性)のいくつがが記憶される。ここ
では第4図(a)、第4図(b)に代表的に示すような
2つの変化特性がデータベースとして記憶されているも
のとする。第4図(a)、(b)で横軸はべりタルと入
射光線との成す角度θ(d e g)を表わし、縦軸は
反射率を表わす。さて、測定部Aで受光素子4により計
測された角度20°〜40°の範囲での反射率の変化特
性が、CPU35によって仮りに第4図(a)の特性A
に類似するものと判断されると、CPU35は第4図(
c)、(d)に示した補正カーブA−1、A−2のデー
タを夫々RAM36.57に出力する。第4図(C)、
(d)で横軸はレーザビームのスポット光の走査軌跡1
10上の位置を表わし、縦軸は掛は算器43.44(す
なわち増中度可変器49.50)に与える利得調整量を
表わす。第4図(C)、(d)において、補正カーブA
−1で決まる利得は例えば受光素子25からの光電信号
45に対して与えられ、走査開始点x8ではほとんど補
正が行なわれず(利得1)、走査終了点Xrでは約2倍
に増中度が上げられる。一方補正カーブA−2で決まる
利得は、受光素子27からの光電信号46に対して与え
られ、開始点Xiでは約2倍、終了点x、では約3倍に
なるようにほぼ連続的に調整される。またCPU35の
判断で、実測した反射率変化特性が第4図(b)に類似
することがわかると、CPU35は第4図(e)、(f
)に示した補正カーブB−1、B−2のデータを夫々R
AM36.57に出力する。
Furthermore, the transmittance data input to the CPU 35 is stored in the RAM 57.
.. 36, some assumed data is stored in the CPU 35, data that closely corresponds to the data obtained by the transmittance measurement section A is selected, and the transmittance (corrected factor) and convert it to RAM57
.. A method of outputting to 36 may also be used. In this case, CPU35
, various data stored in the RAM 36.57 are determined, for example, as shown in the graph shown in FIG. The CPU 35 stores some of the reflectance change characteristics (incidence angle dependence) that are predetermined depending on the type of beam. Here, it is assumed that two change characteristics typically shown in FIGS. 4(a) and 4(b) are stored as a database. In FIGS. 4(a) and 4(b), the horizontal axis represents the angle θ (d e g) between the beam and the incident light beam, and the vertical axis represents the reflectance. Now, the change characteristics of the reflectance in the angle range of 20° to 40° measured by the light receiving element 4 in the measuring section A are tentatively determined by the CPU 35 as the characteristic A shown in FIG. 4(a).
If it is determined that the CPU 35 is similar to
The data of the correction curves A-1 and A-2 shown in c) and (d) are output to the RAM 36.57, respectively. Figure 4 (C),
In (d), the horizontal axis is the scanning trajectory 1 of the laser beam spot light.
10, and the vertical axis represents the gain adjustment amount given to the multipliers 43 and 44 (ie, the multipliers 49 and 50). In Fig. 4 (C) and (d), the correction curve A
A gain determined by −1 is given, for example, to the photoelectric signal 45 from the light receiving element 25, and at the scan start point x8, almost no correction is performed (gain 1), and at the scan end point Xr, the degree of enhancement is approximately doubled. It will be done. On the other hand, the gain determined by the correction curve A-2 is given to the photoelectric signal 46 from the light-receiving element 27, and is adjusted almost continuously so that it is approximately twice as much at the starting point Xi and approximately three times as much at the end point x. be done. Further, if the CPU 35 determines that the actually measured reflectance change characteristics are similar to that shown in FIG. 4(b), the CPU 35
) The data of correction curves B-1 and B-2 shown in R
Output on AM36.57.

以上の反射率(又は透過率)の変化特性のデータベース
又は利得補正用のカーブ特性は、さらに細分化して多種
類の特性に関して予め用意しておけば、ペリクルの材質
、寸法等によらずきめ細かな感度補正ができることは述
べるまでもない。
If the above database of reflectance (or transmittance) change characteristics or curve characteristics for gain correction can be further subdivided and prepared in advance for many types of characteristics, fine-grained information can be obtained regardless of the pellicle material, dimensions, etc. Needless to say, sensitivity can be corrected.

第5図は、ペリクルの透過率の入射角依存性を測定する
第2実施例であって、第1の実施例で、透過率測定部A
に相応するものであり、ここでは反射率を測定するもの
とする。レーザビーム103は、第2図中のミラー15
のかわりにスキャナーミラー62に入射する。スキャナ
ーミラー62は矢印63の方向に回転振動してレーザビ
ーム103はレーザビーム64及びレーザビーム65で
はさまれる範囲で偏向させられる。このレーザビーム6
4及びレーザビーム65は集光レンズ60により屈折さ
せられて、レチクル22に貼付しであるペリクルフレー
ム23上のペリクル23aのP点で光軸が交わるこれら
レーザビーム64又は65も、第2図の場合と同様に所
定の開口数をもち、ペリクル23a上にスポット光とし
て集光されるものとする。
FIG. 5 shows a second embodiment of measuring the incident angle dependence of the transmittance of a pellicle.
The reflectance is measured here. The laser beam 103 passes through the mirror 15 in FIG.
Instead, it enters the scanner mirror 62. The scanner mirror 62 rotates and oscillates in the direction of an arrow 63, and the laser beam 103 is deflected within a range sandwiched between the laser beams 64 and 65. This laser beam 6
4 and the laser beam 65 are refracted by the condenser lens 60, and these laser beams 64 or 65 whose optical axes intersect at point P of the pellicle 23a on the pellicle frame 23 attached to the reticle 22 are also refracted as shown in FIG. It is assumed that the light beam has a predetermined numerical aperture and is focused as a spot light onto the pellicle 23a, as in the case of FIG.

そしてレーザビーム64は、ペリクル23aとθ、をな
す角で入射し、正反射光は同じくθ1をなす角でペリク
ル23aから反射される。同様にレーザビーム65はペ
リクル23aとθ2 (θ2〉θ、)をなす角で入射し
、正反射光は同じくθ2をなす角で正反射される。これ
らの正反射光は再び集光レンズ61により受光素子4に
集まる。
The laser beam 64 is incident on the pellicle 23a at an angle θ, and the specularly reflected light is also reflected from the pellicle 23a at an angle θ1. Similarly, the laser beam 65 is incident on the pellicle 23a at an angle of θ2 (θ2>θ,), and the specularly reflected light is also specularly reflected at an angle of θ2. These specularly reflected lights are again collected on the light receiving element 4 by the condensing lens 61.

ここで、スキャナーミラー62の回転振動の角度は、ペ
リクル23aに入射する入射角に対応するものであるか
ら、このスキャナーミラー62のエンコーダ等により検
出される角度情報と受光素子4からの光電信号とに基づ
いて、第1の実施例と同様にペリクル23aの透過率(
反射率)の入射角依存性(変化特性)が推定できる。こ
の第2の実施例によれば、ペリクルフレーム23を回転
させたり、受光素子を移動させることなく透過率の入射
角依存性が測定できるという特徴がある。
Here, since the angle of rotational vibration of the scanner mirror 62 corresponds to the incident angle of incidence on the pellicle 23a, the angle information detected by the encoder etc. of the scanner mirror 62 and the photoelectric signal from the light receiving element 4 are Based on , the transmittance of the pellicle 23a (
The incident angle dependence (change characteristics) of reflectance) can be estimated. This second embodiment has the feature that the dependence of the transmittance on the angle of incidence can be measured without rotating the pellicle frame 23 or moving the light receiving element.

以上、本発明の各実施例では、ペリクルの厚さが走査位
置のどこでも均一であるものとし、測定部Aにおける透
過率変化特性の実測もペリクル上の1点で行なった。し
かしながら、ペリクル上の位置に応じて厚みムラがある
と、これも透過率、変化の要因となる。このため、第1
図中に示した直線11又は12に沿ってペリクルを水平
移動させて、異なる位置について同様の実測を行なうと
よい。この場合、異物検査部Bでのレーザビームの走査
方向について厚みムラがある場合は、第3図中のペリク
ル情報保持部37のCPU35に、そのデータを入力し
て同様に増中度可変器49.50にて補正すればよい。
As described above, in each of the embodiments of the present invention, it is assumed that the thickness of the pellicle is uniform throughout the scanning position, and the actual measurement of the transmittance change characteristics in measurement section A was also performed at one point on the pellicle. However, if there is thickness unevenness depending on the position on the pellicle, this will also cause a change in transmittance. For this reason, the first
It is preferable to horizontally move the pellicle along the straight line 11 or 12 shown in the figure and perform similar actual measurements at different positions. In this case, if there is thickness unevenness in the scanning direction of the laser beam in the foreign matter inspection section B, the data is input to the CPU 35 of the pellicle information holding section 37 in FIG. It may be corrected by .50.

またレーザビームの走査方向と直交するy方向について
厚みムラがある場合は、レチクル(ペリクル付)がy方
向に単位移動することに同期して、増中度可変器49.
50の利得を調整すればよい。
If there is thickness unevenness in the y-direction perpendicular to the scanning direction of the laser beam, the variable intensification changer 49.
It is only necessary to adjust the gain of 50.

また各実施例では、いずれも異物検査部Bのレーザビー
ムはペリクル23a側からレチクル22に入射するもの
としたが、レチクル22側からレーザビームを照射して
、ペリクル23a側から異物の散乱光を光電検出する場
合でも同様に本発明を実施できる。さらにレチクル22
の両面にペリクル23aを所定の間隔で平行に張設する
場合でも同様である。
Furthermore, in each of the embodiments, the laser beam of the foreign object inspection section B was assumed to be incident on the reticle 22 from the pellicle 23a side. The present invention can be implemented in the same manner even in the case of photoelectric detection. Furthermore, reticle 22
The same applies to the case where the pellicles 23a are stretched in parallel at predetermined intervals on both sides.

その他、第2図に示した異物検査部Bと測定部Aとは一
体の構成としてもよい。この場合、スキャナーミラー2
0を走査中心部でスポット光が一時的に静止できるよう
に構成し、正反射光の達する位置に受光素子4を配置す
れば、同様にペリクルの透過率の変化特性が求められる
。さらに測定部Aにおいて、ペリクルに入射するレーザ
ビームは必らずしも入射角を連続的に変化させる必要は
なく、最低、2つの異なった入射角に対して実測すれば
、他の入射角の場合については演算により求めることが
できる。
Alternatively, the foreign matter inspection section B and the measurement section A shown in FIG. 2 may be configured as one unit. In this case, scanner mirror 2
0 so that the spot light can temporarily stop at the center of scanning, and the light receiving element 4 is placed at the position where the specularly reflected light reaches, the change characteristics of the transmittance of the pellicle can be determined in the same way. Furthermore, in the measurement part A, the laser beam incident on the pellicle does not necessarily have to change the incident angle continuously; if the actual measurement is made for at least two different incident angles, The case can be determined by calculation.

尚、本発明の各実施例では、レチクル表面から所定の間
隔で防塵用のペリクルを設けた場合について説明したが
、レチクル自体のガラス基板を厚いものとし、レチクル
のクロム等のパターンが形成された面に防塵用のガラス
板を一体に貼り合わせた構成のレチクルに対しても本発
明は同様に実施できる。
In each of the embodiments of the present invention, a dustproof pellicle is provided at a predetermined interval from the reticle surface. The present invention can be similarly applied to a reticle having a structure in which a dustproof glass plate is integrally bonded to the surface.

また、各実施例における異物検出感度の調整(補正)は
いずれも散乱光を光電検出した後に行なうようにしたが
、例えば第2図中のハーフプリズム12とミラー19と
の間のレーザ光路中にAOM等の光m調整器(減衰器)
を設ければ、一部の補正ファクターに関してはレチクル
面、(又はペリクル面)を走査するレーザスポット光の
強度を、走査位置に対応して予め定められた量だけ高速
に変調することにより同様に異物の検出感度を調整でき
る。
Further, although the adjustment (correction) of the foreign object detection sensitivity in each embodiment was performed after photoelectrically detecting the scattered light, for example, in the laser optical path between the half prism 12 and the mirror 19 in FIG. Optical m adjuster (attenuator) such as AOM
, some correction factors can be similarly achieved by rapidly modulating the intensity of the laser spot light scanning the reticle surface (or pellicle surface) by a predetermined amount corresponding to the scanning position. Foreign object detection sensitivity can be adjusted.

各実施例のようにレーザビームがレチクル面に斜入射し
、複数の受光素子が互いに異なる空間位置でレチクル面
上の走査軌跡を見込んでいるときは、レーザスポット光
の強度のみを調整するだけではペリクルの透過率の変化
特性等による感度ムラを完全に補正することは難しい。
As in each embodiment, when the laser beam is obliquely incident on the reticle surface and multiple light receiving elements are looking at the scanning locus on the reticle surface at different spatial positions, it is not enough to adjust only the intensity of the laser spot light. It is difficult to completely correct sensitivity unevenness due to changes in the transmittance of the pellicle.

しかし、スポット光の強度を走査位置に応じて変調する
ことができると、受光系側の電気系に与える補正量(増
中度可変器49.50の可変中等)が小さくて済み、こ
の結果異物検出の総合的なダイナミックレンジを拡大で
きるといった効果が得られる。このことはより小さな異
物から大きな異物まで適正な感度で検出できることを意
味する。尚、レーザビームを斜入射する場合でも、受光
素子の配置によってはスポット光の強度を変調させるだ
けで同様な補正ができる。
However, if the intensity of the spot light can be modulated according to the scanning position, the amount of correction given to the electrical system on the light receiving system side (variable intensification variable device 49.50, etc.) can be small, and as a result, foreign particles The effect is that the overall dynamic range of detection can be expanded. This means that it is possible to detect foreign substances from small to large with appropriate sensitivity. Note that even when the laser beam is obliquely incident, the same correction can be made by simply modulating the intensity of the spot light depending on the arrangement of the light receiving elements.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上本発明によれば、マスクやレチクル等に防塵用の透
明基板(薄膜又はガラス、板)が設けられている場合に
おいても、光ビームで相対走査される被検査領域の全面
で感度ムラの生じることが防止され、正確な欠陥検査が
達成できる。
As described above, according to the present invention, even when a dustproof transparent substrate (thin film, glass, plate) is provided on a mask, reticle, etc., sensitivity unevenness occurs over the entire surface of the inspection area that is relatively scanned by the light beam. Therefore, accurate defect inspection can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の第1実施例による透過率測定部の原理
的な構成を示す斜視図、第2図は本発明の第1実施例に
よる欠陥検査装置の構成を示す斜特性及び増中度の補正
特性を示すグラフ、第5図は透過率(反射率)測定部の
第2の実施例による原理構成を示す図である。 (主要部分の符号の説明) ■、11・・・レーザ光源 2.23・・・ペリクルフレーム 2a、23a・・・ペリクル(薄膜) 22・・・レチクル 3.4.25.27・・・受光素子 20・・・スキャナーミラー 37・・・ペリクル情報保持部 43.44・・・掛は算器 49.50・・・増巾変可変器
FIG. 1 is a perspective view showing the basic structure of a transmittance measuring section according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a perspective view showing the structure of a defect inspection device according to a first embodiment of the present invention. FIG. 5 is a graph showing the correction characteristics of the power, and FIG. 5 is a diagram showing the principle structure of the second embodiment of the transmittance (reflectance) measuring section. (Explanation of symbols of main parts) ■, 11...Laser light source 2.23...Pellicle frame 2a, 23a...Pellicle (thin film) 22...Reticle 3.4.25.27...Light reception Element 20... Scanner mirror 37... Pellicle information holding section 43.44... Multiplier 49.50... Width variable variable device

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)被検査基板とほぼ平行に光透過性の基板が設けら
れ、前記被検査基板又は前記光透過性基板の表面に存在
する欠点部を光ビームで相対走査し、該欠点部で生じる
特有の光情報を光電検出することにより、該欠点部を検
出する装置において、前記光透過性基板の光透過率又は
反射率に対応した基板情報を入力する手段と;前記光ビ
ームを前記光透過性基板を介して被検査基板に入射する
か、前記欠点部からの光情報を前記光透過性基板を介し
て光電検出する場合に、前記光電検出により得られた欠
点部の情報を前記基板情報に基づいて補正する補正手段
とを備えたことを特徴とする欠陥検査装置。
(1) A light-transmissive substrate is provided approximately parallel to the substrate to be inspected, and a defective portion existing on the surface of the substrate to be inspected or the light-transmissive substrate is relatively scanned with a light beam, and the characteristic occurring at the defective portion is scanned with a light beam. In an apparatus for detecting the defective portion by photoelectrically detecting optical information of the light transmitting substrate, means for inputting substrate information corresponding to the light transmittance or reflectance of the light transmitting substrate; When optical information is incident on the board to be inspected through the substrate or is photoelectrically detected from the defective part through the light-transmissive substrate, the information about the defective part obtained by the photoelectric detection is used as the board information. What is claimed is: 1. A defect inspection device comprising: a correction means for correcting based on the corrected information.
(2)前記光ビームを前記被検査基板に斜入射の状態で
少なくとも一次元方向に走査する走査手段を有し、前記
基板情報の入力手段は該光ビームの走査による入射角度
変化に依存した前記光透過性基板の光透過率変化の情報
を、前記走査の位置に対応して記憶する記憶回路を含む
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の装置。
(2) scanning means for scanning the light beam at an oblique incidence on the substrate to be inspected in at least one dimension; 2. The apparatus according to claim 1, further comprising a memory circuit that stores information on a change in light transmittance of the light-transmitting substrate in correspondence with the scanning position.
(3)前記基板情報の入力手段は、前記光透過性基板の
光透過率又は減裏率に関する情報を光ビームの入射角度
に対応して実測する測定部を含むことを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の装置。
(3) The substrate information input means includes a measurement unit that actually measures information regarding the light transmittance or extinction ratio of the light transmitting substrate in accordance with the incident angle of the light beam. The device according to scope 1.
(4)前記補正手段は、前記光電検出された信号の大き
さに基づいて前記欠点部を検出するにあたって、該検出
の感度を前記基板情報に応じて電気的に可変する調整回
路を含むことを特徴とする特許請求の範囲第2項又は第
3項記載の装置。
(4) The correction means includes an adjustment circuit that electrically varies the detection sensitivity in accordance with the board information when detecting the defective portion based on the magnitude of the photoelectrically detected signal. A device according to claim 2 or 3, characterized in that:
(5)前記補正手段は、前記光ビームによる検査が前記
被検査基板上の所定領域に関して終了した後に、該所定
領域内で得られた欠点部の情報に対して演算により前記
補正を加えることを特徴とする特許請求の範囲第2項又
は第3項記載の装置。
(5) The correction means may apply the correction by calculation to the information of the defective part obtained within the predetermined region after the inspection with the light beam is completed for the predetermined region on the substrate to be inspected. A device according to claim 2 or 3, characterized in that:
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