JPS63205807A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は高抗磁力のメタルテープに対応するために磁気
コアのギャップ近傍部に高飽和磁束密度の強磁性金属薄
膜を配置した所謂複合型の磁気ヘッドの製造方法に関す
る。

（ロ）従来の技術 近年、８ミリビデオテープレコーダ、デジタルオーディ
オテープレコーダの様に記録媒体として高抗磁力のメタ
ルテープを使用する場合、これに対応する磁気ヘッドと
しては、例えば特開昭６１−１７２２０３号公報（Ｉ　
Ｐ　Ｏ：　Ｃ）１１Ｂ５／１２７）に開示されているよ
うに、作動ギャップの近傍部分を磁気コアとして使用さ
れるフェライトよりも飽和磁化の大きな磁性材料（例え
ば、パーマロイ、センダスト、アモルファス磁性体）で
構成した複合型の磁気ヘッドが提案されている。

そして、従来この種の磁気ヘッドの製造方法としては、
Ｍｎ−Ｚｎフェライト単結晶のような強磁性酸化物基板
に傾斜溝加工、強磁性金属薄膜形成、鏡面研磨、トラッ
ク幅規制溝加工等を行い、このような加工が行われた一
対の基板を所定のギャップスペーサを介してガラス接合
した後、所定の角度でスライスしてヘッドチップを形成
していた。

しかし乍ら、上述の製造方法の場合、強磁性酸化物基板
に傾料溝加工を施した後、強磁性金属薄膜をスパッタリ
ング等によシ被着形成すると、前記基板と薄膜との間に
は熱膨張係数の違いから歪が生じ、その後の鏡面研磨や
トラック幅規制溝加工により前記基板にヒビが多数発生
したり、膜が剥れたりして歩留りが悪かった。

そこで、上述のヒビや膜の剥れｅｌｓ／ｊ止するために
、傾斜溝が形成された強磁性酸化物基板に強磁性金属薄
膜を被着した仮、前記＃Ｉ糾喜にガラスを充填して被験
全保護する方法が提案されている。

しかし乍ら、この製造方法の場合、強磁性酸化物基板の
片面にガラスを充填すると、前記基板とガラスとの熱膨
張係数の違いにより充填後に前記基板には大きな反シが
生じ、後工程の鏡面研磨に多大の時間ｔ−要し、加工棺
度も劣化した。また、前記基板を小屋にすれば反りは小
さくなるがチップの取れ童が減少し量産には適さない。

尚、この時の熱膨張係数の違いと基板の反りの方向との
関係は、ガラスの熱膨張係数が基板のそれより大きけれ
ば、創面基板は傾斜溝を有する面が凹むように反り、ガ
ラスの熱膨張係数が基板のそれより小さければ前記基板
は傾斜溝を有する面が突出するように反る。

（ハ）発明が解決しようとする問題点 本発明は上記従来例の欠点に鐵みなされたものであり、
大型の強磁性酸化物基板においても基板に反りが生じる
ことなしに前Ｈ上基板と強磁性金に４薄膜との熱膨張係
数の違いにより生じる士ヲ抑え、量産性に潰れた磁気ヘ
ッドの製造方法を提供することを目的とするものである
。

、に）問題点を解決するための手段 強磁性酸化物基板の上面及び下面に第１溝を形成した後
、強磁性金属薄膜を形成し、前記上面及び下面の第１ｇ
にガラスを充填する。

（ホ）作　用 上記方法に依れば、強磁性酸化物基板の上面及び下面が
同じ構成になるので、前記基板が大型であっても、前記
基板には反りは生じない。

（へ）実施例 以下、図面を参照しつつ本発明の磁気ヘッドの製造方法
について詳細に説明する。

先ず、両面研磨等によって高精度に厚みが均一化された
Ｍ　ｎ　−Ｚ　ｎフェライト単結晶等よりなる強磁性酸
化物基板ｉｌ＋を用意し、該基板（１）の上面〔１ａ）
及び下面（１ｂ）に第２図に示すように角度θで傾いて
いる斜面（２ａ）（２ａ）を備える傾斜溝＋２１＋２１
を回転砥石等を用いて全幅に亘って一定のピッチで複数
形成する。

次に、＠５図に示すように前記基板（１）の上面（１ａ
）及び下面（１ｂ）にセンダスト合金、アモルファス合
金等の強磁性金属薄膜（３１（３１ｔ−スパッタリング
法、蒸着法等の真空薄膜形成技術を用いて被着する。

次に、第４図に示すように、前記基板（１）の上面（１
ａ）及び下面〔１ｂ）の傾斜溝＋２１＋２１に低融点ガ
ラス等の酸化物ガラスｆ４１（４１を充填した後、前記
上面（１ａ）及び下面（１ｂ）を平面研削して余分な強
磁性金属薄膜を除去した後、鏡面研磨して第５図に示す
ように斜面（２ａ）（２ａ）に被着した強磁性金属薄膜
（３１１３１を露出させてギャップ形成面（５）を形成
する。

次に、第６図に示すように前記基板［１１の上面【１ａ
）及び下面（１ｂ）に所望のトラック幅ｔが得らｎるべ
くトラック幅規制溝（６１（６１を前記傾斜溝［２＋＋
２１と平行に一定のピッチで加工形成する。

次に、前記基板（１１の下面（１ｂ）に前記傾斜溝（２
）と直交する方向に巻線溝（７１及びガラス棒挿入溝（
８）を形成する。そして、前記基板＋１１の上面（１ａ
）及び下面（１ｂ）の両面、若しくはその片面に所望の
ギャップ長が得られるようにギャップスペーサとなる５
ｉＯ２（図示せず）を蒸着法、スパッタリング法、イオ
ンブレーティング法等によって形成する。そして、この
ように加工された強磁性酸化物基板＋１１を複数枚用意
し、こｎもの基板…（１）・・・を第７図に示すように
上面〔１ａ）と下面（１ｂ）のギャップ形成面ｆ５１（
５１が衡き合うように重ね合わせる。そして、前記ガラ
ス棒挿入溝（８１（８１に前記酸化物ガラス（４）より
低融点であるガラス棒（９１を挿入し、加熱昇温するこ
とにより前記トラック幅規制辱（６）にガラス１Ｉｌｊ
を充填して前記複数の基板＋１ｌｆｌ＋　’？ガラス接
合しコアブロックσＤを形成する。

尚、この時、前記コアブロック［１１１の最上部の強磁
性酸化物基板ｉｌｌの上面（１ａ）及び最下部の強磁性
酸化物基板（１１の下面（１ｂ）にはトランク幅規制溝
（６）全形成しても形成しなくてもよい。

次に、前記コアブロック１ｌｌｌ全破線Ａに沿って切断
して第８図に示すような小ブロックｄｚヲ複数個形成し
、その俊、前記小ブロック（１２１を仮線Ｂに示す１１
ｉＺ置まで所望の曲率半径でＢ付加工を行う。そして、
この小ブロック（１２１をアジマス角度だけ傾いた斜線
部分（１３だけ取り除くようにスライスして、第１図に
示すような強磁性酸化物よりなる一対の磁気；ア半体（
１４１（１４１のギャップ（１５１近傍部に強磁性金属
薄膜（３）を有する複合型のヘッドチップ１６１を複数
個形成する。

上述のような磁気ヘッドの製造方法では、強磁性酸化物
基板ｆｌ＋の上面（１ａ）及び下面（１ｂ）に傾斜溝＋
２１１２１を形成した後、強磁性金属薄膜１３）を形成
し、前記傾斜溝＋２１＋２１に酸化物ガラス（４）を充
填するので、前記基板（１１の上面（１ａ）及び下面（
１ｂ）が同じ構成となり、上面（１ａ）と下面（１ｂ）
には熱膨張係数の差がなくなる。従って、前記基板１１
１を大型にしても、該基板ｉｌ＋には反りが生じず、生
産性が向上する。

尚、本発明の磁気ヘッドの製造方法はコアブロックαυ
形成後の破線Ａの切断によシヘッドテツプの横幅が規制
されるので、特にダブルアジマスヘッド等の非対称ヘッ
ドチップの製造において工数の低減が計れる。

（ト）　　発明の効果 本発明に依れば、強磁性酸化物基板を大型化しても、前
記基板に反シが起こることなく前記基板にヒビが発生し
た９、強磁性金属薄膜が剥れるのを防止し、生産性に優
れた磁気ヘッドの製造方法を提供し得る。

【図面の簡単な説明】

図面は何れも本発明に係シ、第１図は磁気ヘッドの外観
を示す斜視図、第２図、第５図、第４図、第５図、第６
図、第７図及び第８図は夫々、磁気ヘッドの製造方法を
示す図である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）強磁性酸化物よりなる一対の磁気コア半体のギャ
   ップ形成面に強磁性金属薄膜が被着された磁気ヘッドの
   製造方法において、複数の強磁性酸化物基板の上面及び
   下面に第１溝を形成する工程と、前記上面及び下面に強
   磁性金属薄膜を被着する工程と、前記複数の基板の上面
   若しくは下面に巻線用の第２溝を形成する工程と、前記
   複数の基板をその上面と下面とが対向するように重ね合
   わせて接合してコアブロックを形成する工程と、前記ブ
   ロックを切断して一対の磁気コア半体よりなるヘッドチ
   ップを形成する工程とを有する磁気ヘッドの製造方法。