JPS63196829A - 光導波路障害点探索方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、光導波路内に存在する欠陥等の障害点の位置
およびその障害点において散乱される光のパワー等のよ
うに障害を示す情報を得る光導波路障害点探索方法およ
び装置に関するものである。

［従来の技術］ 光導波路内の欠陥の位置および形状等の特性を測定する
方法は種々報告されている。たとえば、散乱光の大きさ
および散乱分布を測定することによって、導波路の欠陥
を特徴づける方法が提案されている。

かかる従来の導波路障害点探索技術の一例を第５図を参
照して説明する。

第５図において、１はレーザ、２は集光用レンズ、３は
被測定用の光導波路、４．５および６は光導波路３内に
存在する散乱点、７はスリット、８は光検出器、９は処
理系である。ここでレーザ１からのレーザ光を、レンズ
２により光導波路３内に導波させる。この光導波路３内
に散乱点４が存在すると、レーザ光は四方に散乱される
。この散乱光を第１図に示す通り、スリット７を通して
光検出器８に入射させて散乱パワーを受光する。

その光検出信号を処理系９に供給して、散乱点４で発生
した散乱光のパワーを検出する。また光検出器８を光導
波路３を中心として回転させながら散乱パワーを測定す
ることによって、散乱パワーも測定可能となる。

しかし、スリット７を用いることによりて光検゛出器８
への入射仰角を小さくしても、接近した他の散乱点５か
らの散乱光の一部も光検出器８へ入射する。また散乱点
４より十分離れた位置６に散乱点が存在した場合には、
散乱点６で散乱された光の一部分は、コアとクラッドと
の境界部、あるいはクラッドと空気との境界部で多重反
射して光検出器８に入射する。このように、従来の探索
方法には、光導波路の各点における散乱光の大きさを正
確に求めることが難しいという欠点があった。

このような問題点を解決するために、導波路内の散乱点
を０ＴＤＲ（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｔｉｍｅ　Ｄｏｍａｉｎ
Ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｒｙ）を用いて測定する従来技
術もある。この従来技術を第６図を参照して説明する。

第６図において、１０はパルス光を発生するレーザ、１
１はビームスプリッタ−１１２は集光レンズ、１３は被
測定用光導波路、１４はアバランシ・ホトダイオード、
１５はオシロスコープである。第６図において、レーザ
１０は光パルスを発生するレーザである。その光パルス
をビームスプリッタ−１１を通して集光レンズ１２によ
って光導波路１３内に導く。

光導波路１３内を伝搬し、この光導波路１３内の各散乱
点で後方散乱される光パルスは、各散乱地点に応じて、
一定の群遅延時間差を生じる。したがって、後方散乱光
を、集光レンズ１２を介してビームスプリッタ−１１で
取り出し、これをアバランシ・ホトダイオード１４で受
光してオシロスコープ１５で観測することにより、各散
乱点で生じた散乱光の光強度を各散乱点に対応した時間
的な変化として測定することが可能となる。

［発明が解決しようとする問題点］ しかし、通常のレーザでは、光パルスの時間幅は最低Δ
ｔ＝ｉｎｓであり、これは空間分解能がＣΔｔ／２　＝
　１５ｃｍと比較的長いため、ＬｉＮｂＯ３等の短尺導
波路（長さは１ｃｍ程度）内で生じた後方散乱光を散乱
光間の群遅延時間差に基づいて識別することはむずかし
いという欠点があった。

一方、モードロツタ色素レーザを用いれば、１　ｐｓ　
（＝　１Ｏ−１２ｓｅｃ）以下の短光パルスを発生させ
ることは可能であるものの、現在の光検出器で゛は、そ
の応答速度が制限されていることによって、かかる短光
パルスを検出することは困難であり、結局、空間分解能
を数ｃｍ以下にすることは不可能であるという欠点があ
った。

そこ゛で、本発明の目的は、１ｃｍ程度の短尺な光導波
路内の散乱点を、数ｌＯμｍ程度の空間分解能で測定可
能な光導波路障−害点探索方法および装置を提供するこ
とにある。

［問題点を解決するための手段］ このような目的を達成するために、本発明では、スペク
トル幅の広い光源を用い、かつ光導波路内で生じた散乱
光と参照光とを干渉させ、その干渉成分により散乱光の
光パワーを検出し、参照光との群遅延時間差より散乱地
点を測定する。

すなわち、本発明探索方法は、スペクトル幅の広い光源
を用い、光源からの出射光を被測定用光導波路に入射さ
せ、当該光導波路内の各点に存在する欠陥その他の障害
点で後方に散乱されて入射方向に伝搬する後方散乱光と
光源からの出射光の一部による参照光とを干渉させ、後
方散乱光と参照光とに遅延時間または光路差を与え、各
遅延時間に対する干渉成分を測定することによって、光
導波路内の各点で散乱される光のパワーを検出して障害
点の位置を求めることを特徴とする。

本発明探索装置の第１形態は、スペクトル幅の広い光源
と、光源からの出射光の一部を被測定用光導波路に入射
させる光学系と、光源からの出射光の一部を分離して参
照光とするための光学系と、光導波路からの散乱光と参
照光とを合波するための光学系と、その合波された光の
中の散乱光と参照光との間の光路差を変化させるための
光学系と、合波光を受光しその受光した光のパワーを検
出する手段とを具えたことを特徴とする。

本発明探索装置の第２形態は、スペクトル幅の広い光源
と、光源からの出射光の一部を被測定用光導波路に入射
させる光学系と、光源からの出射光の一部を分離して参
照光とするための光学系と、光導波路からの散乱光と参
照光とを合波するための光学系と、その合波された光の
中の散乱光と参照光との間の光路差を変化させるための
光学系と、合波光を受光しその受光した光のパワーを検
出する手段と、参照光または後方散乱光に位相変調を加
えるための変調手段とを具えたことを特徴とする。

［作　用］ 本発明によれば、光導波路内の障害点の位置および散乱
光の大きさを高精度に測定できることから、光導波路欠
陥成虫のメカニズムの解、明、欠陥除去のための作成条
件把握等、これまで不可能であった光導波路内部の特性
解明にとフてきわめて有効な測定方法および装置を提供
することが可能となる。

従来の技術では空間分解能が１０ｃａ＋程度であったの
に対して、本発明では、空間分解能が１０μｍ程度であ
って、従来よりも数桁以上大きい０本発明では、干渉成
分より散乱光のパワーを測定することから、従来と比較
して微弱な散乱光でも測定可能である。

［実施例］ 以下に、図面を参照して、本発明の詳細な説明する。

去】し洗上 第１図は本発明の第１の実施例を示す構成図であって、
１６はスペクトル幅２００人の光を出射するスーパー・
ルミネッセント・ダイオード（ＳＬＤ　　：ｃ、ｓ、　
ｆａｎｇ他Ａｐｐ１．　Ｐｈｙｓ、　Ｌｅｔｔ、、　４
１．５８９（１９８２）参照）、１７はコリメートレン
ズ、１８はビームスプリッタ−５１９は全反射鏡、２０
はステージ、２１は集光レンズ、２２は被測定用光導波
路、２３はシリコン・ホトダイオード、２４は電流増幅
器、２５は選択レベルメータ、２６はコンピュータであ
る。

スーパー・ルミネッセント・ダイオード１６からの出射
光はコリメートレンズ１７で平行光となった後に、ビー
ムスプリッタ−１８により２つの光束に分割される。２
分割された一方の光（反射光）は、全反射鏡１９で反射
された後に再びビームスプリッタ−１８を通過する。

一方、ビームスプリッタ−で二分割された他方の光（透
過光）は、集光レンズ２１で光導波路２２に導かれ、こ
の光導波路２２内を伝搬する。光導波路２２内で後方散
乱された光は、この光導波路２２内を入射光とは逆方向
に伝搬し、レンズ２１で平行光となった後に、ビームス
プリッタ−１８によって反射される。この反射光は全反
射鏡１９で全反射した前述の光と合波されて光検出器２
３で受光される。光検出器２３からの出力電流は電流増
幅器２４で増幅され、特定の周波数成分の振幅を選択レ
ベルメータ２５で検出し、これをコンピュータ２６に、
４記憶させる。ここで、全反射鏡１９はステージ２０上
に設置されており、このステージ２０を一定の速度で全
反射１ｉ１９への入射光の光ビーム方向に移動可能とす
る。

スーパー・ルミネッセント・ダイオード１６からの出射
光のスペクトル幅はδλ＝　２００人、中心波長はλ＝
０．８μｍである。したがって、可干渉距離δ℃は δ℃＝λ２／δλ≧３０μｍ となる。すなわち、スーパー・ルミネッセント・ダイオ
ード１６からの出射光を２分して再び合波した場合、合
波される２つの光の間の光路長（すなわち、群遅延時間
差に光速度を乗算した値）が３０μｍ以内で一致したと
きだけ干渉する。

従って、第１図に示した第１の実施例において、全反射
鏡１９の各位置に対してビームスプリッタ−１８と全反
射鏡１９とを含む干渉計内の全反射鏡１９からの参照光
と光路長が一致する後方散乱光のみが干渉することにな
る。もとより、光導波路２２内の各点で後方散乱光が生
じることから、この干渉計内の一方の経路（ビームスプ
リッタ−１８−全反射１ｉ１９−ビームスプリッタ−１
８）の光路長と等しくなるような光導波路２２内の地点
からの後方散乱光、すなわち、ビームスプリッタ−１８
→レンズ２１−光導波路２２−レンズ２１→ビームスプ
リッタ−１８の経路を経た後方散乱光を検出することに
相当する。

しかも可干渉距離が、δ℃＝３０μｍであることから、
空間分解能は３０μｍとなる。従って、全反射鏡１９の
各位置に対して、生じる干渉しまの振幅を測定すること
により、光導波路２２の各点で生じた後方散乱光の電場
振幅ΔＥ（ΔＥ２は散乱光パ゛ワー）を３０μｍの空間
分解能で測定することが可能である。

光導波路２２内の各点の散乱光パワーは（ΔＥ　）２／
　Ｅ　ｏ２：　１０−”と考えられる。すなわち、入射
光に対して一１００ｄＢ小さな値となる。ここでＥｏは
光導波路２２内に入射した光パワーである。ΔＥは、δ
β＝３０μｍ内で生じた散乱光の電場振幅である。この
ような徴・′。

弱な散乱光パワーでも、電場振幅ではΔＥ／Ｅ。

＝　１０−’となることから、本発明による測定系によ
り、十分よいＳＮＲ（信号対雑音比）でもって後方散乱
光を測定することが可能となる。

第１図に示した第１の実施例では、ステージ２０を用い
て全反射鏡１９をｖ＝４６μｍ／秒の速度でビーム方向
に移動させた。全反射鏡１９が一定速度で移動している
ことから、全反射した光（参照光）だけ偏移する。ここ
で、λはスーパー・ルミネッセント・ダイオード１６か
らの出射光の中心波長λ＝０．８μｍである。このため
、周波数偏移を受けない後方散乱光と、△ｆ　＝　１１
５）１２だけ偏移した参照光との合波光中の干渉成分は
Δｆ＝１１５Ｈｚのビート周波数で変化することになる
。そこで、第１の実施例では、このビート周波数成分の
振幅を選択レベルメータ２５で測定することにより、全
反射鏡ＩＳの移動に伴う干渉成分の振幅を測定する。

第１図に示した第１の実施例では、検波する周波数がΔ
ｆ　＝　１１５Ｈ２と比較的低周波であるため、測定系
の振動や電気的雑音によるＳＮＨの低下が問題である。

そこで、検波周波数を上げるために、全反射鏡１９を電
歪振動子を用いてｆ　”　１　ｋ）Ｉｚでビーム方向に
最大変位０．５　μｍで周期的に振動させることも可能
である。この場合、参照光は全反射鏡１９で全反射した
際にｆ　＝　１　ｋＨ工の位相変調を受ける。従って、
合波光中の干渉成分もｆ　＝　１　ｋＨ２で周期的に変
化するので、この成分を選択レベルメータ２５で抽出す
ることが可能となる。実験の結果、ＳＮＲは電歪振動子
を使用しない場合に比較し゛て２桁向上し、一層の精密
な測定が可能であることが確認された。

第２図は、第１の実施例を用いて、ＬｉＮｂＯ３光導波
路内の障害点探索を行った結果を示す。長さＬ＝Ｏおよ
びＬ＝１ｃｍにおける出力電圧値は、それぞれ、Ｌ＋Ｎ
ｂＯ：＋光導波路の入射端および出射端からのフレネル
反射によるものであり、Ｏ＜Ｌ＜１の範囲の出力電圧値
がこの光導波路内の各点で発生する後方散乱光の電場振
幅に相当している。

衷１ｄ辻ス 第３図は本発明の第２の実施例を示す構成図であって、
２８は集光レンズ、２９はファイバ１形ホトカプラー、
３０は円筒形電歪振動子、３２はコリメートレンズであ
る。その他の部分は第１図と同様であるから、ここでは
省略する。

スーパー・ルミネッセント・ダイオード１６からの出射
光は、コリメートレンズ１７で平行光となった後、集光
レンズ２８によりファイバ１形ホトカプラー２９の一方
の分岐部ＣＩに入射する。ファイバ１形ホトカプラー２
９は、分岐部Ｃ１側から入射した光を分岐部Ｃ２とＣ５
の二方向に分配することができる。カプラー２９の分岐
部Ｃ２の出射端は被測定用の　　−光導波路２２の伝搬
モードを励起するように配置しており、分岐部Ｃ２に入
射した光は分岐部Ｃ２のファイバーの出射端より光導波
路２２に入射する。光導波路２２内で生じた後方散乱光
は再び分岐部Ｃ２のファイバーに入射し、分岐部Ｃ４を
通ってこの分岐部Ｃ４のファイバーより出射する。また
、分岐部Ｃ１より入射し、分岐部Ｃ３に分配された光は
分岐部Ｃ５のファイバー出射端に設置されたコリメート
レンズ３２により平行ビームとなり、全反射鏡１９で全
反射した後に再び分岐部Ｃ５内に入射し、分岐部Ｃ４を
通り、ここで後方散乱光と合波される。

ファイバ１形ホトカプラー２９の分岐部Ｃ２のファイバ
ーは、円筒型の電歪振動子３０に巻き付けられている。

電歪振動子３０は共振周波数２０ｋ）１２の交流で駆動
されており、分岐部Ｃ３のファイバー内を伝搬する光は
位相変調を受ける。従って、分岐部Ｃ２を通る後方散乱
光もまた位相変調を受ける。従づて、かかる位相変調を
受けた後方散乱光と、分岐部Ｃ５を伝搬し全反射鏡１９
で反射して再び分岐部Ｃ８を伝搬する参照光とが干渉す
る場合には、干渉強度の振幅は２０ｋ）Ｉ２で振動する
。そこで、本実施例では、この２０ｋＨ２成分を選択レ
ベルメータ２５で検波する。

なお、上述した電歪振動子３０による位相変調手段は、
後方散乱光に加える場合にのみ限られるものではなく、
参照光に位相変調を加えるようにしてもよいことは勿論
である。

第３図に示した第２の実施例は、基本的に第１の実施例
と同一である。しかしながら、第１の実施例では、集光
レンズ２１を用いて光を光導波路２２内に結合させるの
で、光導波路２２の微調が不可欠であったのに対して、
第２の実施例では、ホトカプラー２９の分岐部Ｃ２のフ
ァイバーを単に光導波路２２に近づけるだけで、入射光
の光導波路２２内への結合および後方散乱光のホトカプ
ラー２９の分岐部Ｃ２内への入射が容易に行われる。更
に加えて、第１の実施例では、バルク型のビームスプリ
ッタ−を用いて光を二分割しているので、後方散乱光と
参照光の波面を空間的に一致させるのが難しいという欠
点があったが、第２の実施例では、ファイバ１形ホトカ
プラー２９を使用するので後方散乱光と参照光との波面
が自ずと一致するという利点がある。

第２の実施例では、参照光の光路長を変化させるために
、ステージ２０によって全反射鏡１９を８ｃｍにわたっ
て移動させた。しかしながら、この全反射鏡１９の移動
に対して、光軸のずれに起因して、ホトカプラー２９の
分岐部Ｃ３に入射する参照先のパワーが大幅に低下する
という欠点がある。

そこで、本発明の第３の実施例では、この欠点の解決を
図る。

実施例３ 第４図は本発明のかかる第３の実施例を示す構成図であ
って、２８は集光レンズ、２９はファイバー形のホトカ
プラー、３０は円筒型電歪振動子、３１は全反射鏡、３
２はコリメートレンズ、３３は全反射鏡である。その他
の部分は第１図と同様であるか゛ら、その説明を省略す
る。

スーパー・ルミネッセント・ダイオード１６からの出射
光は、コリメートレンズ１７で平行光となった後に、集
光レンズ２８によりファイバー型のホトカプラー２９に
入射する。ファイバー型ホトカプラー２９は、一方の分
岐部Ｃ１側から入射した光を、分岐部Ｃ２とＣ０の２方
向に分配することができる。ホトカプラー２９の分岐部
Ｃ２の出射端は、被測定用の・４＋ 光導波路２２の伝搬モードを励起するように配国してお
り、分岐部Ｃ２に入射した光は分岐部Ｃ２のファイバー
の出射端より光導波路２２に入射する。この光導波路内
で生じた後方散乱光は再び分岐部Ｃ３のファイバーに入
射し、分岐部Ｃ４を通って、分岐部Ｃ４のファイバーよ
り出射する。また、分岐部Ｃ０より入射して分岐部Ｃ５
に分配された光は、分岐部Ｃ３のファイバー出射端に配
設された全反射鏡３１で全反射されて再び分岐部Ｃ３へ
伝搬する。この光は、光導波路２２内で散乱され分岐部
Ｃ２を戻って来た後方散乱光と合波される。その合波光
は分岐部Ｃ４を通って出射し、コリメートレンズ３２で
平行光束となり、さらにビームスプリッタ−１８で２方
向に分割される。ビームスプリッタ−１８を通過した光
は全反射鏡１９で反射された後、ビームスプリッタ−１
８で反射される。その反射光は、ビームスプリッタ−１
８で反射されてから全反射ｆｉ３３で反射されて再びビ
ームスプリッタ−１８に戻った光と合波されて光検出器
２３に入射する。

第４図において、ファイバ１形ホトカプラー２９の分岐
部Ｃ２のファイバーは、円筒型の電歪振動子３０に巻き
付けらている。電歪振動子３０は共振周波数２０ｋＨ７
の交流で駆動されており、分岐部Ｃ３のファイバー内を
伝搬する光は位相変調を受ける。

従フて、分岐部Ｃ２を通る後方散乱光もまた位相変調を
受ける。従って、かかる位相変調を受けた後方散乱光と
、分岐部Ｃ５を伝搬し全反射鏡３１で反射して再び分岐
部Ｃ３を伝搬する参照光が干渉する場合には、干渉強度
の振幅は２０ｋ）Ｉ２で振動する。そこで、本実施例で
は、この２０ｋ）ｌｚ酸成分選択レベルメータ２５で検
波する。

なお、上述した電歪振動子３０による位相変調子。

段は、後方散乱光に加える場合にのみ限られるものでは
なく、参照先に位相変調を加えるようにしてもよいこと
は勿論である。

後方散乱光の光路長と参照先の光路長を一致させるため
に、本実施例では、第４図のようにマイケルソン干渉計
３５を設置して干渉計の一方の全反射鏡１９をステージ
２０で移動させることによって、両者の光路長を調節し
ている。なお、こ、のようにする代わりに、全反射鏡３
３をステージ２０で移動させるようにしてもよい。この
ような構成になっていることから、参照先のパワーが変
動することがなく安定した測定が可能となる。

第１図に示した本発明の第１の実施例では、参照光と後
方散乱光の波面を空間的に一致させるために、被測定用
光導波路２２の向きを微調する必要がある。一方、第３
図および第４図に示した本発明の第２および纂３の実施
例では、ファイバーを用いて光導波路２２に光を入射さ
せているので、後方散乱光もまた必然的にファイバーへ
再入射することになるので、参照光と後方散乱光とを空
間的に合わせるための被測定用光導波路の微調が不要と
なるという利点がある。

［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば、光導波路内の障
害点の位置および散乱光の大きさを高精度に測定できる
ことから、光導波路欠陥成牛のメカニズムの解明、欠陥
除去のための作成条件把握等、これまで不可能であった
光導波路内部の特性解明にとってきわめて有効である。

従来の技術では空間分解能が１Ｏｃａ＋程度であったの
に対して、本発明では、空間分解能が１θμｍ程度であ
って、従来よりも数桁以上大きい。本発明では、干渉成
分より散乱光のパワーを測定することから、従来と比較
して微弱な散乱光でも測定可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第１の実施例を示す構成図、第２図は
本発明を用いて得られた測定結果を示す特性曲線図、 第３図は本発明の第２の実施例を示す構成図、第４図は
本発明の第３の実施例を示す構成図、第５図は従来技術
の第１の例の説明図、第６図は従来技術の第２の例の説
明図である。 １・・・レーザ、 ２・・・集光用レンズ、 ３・−・被測定用光導波路、 ４．５．６・・・散乱点、 ７・・・スリット、 ８・・・光検出器、 ９・・・処理系、 ｌＯ・・・レーザ、 １１・・・ビームスプリッタ−１ １２・・・集光レンズ、 １３・・・被測定用光導波路、 １４・・・アバランシ・ホトダイオード、１５・・・オ
シロスコープ、 １６・・・スーパ・ルミネッセント・ダイオード（ＳＬ
Ｄ）、 １７・・・コリメートレンズ、 １８・・・ビームスプリッタ−１ １９・・・全反射鏡、 ２０・・・ステージ、 ２１・・・集光レンズ、 ２２・−・被測定用光導波路、 ２３・・・シリコン・ホト・ダイオード、２４・・・電
流増幅器、 ２５・・・選択レベルメータ、 ２６・・・コンピュータ、 ２８・・・集光レンズ、 ２９・・・ファイバ１形ホトカプラー、３０・・・円筒
型電歪振動子、 ３１・・・全反射鏡、 ３２・・・コリメートレンズ、 ３３・・・全反射鏡、 ３５・・・マイケルソン干渉計。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）スペクトル幅の広い光源を用い、該光源からの出射
   光を被測定用光導波路に入射させ、当該光導波路内の各
   点に存在する障害点で後方に散乱されて入射方向に伝搬
   する後方散乱光と前記光源からの出射光の一部による参
   照光とを干渉させ、前記後方散乱光と前記参照光とに遅
   延時間または光路差を与え、各遅延時間に対する干渉成
   分を測定することによって、前記光導波路内で散乱され
   る光のパワーを検出して障害点の位置を求めることを特
   徴とする光導波路障害点探索方法。 ２）スペクトル幅の広い光源と、 該光源からの出射光の一部を被測定用光導波路に入射さ
   せる光学系と、 前記光源からの出射光の一部を分離して参照光とするた
   めの光学系と、 前記光導波路からの散乱光と前記参照光とを合波するた
   めの光学系と、 その合波された光の中の散乱光と参照光との間の光路差
   を変化させるための光学系と、 前記合波光を受光しその受光した光のパワーを検出する
   手段と を具えたことを特徴とする光導波路障害点探索装置。 ３）スペクトル幅の広い光源と、 該光源からの出射光の一部を被測定用光導波路に入射さ
   せる光学系と、 前記光源からの出射光の一部を分離して参照光とするた
   めの光学系と、 前記光導波路からの散乱光と前記参照光とを合波するた
   めの光学系と、 その合波された光の中の散乱光と参照光との間の光路差
   を変化させるための光学系と、 前記合波光を受光しその受光した光のパワーを検出する
   手段と、 前記参照光または前記後方散乱光に位相変調を加えるた
   めの変調手段と を具えたことを特徴とする光導波路障害点探索装置。 ４）特許請求の範囲第２項または第３項に記載の光導波
   路障害点探索装置において、 前記光源からの出射光を平行光とするためのレンズ系と
   、 当該平行光を空間的に二分割するためのビームスプリッ
   ターと、 該ビームスプリッターで二分割された一方の光を反射さ
   せて前記ビームスプリッターに再び入射させるための反
   射鏡と、 該反射鏡を当該反射鏡に入射する光のビーム方向に移動
   させるための移動手段と、 前記ビームスプリッターで二分割された他方の光を被測
   定用の光導波路に入射させ、かつ前記光導波路からの反
   射光を平行光とするためのレンズ系と を具備したことを特徴とする光導波路障害点探索装置。 ５）特許請求の範囲第２項または第３項に記載の光導波
   路障害点探索装置において、前記光源からの出射光をフ
   ァイバー形ホトカプラーにより二分割し、該ホトカプラ
   ーの２つの出射端のうちの一方を前記被測定用光導波路
   の入射端に結合させ、さらに前記ホトカプラーの他方の
   出射端からの出射光を平行ビームとするための光学系と
   、前記平行ビームを全反射させて再び当該他方の出射端
   に導くための全反射鏡と、該全反射鏡を移動させるため
   のステージとを具備したことを特徴とする光導波路障害
   点探索装置。 ６）特許請求の範囲第２項または第３項記載の光導波路
   障害点探索装置において、前記光源からの出射光をファ
   イバー形ホトカプラーにより二分割し、該ホトカプラー
   の２つの出射端のうちの一方を前記被測定用光導波路の
   入射端に結合させ、さらに、前記ホトカプラーの２つの
   入射端のうちの一方に前記光源からの出射光を入射させ
   るための光学系と、前記ホトカプラーの他方の出射端に
   配設した全反射鏡と、前記ホトカプラーの２つの入射端
   のうちの他方より出射する、前記光導波路からの後方散
   乱光および前記全反射鏡からの全反射した光を平行ビー
   ムとして取り出すための光学系と、当該平行ビームをビ
   ームスプリッターにより二分割して２つの全反射鏡へ入
   射させ、および該２つの全反射鏡からの反射光を当該ビ
   ームスプリッターより合波する干渉計と、該干渉計内の
   前記全反射鏡のうちの少なくとも一方を移動させるため
   のステージとを具備したことを特徴とする光導波路障害
   点探索装置。