JP3298373B2 - 低コヒーレンスリフレクトメータ - Google Patents
低コヒーレンスリフレクトメータInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光導波路からの後
方レーリィ散乱分布を高空間分解能、かつ高感度で測定
する低コヒーレンスリフクレトメータに関するものであ
る。
方レーリィ散乱分布を高空間分解能、かつ高感度で測定
する低コヒーレンスリフクレトメータに関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】図５は、低コヒーレンスリフレクトメー
タの一例を示す。すなわち、このリフレクトメータは、
光導波路６内で発生する後方レーリィ散乱光をマイクロ
メートルの空間分解能で測定する事により、光導波路自
体の損失分布を測定するものである。図５において、ス
ーパールミネッセントダイオード１からの出射光は、フ
ァイバポート２からファイバ型３ｄｂカプラ３に入射し
て２分される。２分された一方は、ファイバポート４を
伝搬して試験用の光導波路６に入射する。２分された他
方は、ファイバポート５を伝搬して光学的可変遅延回路
７に入射する。この遅延回路７からの戻り光は、参照光
として再びファイバポート５を伝搬した後に、前記光導
波路６からの反射光と前記ファイバ型３ｄＢカプラ３で
合波される。合波光はファイバポート９を伝搬して光検
出器１０で受光され、信号処理系１１で干渉成分の電力
が検波される。検波方法としては、ファイバポート４の
一部の光ファイバを円筒型電歪振動子に巻き付けた構成
の位相変調器８に発信器１２でｆ＝１００Ｈｚのランプ
波形の電圧を印加しており、前記光導波路からの反射光
と参照光との干渉成分中に周波数ｆの成分が発生するの
で、これを信号処理系１１で検波する。
タの一例を示す。すなわち、このリフレクトメータは、
光導波路６内で発生する後方レーリィ散乱光をマイクロ
メートルの空間分解能で測定する事により、光導波路自
体の損失分布を測定するものである。図５において、ス
ーパールミネッセントダイオード１からの出射光は、フ
ァイバポート２からファイバ型３ｄｂカプラ３に入射し
て２分される。２分された一方は、ファイバポート４を
伝搬して試験用の光導波路６に入射する。２分された他
方は、ファイバポート５を伝搬して光学的可変遅延回路
７に入射する。この遅延回路７からの戻り光は、参照光
として再びファイバポート５を伝搬した後に、前記光導
波路６からの反射光と前記ファイバ型３ｄＢカプラ３で
合波される。合波光はファイバポート９を伝搬して光検
出器１０で受光され、信号処理系１１で干渉成分の電力
が検波される。検波方法としては、ファイバポート４の
一部の光ファイバを円筒型電歪振動子に巻き付けた構成
の位相変調器８に発信器１２でｆ＝１００Ｈｚのランプ
波形の電圧を印加しており、前記光導波路からの反射光
と参照光との干渉成分中に周波数ｆの成分が発生するの
で、これを信号処理系１１で検波する。
【０００３】光導波路６からの反射光は、両端面のフレ
ネル反射光や、屈折率がサブミクロンの相関長で長手方
向にランダムに変動することから生じる後方レーリィ散
乱光がある。低コヒーレンスリフレクトメータに、主と
して後者の後方レーリィ散乱光を検波するために用い
る。光源１からの出射光のコヒーレンス長は数十ミクロ
ンと非常に短いので、その光路長が、参照光の光路長と
コヒーレンス長以内で一致する後方レーリィ散乱光のみ
が参照光と干渉することができる。すなわち、遅延回路
７によって与えられる光路長Ｚに対して光導波路６の特
定の一点が対向し、この点を中心にコヒーレンス長でき
まるマイクロメートル長の光導波路の領域で発生する後
方レーリィ散乱光が本装置で検波される。各光路長Ｚに
対して検波した信号Ｓ（Ｚ）は、その地点で発生する後
方レーリィ散乱係数Ｐ（Ｚ）と導波路入射端からその地
点までの透過率Ｔ（Ｚ）を用いてＳ（Ｚ）＝ＣＰ（Ｚ）
〔Ｔ（Ｚ）〕2 で与えられる。ここで、Ｃは定数であ
り、Ｐ（Ｚ）は導波路の場所に依存せず一定であると考
えられるので、検波信号Ｓ（Ｚ）より各地点Ｚまでの透
過率Ｔ（Ｚ）を求めることができる。ここで、ｄＢ表示
の伝搬損失は、Ｔ（Ｚ）の常用対数を取って−１０ｌｏ
ｇ〔Ｔ（Ｚ）〕で与えられる。
ネル反射光や、屈折率がサブミクロンの相関長で長手方
向にランダムに変動することから生じる後方レーリィ散
乱光がある。低コヒーレンスリフレクトメータに、主と
して後者の後方レーリィ散乱光を検波するために用い
る。光源１からの出射光のコヒーレンス長は数十ミクロ
ンと非常に短いので、その光路長が、参照光の光路長と
コヒーレンス長以内で一致する後方レーリィ散乱光のみ
が参照光と干渉することができる。すなわち、遅延回路
７によって与えられる光路長Ｚに対して光導波路６の特
定の一点が対向し、この点を中心にコヒーレンス長でき
まるマイクロメートル長の光導波路の領域で発生する後
方レーリィ散乱光が本装置で検波される。各光路長Ｚに
対して検波した信号Ｓ（Ｚ）は、その地点で発生する後
方レーリィ散乱係数Ｐ（Ｚ）と導波路入射端からその地
点までの透過率Ｔ（Ｚ）を用いてＳ（Ｚ）＝ＣＰ（Ｚ）
〔Ｔ（Ｚ）〕2 で与えられる。ここで、Ｃは定数であ
り、Ｐ（Ｚ）は導波路の場所に依存せず一定であると考
えられるので、検波信号Ｓ（Ｚ）より各地点Ｚまでの透
過率Ｔ（Ｚ）を求めることができる。ここで、ｄＢ表示
の伝搬損失は、Ｔ（Ｚ）の常用対数を取って−１０ｌｏ
ｇ〔Ｔ（Ｚ）〕で与えられる。
【０００４】図６は、図５に示す光学的可変遅延回路７
をファイバポート５と共に示す構成であり、ファイバポ
ート５からの出射光は、レンズ１３でコリメートされて
空間伝搬する平行ビーム１４となる。この光ビームは反
射鏡１５で反射されてレンズ１３で再びファイバポート
５に入射する。反射鏡１５は、ステージ１６にマウント
され、ビーム１４と平行方向に移動することができる。
このため、ステージの移動により、ファイバポート５か
ら出射した後に再びファイバポート５に入射するまでの
参照光の光路長を連続的に変化させることができる。こ
の結果、反射鏡１５で反射された光は参照光として光導
波路６からの後方レーリィ散乱光と３ｄＢカプラ３にて
合波され干渉する。
をファイバポート５と共に示す構成であり、ファイバポ
ート５からの出射光は、レンズ１３でコリメートされて
空間伝搬する平行ビーム１４となる。この光ビームは反
射鏡１５で反射されてレンズ１３で再びファイバポート
５に入射する。反射鏡１５は、ステージ１６にマウント
され、ビーム１４と平行方向に移動することができる。
このため、ステージの移動により、ファイバポート５か
ら出射した後に再びファイバポート５に入射するまでの
参照光の光路長を連続的に変化させることができる。こ
の結果、反射鏡１５で反射された光は参照光として光導
波路６からの後方レーリィ散乱光と３ｄＢカプラ３にて
合波され干渉する。
【０００５】図７は、遅延回路７の他の例であり、光ビ
ームを１８０度方向転換させるリフレクタ１７と１８、
反射鏡１９と２０から構成され、リフレクタ１７はステ
ージ１６上に固定されている。平行ビーム１４は、反射
鏡１９によりリフレクタ１７に入射する。入射光は、リ
フレクタ１７で２回反射されてもとの入射光に対して１
８０度方向転換して対向するリフレクタ１８に入射す
る。入射した光は、２回の反射の後に１８０度方向転換
してリフレクタ１７に入射する。以後、リフレクタ１７
と１８でそれぞれ１８０度の方向転換を受けながらリフ
レクタの中心に向かう。中心に向かった光ビームは、リ
フレクタ１８の近傍に設置された反射鏡２０で反射さ
れ、これまでに伝搬した光路を逆に伝搬して、リフレク
タ１７と１８で多数回反射された後に、再び反射鏡１９
で反射され、レンズ１３によりファイバポート５に再度
入射する。リフレクタ１７はステージ１６で光ギーム方
向に移動するので、参照光の光路長が変化する。この遅
延回路の特徴は、ステージ１６の移動に対する光路長の
変化量が図６に示した構成よりもＭ＝１０倍大きいとい
うことである。ここでＭは、移動するリフレクタ１７で
の光ビームが１８０度方向転換する回数である。このた
め、この遅延回路を用いると、測定距離レンジが図２よ
りも１０倍拡大するという利点がある。
ームを１８０度方向転換させるリフレクタ１７と１８、
反射鏡１９と２０から構成され、リフレクタ１７はステ
ージ１６上に固定されている。平行ビーム１４は、反射
鏡１９によりリフレクタ１７に入射する。入射光は、リ
フレクタ１７で２回反射されてもとの入射光に対して１
８０度方向転換して対向するリフレクタ１８に入射す
る。入射した光は、２回の反射の後に１８０度方向転換
してリフレクタ１７に入射する。以後、リフレクタ１７
と１８でそれぞれ１８０度の方向転換を受けながらリフ
レクタの中心に向かう。中心に向かった光ビームは、リ
フレクタ１８の近傍に設置された反射鏡２０で反射さ
れ、これまでに伝搬した光路を逆に伝搬して、リフレク
タ１７と１８で多数回反射された後に、再び反射鏡１９
で反射され、レンズ１３によりファイバポート５に再度
入射する。リフレクタ１７はステージ１６で光ギーム方
向に移動するので、参照光の光路長が変化する。この遅
延回路の特徴は、ステージ１６の移動に対する光路長の
変化量が図６に示した構成よりもＭ＝１０倍大きいとい
うことである。ここでＭは、移動するリフレクタ１７で
の光ビームが１８０度方向転換する回数である。このた
め、この遅延回路を用いると、測定距離レンジが図２よ
りも１０倍拡大するという利点がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
図６、図７の例において、ファイバポート５の出射端面
やレンズ１３にて反射した光（以下残留反射光という）
もファイバポート５を戻り、図５に示すファイバポート
４や光導波路６上で反射した光のうち、この残留反射光
と光路長が一致する光（その地点をＺ0 とする）が存在
する場合には、この双方の光が干渉して信号処理回路１
１からの出力中に残留出力Ｓ0 が発生する。この場合、
図６に示すステージ１６が移動したとしてもファイバポ
ート５やレンズ１３は移動しないので、残留出力Ｓ0 は
一定であり、信号処理回路１１からの出力のバイアスと
なる。
図６、図７の例において、ファイバポート５の出射端面
やレンズ１３にて反射した光（以下残留反射光という）
もファイバポート５を戻り、図５に示すファイバポート
４や光導波路６上で反射した光のうち、この残留反射光
と光路長が一致する光（その地点をＺ0 とする）が存在
する場合には、この双方の光が干渉して信号処理回路１
１からの出力中に残留出力Ｓ0 が発生する。この場合、
図６に示すステージ１６が移動したとしてもファイバポ
ート５やレンズ１３は移動しないので、残留出力Ｓ0 は
一定であり、信号処理回路１１からの出力のバイアスと
なる。
【０００７】かかる状態で導波路のある地点Ｚ1 からの
信号Ｓ1 （Ｚ1 ）が非常に小さい場合には、Ｓ（Ｚ1 ）
がＳ0 に隠れて測定できないという場合が生ずる。例え
ば、残留反射光とファイバポート４上のある点Ｚ0 で発
生した後方レーリィ散乱光が干渉する場合を考えるに、
図６に示す遅延回路での参照光の光パワー損失を３ｄ
Ｂ、残留反射光のリターンロスを４０ｄＢとすると、点
Ｚ0 から光導波路６のＺ 1 地点までの往復の伝搬損失が
３７ｄＢ以上大きい場合には、信号Ｓ（Ｚ1 ）＜残留出
力Ｓ0 という関係となり、信号Ｓ（Ｚ1 ）が測定できな
くなるという事態が生ずる。なお、この場合後方レーリ
ィ散乱係数Ｐ（Ｚ）は地点Ｚ0 とＺ1 とで同一に仮定し
た。
信号Ｓ1 （Ｚ1 ）が非常に小さい場合には、Ｓ（Ｚ1 ）
がＳ0 に隠れて測定できないという場合が生ずる。例え
ば、残留反射光とファイバポート４上のある点Ｚ0 で発
生した後方レーリィ散乱光が干渉する場合を考えるに、
図６に示す遅延回路での参照光の光パワー損失を３ｄ
Ｂ、残留反射光のリターンロスを４０ｄＢとすると、点
Ｚ0 から光導波路６のＺ 1 地点までの往復の伝搬損失が
３７ｄＢ以上大きい場合には、信号Ｓ（Ｚ1 ）＜残留出
力Ｓ0 という関係となり、信号Ｓ（Ｚ1 ）が測定できな
くなるという事態が生ずる。なお、この場合後方レーリ
ィ散乱係数Ｐ（Ｚ）は地点Ｚ0 とＺ1 とで同一に仮定し
た。
【０００８】また、図７に示すように遅延回路での参照
光の減衰が大き過ぎる場合も同様の問題が生ずる。つま
り、リフレクタ間で多数回の反射を繰り返すために、こ
の遅延回路での参照光の光パワー損失は約２０ｄＢであ
り、他方、残留反射は依然として−４０ｄＢで変化がな
いことから、ファイバポート４上のある点Ｚ0 からＺ 1
までの往復の伝搬損失が２０ｄＢ以上ある場合のこの点
Ｚ1 での光導波路からの後方レーリィ散乱信号Ｓ
（Ｚ1 ）は測定できないという問題が生じている。すな
わち、現在の技術では片道１０ｄＢの伝搬損失までしか
分布を測定できない。
光の減衰が大き過ぎる場合も同様の問題が生ずる。つま
り、リフレクタ間で多数回の反射を繰り返すために、こ
の遅延回路での参照光の光パワー損失は約２０ｄＢであ
り、他方、残留反射は依然として−４０ｄＢで変化がな
いことから、ファイバポート４上のある点Ｚ0 からＺ 1
までの往復の伝搬損失が２０ｄＢ以上ある場合のこの点
Ｚ1 での光導波路からの後方レーリィ散乱信号Ｓ
（Ｚ1 ）は測定できないという問題が生じている。すな
わち、現在の技術では片道１０ｄＢの伝搬損失までしか
分布を測定できない。
【０００９】本発明は、上述の問題に鑑み、光学部品に
基づく残留反射によって、検出信号中に発生するバイア
ス成分のために後方レーリィ散乱信号の検出限界の制限
を除くべく、バイアス成分を除くようにした低コヒーレ
ンスリフレクトメータの提供を目的とする。
基づく残留反射によって、検出信号中に発生するバイア
ス成分のために後方レーリィ散乱信号の検出限界の制限
を除くべく、バイアス成分を除くようにした低コヒーレ
ンスリフレクトメータの提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成する本
発明は次の構成を特徴とする。 （１）光源からの光を光導波路と光学的可変遅延回路に
向って分け、この光導波路と光学的可変遅延回路から戻
った光を干渉計を介して信号処理系に入射し、上記光導
波路の反射分布を測定する低コヒーレンスリフレクトメ
ータにおいて、上記光学的可変遅延回路は、入射・出射
兼用ポートと反射光学系との外に入射光の位相を一定周
波数にて変調する変調光学系を有し、上記信号処理系
は、上記一定周波数の成分あるいはこの一定周波数成分
から所定周波数だけ遷移した周波数成分を検波する検波
系を備え、たことを特徴とする。 （２）（１）において、変調光学系は反射光学系とその
駆動系よりなることを特徴とする。
発明は次の構成を特徴とする。 （１）光源からの光を光導波路と光学的可変遅延回路に
向って分け、この光導波路と光学的可変遅延回路から戻
った光を干渉計を介して信号処理系に入射し、上記光導
波路の反射分布を測定する低コヒーレンスリフレクトメ
ータにおいて、上記光学的可変遅延回路は、入射・出射
兼用ポートと反射光学系との外に入射光の位相を一定周
波数にて変調する変調光学系を有し、上記信号処理系
は、上記一定周波数の成分あるいはこの一定周波数成分
から所定周波数だけ遷移した周波数成分を検波する検波
系を備え、たことを特徴とする。 （２）（１）において、変調光学系は反射光学系とその
駆動系よりなることを特徴とする。
【００１１】スペクトル幅の広い光源と干渉計と光学的
可変遅延回路と信号処理系を用いて高空間分解能で光導
波路の反射分布を測定するリフクレトメータであり、前
記遅延回路として、前記干渉計から取捨する光ビームを
反射させた後に前記干渉計に再度入射させる反射光学系
と、該反射光学系を前記光ビーム方向に移動する移動系
とを有するリフレクトメータに関わり、前記光ビームを
一定の周波数で位相変調するための光学変調系と、前記
信号処理系において前記位相変調周波数成分あるいは、
前記位相変調周波数から一定波数だけ遷移した成分を検
波する機構を具備させる。また、前記光学変調系とし
て、前記遅延回路内の前記反射光学系またはその一部を
一定の周波数で振動させる駆動系を具備させる。なお、
空間分解能をδＬ（＜１０ｍ）とするためには、光源は
中心波長λに対してスペクトルの半値全幅が０．３１λ
2 ／（ｎδＬ）以上でなければいけない。ただし、ｎは
被測定光導波路（光ファイバも含む）のコアの屈折率で
ある。こうして、バイアスの除去が可能となり、３０ｄ
Ｂ以上の伝搬損失が存在する導波路の後方レーリィイ散
乱信号も測定できるようになり、高感度低コヒーレンス
リフレクトメータが実現する。
可変遅延回路と信号処理系を用いて高空間分解能で光導
波路の反射分布を測定するリフクレトメータであり、前
記遅延回路として、前記干渉計から取捨する光ビームを
反射させた後に前記干渉計に再度入射させる反射光学系
と、該反射光学系を前記光ビーム方向に移動する移動系
とを有するリフレクトメータに関わり、前記光ビームを
一定の周波数で位相変調するための光学変調系と、前記
信号処理系において前記位相変調周波数成分あるいは、
前記位相変調周波数から一定波数だけ遷移した成分を検
波する機構を具備させる。また、前記光学変調系とし
て、前記遅延回路内の前記反射光学系またはその一部を
一定の周波数で振動させる駆動系を具備させる。なお、
空間分解能をδＬ（＜１０ｍ）とするためには、光源は
中心波長λに対してスペクトルの半値全幅が０．３１λ
2 ／（ｎδＬ）以上でなければいけない。ただし、ｎは
被測定光導波路（光ファイバも含む）のコアの屈折率で
ある。こうして、バイアスの除去が可能となり、３０ｄ
Ｂ以上の伝搬損失が存在する導波路の後方レーリィイ散
乱信号も測定できるようになり、高感度低コヒーレンス
リフレクトメータが実現する。
【００１２】
【発明の実施の形態】ここで、図１〜図４にて発明の実
施の形態について述べる。図１は光学的可変遅延回路の
一例である。本例においては、ファイバポート５及びレ
ンズ１３と反射鏡１５及びステージ１６との間に位相変
調器２１及び発信器２２を介在させている。すなわち、
レンズ１３と反射鏡１５の間に液晶を利用した位相変調
器２１を設置した。この位相変調器は、発信器２２から
の周波数ｆ＝７０Ｈｚの正弦波形の電圧に応じて屈折率
が周期的に変化するので、光ビーム１４がこの液晶を往
復する間に周波数ｆ1 の位相変調を受ける。ここで、液
晶表面からの反射光がファイバポート５に入射するのを
防ぐため、液晶表面は光ビームに対してわずかに傾けて
ある。他方、ファイバポート５の出射端やレンズ１３で
生じる残留反射光は、位相変調器２１を通過しないた
め、周波数ｆ1 の位相変調を受けることはない。したが
って、反射鏡１５で反射され周波数ｆ1 にて位相変調を
受けた参照光と図５に示す光導波路６からの後方レーリ
ィ散乱光との干渉信号は、ファイバポート４にて発信器
１２の周波数ｆによって位相変調を受けることから、ｆ
＋ｆ1 の周波数で変化する成分が含まれるが、残留反射
光とファイバポート４又は光導波路６にて発生した反射
光との干渉成分は周波数ｆのみで変化する。このため信
号処理系１１において、検波周波数をｆ＋ｆ1 に設定
し、周波数ｆ成分が混入しないように検波バンド幅を調
整することにより、前記残留反射によって発生する出力
Ｓ0 を除去することができる。図２は１０ｃｍ長の石英
系導波路の入射端から４ｃｍー８ｃｍまでの反射分布を
測定した結果である。（ａ）では、従来例を用いてお
り、残留反射によって発生したＳ0 成分のため、６ｃｍ
地点から信号がほぼ一定となるのが観測された。（ｂ）
は、本例図１に示す構成を用いて反射分布を測定した結
果であり、６ｃｍ以後も信号（ｄＢ表示）は距離に対し
て直線的に減衰することがわかり、石英系導波路の損失
係数が長手方向に一定であることが確かめられた。
施の形態について述べる。図１は光学的可変遅延回路の
一例である。本例においては、ファイバポート５及びレ
ンズ１３と反射鏡１５及びステージ１６との間に位相変
調器２１及び発信器２２を介在させている。すなわち、
レンズ１３と反射鏡１５の間に液晶を利用した位相変調
器２１を設置した。この位相変調器は、発信器２２から
の周波数ｆ＝７０Ｈｚの正弦波形の電圧に応じて屈折率
が周期的に変化するので、光ビーム１４がこの液晶を往
復する間に周波数ｆ1 の位相変調を受ける。ここで、液
晶表面からの反射光がファイバポート５に入射するのを
防ぐため、液晶表面は光ビームに対してわずかに傾けて
ある。他方、ファイバポート５の出射端やレンズ１３で
生じる残留反射光は、位相変調器２１を通過しないた
め、周波数ｆ1 の位相変調を受けることはない。したが
って、反射鏡１５で反射され周波数ｆ1 にて位相変調を
受けた参照光と図５に示す光導波路６からの後方レーリ
ィ散乱光との干渉信号は、ファイバポート４にて発信器
１２の周波数ｆによって位相変調を受けることから、ｆ
＋ｆ1 の周波数で変化する成分が含まれるが、残留反射
光とファイバポート４又は光導波路６にて発生した反射
光との干渉成分は周波数ｆのみで変化する。このため信
号処理系１１において、検波周波数をｆ＋ｆ1 に設定
し、周波数ｆ成分が混入しないように検波バンド幅を調
整することにより、前記残留反射によって発生する出力
Ｓ0 を除去することができる。図２は１０ｃｍ長の石英
系導波路の入射端から４ｃｍー８ｃｍまでの反射分布を
測定した結果である。（ａ）では、従来例を用いてお
り、残留反射によって発生したＳ0 成分のため、６ｃｍ
地点から信号がほぼ一定となるのが観測された。（ｂ）
は、本例図１に示す構成を用いて反射分布を測定した結
果であり、６ｃｍ以後も信号（ｄＢ表示）は距離に対し
て直線的に減衰することがわかり、石英系導波路の損失
係数が長手方向に一定であることが確かめられた。
【００１３】図３は、他の例を示しており、２３は電歪
振動子、２４は発信器である。この例では、反射鏡１５
が電歪振動子２３に固定されており、発信器２４からの
電圧に応じてｆ1 ＝７０Ｈｚの周波数で光ビームの方向
に振動するように設定されている。この反射鏡の振動に
より、光ビームが反射される位置が周期的に変化するの
で、光ビームが伝搬する光路長が変化し、その結果、参
照光に位相変調が印加されることになる。信号処理系１
１がｆ＋ｆ1 の周波数成分を検波するように設定して前
記石英系導波路の反射分布を測定した結果、第一の実施
例と同様、残留反射によりＳ0 を除去することに成功
し、図２の（ｂ）と同一の反射分布を得ることができ
た。
振動子、２４は発信器である。この例では、反射鏡１５
が電歪振動子２３に固定されており、発信器２４からの
電圧に応じてｆ1 ＝７０Ｈｚの周波数で光ビームの方向
に振動するように設定されている。この反射鏡の振動に
より、光ビームが反射される位置が周期的に変化するの
で、光ビームが伝搬する光路長が変化し、その結果、参
照光に位相変調が印加されることになる。信号処理系１
１がｆ＋ｆ1 の周波数成分を検波するように設定して前
記石英系導波路の反射分布を測定した結果、第一の実施
例と同様、残留反射によりＳ0 を除去することに成功
し、図２の（ｂ）と同一の反射分布を得ることができ
た。
【００１４】図４は、図７に対応する第三の例を示し、
この例ではリフレクタ１７を前述の例にも示した電歪振
動子２３に固定し、リフレクタ１７を光ビーム方向に周
波数ｆ1 ＝７０Ｈｚで振動させた。実験の結果、本発明
の第一、第二の例と同様、残留反射によるＳ0 成分を除
去することができた。この例では、リフレクタ１７を振
動させているが、反射鏡１９あるいは２０を振動させて
も同一の効果を得ることが可能である。
この例ではリフレクタ１７を前述の例にも示した電歪振
動子２３に固定し、リフレクタ１７を光ビーム方向に周
波数ｆ1 ＝７０Ｈｚで振動させた。実験の結果、本発明
の第一、第二の例と同様、残留反射によるＳ0 成分を除
去することができた。この例では、リフレクタ１７を振
動させているが、反射鏡１９あるいは２０を振動させて
も同一の効果を得ることが可能である。
【００１５】今までの例は図５に基づき電歪振動子の位
相変調器８を前提として説明したが、この発明では干渉
光からｆ1 成分を検波できれば良いので、周波数ｆによ
り位相変調は無くしても残留反射を除去することができ
る。
相変調器８を前提として説明したが、この発明では干渉
光からｆ1 成分を検波できれば良いので、周波数ｆによ
り位相変調は無くしても残留反射を除去することができ
る。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、残
留成分による成分を除去できて高感度リフレクトメータ
を実現することができるので、１０ｍ以上の石英系導波
路といった損失の大きな光導波路の診断に有効である。
留成分による成分を除去できて高感度リフレクトメータ
を実現することができるので、１０ｍ以上の石英系導波
路といった損失の大きな光導波路の診断に有効である。
【図１】本発明の一例に係る構成図。
【図２】石英系導波路の反射測定結果を示す特性線図。
【図３】本発明の他の例の構成図。
【図４】本発明の更に他の例の構成図。
【図５】低コヒーレンスリフレクトメータの一例の構成
図。
図。
【図６】従来の光学的遅延回路の一例構成図。
【図７】従来の光学的遅延回路の他の例の構成図。
１ スーパールミネッセントダイオード ２、４、５、９ ファイバポート ３ ファイバ型３ｄＢカプラ ６ 試験用の光導波路 ７ 光学的可変遅延回路 ８ ファイバ型位相変調器 １０ 光検出器 １１ 信号処理系 １３ レンズ １４ 平行ビーム １５ 反射鏡 １６ ステージ １７、１８ リフレクタ １９、２０ 反射鏡 ２１ 位相変調器 ２２ 発信器 ２３ 電歪振動子 ２４ 発信器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−234042（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−196829（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−251730（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−140639（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01M 11/00 - 11/08
Claims (2)
- 【請求項１】 光源からの光を光導波路と光学的可変遅
延回路に向って分け、この光導波路と光学的可変遅延回
路から戻った光を干渉計を介して信号処理系に入射し、
上記光導波路の反射分布を測定する低コヒーレンスリフ
レクトメータにおいて、 上記光学的可変遅延回路は、入射・出射兼用ポートと反
射光学系との外に入射光の位相を一定周波数にて変調す
る変調光学系を有し、 上記信号処理系は、上記一定周波数の成分あるいはこの
一定周波数成分から所定周波数だけ遷移した周波数成分
を検波する検波系を備え、 たことを特徴とする低コヒーレンスリフレクトメータ。 - 【請求項２】 変調光学系は反射光学系とその駆動系よ
りなることを特徴とする請求項１記載の低コヒーレンス
リフレクトメータ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21563695A JP3298373B2 (ja) | 1995-08-24 | 1995-08-24 | 低コヒーレンスリフレクトメータ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21563695A JP3298373B2 (ja) | 1995-08-24 | 1995-08-24 | 低コヒーレンスリフレクトメータ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0961299A JPH0961299A (ja) | 1997-03-07 |
| JP3298373B2 true JP3298373B2 (ja) | 2002-07-02 |
Family
ID=16675692
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21563695A Expired - Fee Related JP3298373B2 (ja) | 1995-08-24 | 1995-08-24 | 低コヒーレンスリフレクトメータ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3298373B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5191784B2 (ja) * | 2008-04-14 | 2013-05-08 | 矢崎総業株式会社 | モード結合評価装置及びモード結合評価方法 |
-
1995
- 1995-08-24 JP JP21563695A patent/JP3298373B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
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|---|---|
| JPH0961299A (ja) | 1997-03-07 |
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