JPS63205811A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS63205811A JPS63205811A JP3889287A JP3889287A JPS63205811A JP S63205811 A JPS63205811 A JP S63205811A JP 3889287 A JP3889287 A JP 3889287A JP 3889287 A JP3889287 A JP 3889287A JP S63205811 A JPS63205811 A JP S63205811A
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- Pending
Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高透磁率磁性材料を用いた磁気ヘッドに間し
、さらに詳しくは磁気ヘッドを形成する際に、ヘッドの
ギャップ部の形成を、無電解非磁性Ｎｉ−Ｐ系合金メッ
キ層で構成した磁気ヘッドに間する。
、さらに詳しくは磁気ヘッドを形成する際に、ヘッドの
ギャップ部の形成を、無電解非磁性Ｎｉ−Ｐ系合金メッ
キ層で構成した磁気ヘッドに間する。
磁気テープ、磁気ディスク、磁気カード等の磁気記録媒
体と磁気ヘッドとの対接面近傍の空隙縁は、記録及び再
生感度に大きく影響し、このため空隙縁の機械的精度が
常時一定に保たれていることが必要である。又、磁気コ
アの作動空隙面はきれいに研磨又は鏡面研磨仕上げされ
、この面に空隙幅を決定する空隙スペーサが機械的に強
固に結合されていることが望ましい。
体と磁気ヘッドとの対接面近傍の空隙縁は、記録及び再
生感度に大きく影響し、このため空隙縁の機械的精度が
常時一定に保たれていることが必要である。又、磁気コ
アの作動空隙面はきれいに研磨又は鏡面研磨仕上げされ
、この面に空隙幅を決定する空隙スペーサが機械的に強
固に結合されていることが望ましい。
従来、Ｂ＆気ヘッドの空隙スペーサとしては、ベリリウ
ム鋼（Ｃｕ−Ｂｅ）合金、Ｔｉ、マイカ、雲母等の非磁
性箔を磁気コアの空隙形成面間に挿入して、空隙に機械
的に固着したもの、又はスパッタ、蒸着により空隙形成
面に非磁性物質を形成して、これをスペーサとするもの
がある。前者は、均一な厚さの非磁性箔を選別すること
が困難であり、特に狭い空隙間隔の磁気ヘッドを得るに
は、均一空隙間隔を有する磁気ヘッドを、量産化する上
で困難を伴う、一方後者は、薄膜形成用の装置であるた
めに、スペーサ部に相当する薄膜の厚さ制御は比較的容
易であるが、低圧あるいは真空容器内での作業であり、
量産性の点て問題となる。
ム鋼（Ｃｕ−Ｂｅ）合金、Ｔｉ、マイカ、雲母等の非磁
性箔を磁気コアの空隙形成面間に挿入して、空隙に機械
的に固着したもの、又はスパッタ、蒸着により空隙形成
面に非磁性物質を形成して、これをスペーサとするもの
がある。前者は、均一な厚さの非磁性箔を選別すること
が困難であり、特に狭い空隙間隔の磁気ヘッドを得るに
は、均一空隙間隔を有する磁気ヘッドを、量産化する上
で困難を伴う、一方後者は、薄膜形成用の装置であるた
めに、スペーサ部に相当する薄膜の厚さ制御は比較的容
易であるが、低圧あるいは真空容器内での作業であり、
量産性の点て問題となる。
又、磁気コアの空隙形成面間に、ガラス物質を充填して
なるスペーサを用いた磁気ヘッドも提案されているが、
この場合、特に狭空隙間隔を得る場合に、ガラスの厚み
を制御する技術が極めて難しい。
なるスペーサを用いた磁気ヘッドも提案されているが、
この場合、特に狭空隙間隔を得る場合に、ガラスの厚み
を制御する技術が極めて難しい。
本発明はかかる点に鑑み、量産性に優れ、機械的強度の
大きいスペーサ材を用いた磁気ヘッドの提供を主たる目
的とする。
大きいスペーサ材を用いた磁気ヘッドの提供を主たる目
的とする。
上記目的は、磁気ヘッドのスペーサ材を無電解メッキ法
による非磁性Ｎｉ−Ｐ非晶質合金とすることで達成され
る。又、磁気ヘッドのコアとなる高透磁率材料に高透磁
率を得るための熱処理を行った後、空隙対向面の部分を
研磨し、無電解メッキを施せば空隙対向面にのみメッキ
される。即ち、上記の熱処理を施すことにより、コアの
表面が薄い酸化或は窒化被膜で覆われ、研磨して金属素
地の表れた部分にだけメッキされることによる。
による非磁性Ｎｉ−Ｐ非晶質合金とすることで達成され
る。又、磁気ヘッドのコアとなる高透磁率材料に高透磁
率を得るための熱処理を行った後、空隙対向面の部分を
研磨し、無電解メッキを施せば空隙対向面にのみメッキ
される。即ち、上記の熱処理を施すことにより、コアの
表面が薄い酸化或は窒化被膜で覆われ、研磨して金属素
地の表れた部分にだけメッキされることによる。
Ｎｉ−Ｐメッキ膜は非晶質構造をとると磁性をなくし非
磁性となり、又硬さはＨｖ＝５００ないし６００にも達
するため、スペーサ材としては好ましいものである。ざ
らにＮｉ−Ｐメッキは無電解メッキ法で行うことが可能
であり、電解メッキ法の煩わしさはなくなるとともに、
公害の問題もない。
磁性となり、又硬さはＨｖ＝５００ないし６００にも達
するため、スペーサ材としては好ましいものである。ざ
らにＮｉ−Ｐメッキは無電解メッキ法で行うことが可能
であり、電解メッキ法の煩わしさはなくなるとともに、
公害の問題もない。
無電解メッキ法は、他の薄膜形成法であるスパッタ法や
蒸着法に比べ、膜形成速度が大きく生産性が高く、連続
操業による大量生産が可能となる。
蒸着法に比べ、膜形成速度が大きく生産性が高く、連続
操業による大量生産が可能となる。
本発明磁気ヘッドの実施例について図面を参照しながら
詳細に説明する。尚、高透磁率材料の一例としてＦｅ−
５ｉ−ＡＩＩ合金を用いた場合について説明を行う。
詳細に説明する。尚、高透磁率材料の一例としてＦｅ−
５ｉ−ＡＩＩ合金を用いた場合について説明を行う。
Ｆｅ−５ｉ−ＡＩ系嵩高透磁率合金合金組成は、Ｓｉ
ＩＯＸ。
ＩＯＸ。
ＡＩ ６χ、及びＦｅ Ｂａｔ、である、まず、第１図
に示す如く、Ｆｅ−５ｉ−＾１磁性合金のインゴットよ
りコア状体１を削り出し、水素ガス雰囲気中で、８００
℃の温度で３時閏保持後、常温まで冷却し熱処理を施し
た。このときコア状体の表面は酸化被膜または窒化被膜
で覆われていた。そこで空隙対向面となる面２をラッピ
ングテープで研磨した。
に示す如く、Ｆｅ−５ｉ−＾１磁性合金のインゴットよ
りコア状体１を削り出し、水素ガス雰囲気中で、８００
℃の温度で３時閏保持後、常温まで冷却し熱処理を施し
た。このときコア状体の表面は酸化被膜または窒化被膜
で覆われていた。そこで空隙対向面となる面２をラッピ
ングテープで研磨した。
ついで、研磨されたコア状体１を、市販の無電解Ｎｉ−
Ｐメッキ液を用いてメッキした。このときの条件は、メ
ッキ液のＰＨは１２．５であり、処理温度は１３℃と゛
し、メッキ厚は０．５μ−とした、ここでコア状体ｌに
おいて、メッキされた部分は空隙対向面２のみであり、
その他の部分即ち熱処理により酸化もしくは窒化被膜の
ついた部分には、メッキはされていなかった。
Ｐメッキ液を用いてメッキした。このときの条件は、メ
ッキ液のＰＨは１２．５であり、処理温度は１３℃と゛
し、メッキ厚は０．５μ−とした、ここでコア状体ｌに
おいて、メッキされた部分は空隙対向面２のみであり、
その他の部分即ち熱処理により酸化もしくは窒化被膜の
ついた部分には、メッキはされていなかった。
本実施例に於て、Ｎｉ−Ｐメッキ層には、Ｐがは鵠１６
ａｔＸのＮｉ−Ｐ膜が析出し、Ｎｉ−Ｐメッキ層の結晶
構造をＸ線回折装置で調べた結果、非晶質構造であるこ
とが確認された。又、Ｎｉ−Ｐメッキ層は、種々条件を
変えた処理の結果、Ｐの組成が１２ないし２１ａｔｘの
Ｎｉ−Ｐ層で非晶質化していることが確認された。
ａｔＸのＮｉ−Ｐ膜が析出し、Ｎｉ−Ｐメッキ層の結晶
構造をＸ線回折装置で調べた結果、非晶質構造であるこ
とが確認された。又、Ｎｉ−Ｐメッキ層は、種々条件を
変えた処理の結果、Ｐの組成が１２ないし２１ａｔｘの
Ｎｉ−Ｐ層で非晶質化していることが確認された。
このようにして作られたコア状体を、互いに対向するよ
うに圧接して（第２図）磁気ヘッドを作成したく本発明
ヘッド）、比較のために、厚さｌμ−のＴｉ箔をスペー
サとして使用した磁気ヘッドを同時に作成した〈従来ヘ
ッド）０本発明ヘッドと従来ヘッドを比較すると、記録
再生特性については差が認められなかったが、摩耗特性
は本発明ヘッドの方が優れていた。磁気カードの１万バ
ス時の摩耗量は従来ヘッドの２７３であった。
うに圧接して（第２図）磁気ヘッドを作成したく本発明
ヘッド）、比較のために、厚さｌμ−のＴｉ箔をスペー
サとして使用した磁気ヘッドを同時に作成した〈従来ヘ
ッド）０本発明ヘッドと従来ヘッドを比較すると、記録
再生特性については差が認められなかったが、摩耗特性
は本発明ヘッドの方が優れていた。磁気カードの１万バ
ス時の摩耗量は従来ヘッドの２７３であった。
ざらに、高透磁率材料として８０ＸＮｉ−？Ｎｂ−Ｂａ
１．Ｆｅ合金を用いて上記と同様に試験した。但し、熱
処理温度は１１００℃とし、無電解メッキ条件はＰＨ＝
１２．５、処理温度２０℃とした。このようにして作成
されたヘッドとＴ１をスペーサとして作成したヘッドと
を比較すると、前者は後者に比べ摩耗量が２７３となっ
ていた。
１．Ｆｅ合金を用いて上記と同様に試験した。但し、熱
処理温度は１１００℃とし、無電解メッキ条件はＰＨ＝
１２．５、処理温度２０℃とした。このようにして作成
されたヘッドとＴ１をスペーサとして作成したヘッドと
を比較すると、前者は後者に比べ摩耗量が２７３となっ
ていた。
なお、コア材料をＦｅ−５ｉ−ＡＩＩ合金とした時に、
透磁率を改善向上させるために、メッキ処理前に熱処理
を施すことは本願にはさらに有効であるが、何ら限定す
るものではない。
透磁率を改善向上させるために、メッキ処理前に熱処理
を施すことは本願にはさらに有効であるが、何ら限定す
るものではない。
以上述べた如く磁気ヘッドの磁極片の空隙対向面上に、
無電解Ｎｉ−Ｐ非晶質合金メッキ層を設けることにより
、量産性に優れ、しかも機械的強度の大きいスペーサを
有する磁気ヘッドが実現される。
無電解Ｎｉ−Ｐ非晶質合金メッキ層を設けることにより
、量産性に優れ、しかも機械的強度の大きいスペーサを
有する磁気ヘッドが実現される。
第１図は本発明ヘッドの製造途中工程の説明に供する磁
極片の斜視図。 第２図は同じく磁極片同士を圧接したコアの断面図。 １ ＋ １ ’−Ｆｅ−５ｉ−ＡＩ合金コア。 ２（２ａ、２ｂ）・・・空隙対向面。 ３・・・無電解Ｎｉ−Ｐ非晶質合金メッキ層。
極片の斜視図。 第２図は同じく磁極片同士を圧接したコアの断面図。 １ ＋ １ ’−Ｆｅ−５ｉ−ＡＩ合金コア。 ２（２ａ、２ｂ）・・・空隙対向面。 ３・・・無電解Ｎｉ−Ｐ非晶質合金メッキ層。
Claims (1)
- 磁気空隙面となる面を研磨した磁気ヘッド用の一対の高
透磁率磁性材料よりなる磁極片を用意し、上記一対の磁
極片を少なくとも一方の研磨した磁気空隙面上に、無電
解メッキ法により所定厚みの非磁性Ｎｉ−Ｐ系合金層を
設けたことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3889287A JPS63205811A (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3889287A JPS63205811A (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63205811A true JPS63205811A (ja) | 1988-08-25 |
Family
ID=12537855
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3889287A Pending JPS63205811A (ja) | 1987-02-20 | 1987-02-20 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63205811A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990057751A (ko) * | 1997-12-30 | 1999-07-15 | 윤종용 | 헤드 폴의 결정 균일화 방법 |
-
1987
- 1987-02-20 JP JP3889287A patent/JPS63205811A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19990057751A (ko) * | 1997-12-30 | 1999-07-15 | 윤종용 | 헤드 폴의 결정 균일화 방법 |
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