JPH08152376A - ファイバ検査装置 - Google Patents

ファイバ検査装置

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JPH08152376A
JPH08152376A JP29417194A JP29417194A JPH08152376A JP H08152376 A JPH08152376 A JP H08152376A JP 29417194 A JP29417194 A JP 29417194A JP 29417194 A JP29417194 A JP 29417194A JP H08152376 A JPH08152376 A JP H08152376A
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隆昭 平田
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誠 小宮山
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    • G01M11/00Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/30Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides
    • G01M11/31Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter and a light receiver being disposed at the same side of a fibre or waveguide end-face, e.g. reflectometers

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Abstract

(57)【要約】 【目的】ビート信号のスペクトルの変化を測定し測定対
象の反射点までの距離を求めるようにし、レーザ光源の
スペクトル線幅により測定可能距離が制限されない方式
のファイバ検査装置を実現する。 【構成】レーザ光源からの出力光を分割し、分割した前
記出力光を測定対象および参照ミラーに入射し、前記測
定対象および前記参照ミラーからの反射光を合波させる
ことにより得られるビート信号を測定し、前記測定対象
の反射点の位置または反射率を得るようにしたファイバ
検査装置において、前記レーザ光源の発振周波数を周波
数fMOD で変調すると共にその変調周波数fMOD を時間
的に変化させ、前記変調周波数fMOD に対する前記ビー
ト信号の変化から前記測定対象の反射点の位置または反
射率を得るように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ファイバ検査装置に関
し、特に従来よりファイバ検査装置として用いられてい
るOTDR(Optical Time Domain Reflectometer) やO
FDR(Optical Frequency Domain Reflectometer)とは
測定方法を異にする、新規のファイバ検査装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来よりファイバ検査装置としてはOT
DRやOFDRが知られている。OTDRやOFDR
は、その名称からも分かる通り反射点までの距離を時間
軸上または周波数軸上の情報に置き換え測定する方法で
ある。OTDRでは100km を超える長さのファイバ(測
定対象)を検査できるが、最小2点分解能が10m 程度と
大きく、問題であった。一方OFDRはファイバ検査装
置として要求される10cm以下の2点分解能が可能である
が、最大測定長は使用する半導体レーザのコヒーレント
長で制限され、現状では100m程度が限界である。このよ
うに測定距離と分解能の両方を満足する測定方法は現在
のところ出現していない。
【0003】これに対し本発明は反射点までの距離をス
ペクトル上の情報に置き換え測定する方法であり、名称
を付けるならばOSDR(Optical Spectrum Domain Ref
lectometer) と呼ぶべき測定方法である。本発明の光学
系はOFDRの光学系と同じであるため、従来例として
OFDRの原理と測定距離を制限する問題点について簡
単に説明する。
【0004】図7にOFDRの構成図を示す。半導体レ
ーザ(以下LDという)6の発振周波数fLDは周波数制
御回路7により図8に示すように時間に対し線形に制御
され、1回の測定はaから始まりbで終わる。LD6の
出力光はハーフミラー3で2つに分けられ、一方は測定
対象1に入射し、他方はミラー2に入射する。ミラー2
に入射した光は鏡面で反射し参照光としてフォトダイオ
ード(以下PDという)4に向かう。測定対象1に何ら
かの反射点がある場合、そこからの反射光(以下この反
射光を信号光と呼ぶ)はハーフミラー3によりPD4に
向かい参照光と干渉する。
【0005】このとき測定対象1からの信号光とミラー
2からの参照光の間に光路長差があると、LD6の発振
周波数が時間に対し線形に掃引されているため、光路長
差に対応する時間だけ信号光と参照光の周波数が異な
り、PD4に信号光と参照光の差周波のビート信号が現
れる。この差周波が光路長差に比例するため、ビート信
号の周波数を測定すれば信号光と参照光の光路長差、つ
まり測定対象1の反射点の位置が分かり、またビート信
号の強度から反射率が見積もれる。
【0006】信号処理部5でビート信号の周波数と強度
の測定を行う。制御部8は全体の測定シーケンスを制御
すると共に、測定結果を表示部9に表示する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
測定方法で問題となるのは用いるレーザ光源の発振周波
数の揺らぎである。レーザ光源には自然放出光などが原
因となる固有の発振周波数揺らぎが存在し、通常この揺
らぎの大きさをスペクトル線幅で表す。ここで用いられ
る半導体レーザの典型的なスペクトル線幅は1MHz程度で
あり、このことは半導体レーザの発振周波数がスペクト
ル線幅1MHzの逆数である1μs程度の時間で揺らいでいる
ことを意味する。
【0008】したがって信号光と参照光の時間差が1μs
以上となると、この揺らぎの影響でビート信号の周波数
も揺らぎ、周波数の測定ができなくなる。時間差1μsに
対応する光路長差は真空中で300m程度であり、ファイバ
の屈折率1.5 とファイバ長の2倍が光路長差となること
を考慮すると、測定可能距離は100m程度となる。このよ
うにビート信号の周波数を測定する方法では、レーザ光
源のスペクトル線幅で決まる距離以上では周波数の測定
ができず、測定可能距離が大きく制限されることにな
る。
【0009】本発明の目的は、このような点に鑑み、測
定距離と分解能の両方を満足する新規な測定方法を用い
たファイバ検査装置を実現することにある。具体的には
ビート信号の周波数を測定するのではなく、ビート信号
のスペクトルの変化を測定し測定対象の反射点までの距
離を求める方式を採り、レーザ光源のスペクトル線幅に
より測定可能距離が制限されないファイバ検査装置を実
現することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために本発明では、レーザ光源からの出力光を分割
し、分割した前記出力光を測定対象および参照ミラーに
入射し、前記測定対象および前記参照ミラーからの反射
光を合波させることにより得られるビート信号を測定
し、前記測定対象の反射点の位置または反射率を得るよ
うにしたファイバ検査装置において、前記レーザ光源の
発振周波数を周波数fMOD で変調すると共にその変調周
波数fMOD を時間的に変化させ、前記変調周波数fMOD
に対する前記ビート信号の変化から前記測定対象の反射
点の位置または反射率を得るように構成したことを特徴
とする。
【0011】
【作用】半導体レーザの発振周波数をデューティー比50
%の変調周波数fMOD で変調すると共に変調周波数f
MOD を時間に対し線形に増加させる。測定対象からの信
号光とミラーからの参照光の間に光路長差があると、こ
の光路長差に対応する時間差Δtだけ信号光の周波数変
調の位相が遅れる。PDで得られるビート信号のスペク
トルは変調周波数fMOD の変化1/Δtを周期として変
化したものとなり、これに対応してアナログ・デジタル
変換器(以下ADCという)に加わる電圧も周期的に変
化する。ADCで得られたデータを信号処理部でFFT
解析し、得られた周期からΔtが求められ、Δtから前
記光路長差つまり測定対象の反射点の位置が求められ
る。また、その強度から反射点の反射率が求められる。
【0012】
【実施例】以下図面を用いて本発明を詳しく説明する。
図1は本発明に係るファイバ検査装置の一実施例を示す
構成図である。
【0013】なお、実施例では、半導体レーザLD15
の周波数変調がデューティー比50%の周波数推移変調
(デジタル周波数変調)であり、LD15のスペクトル
線幅が1MHzであり、LD15の周波数変調の最大周波数
偏移がLD15のスペクトル線幅より大きい10GHz であ
り、LD15の発振周波数の変調周波数fMOD の時間的
変化が初期値1MHzから最終値1GHzまで線形に増加し、ビ
ート信号の測定回路がバンドパスフィルター10と検波
回路11からなり、バンドパスフィルター10の中心周
波数がLD15の周波数変調の最大周波数偏移10GHz に
設定され、かつバンドパスフィルター10の通過帯域幅
がLD15のスペクトル線幅の5倍の5MHzに設定され、
検波回路11がLD15の周波数変調の最大周波数偏移
の周波数10GHz の信号に同調するように設定され、検波
回路11の出力を遮断周波数がLD15の発振周波数の
変調周波数fMOD の最小値1MHzより低い100kHzのローパ
スフィルター12を通し、その出力信号をADC13で
AD変換し、得られたデータを信号処理部14でFFT
解析し、出力信号の周波数と強度から測定対象の反射点
の位置または反射率を得るようにした反射点測定装置を
例にとって示してある。
【0014】図1において、1は測定対象、2はミラ
ー、3はハーフミラー、4はPD、10はバンドパスフ
ィルタ、11は検波回路、12はローパスフィルタ、1
3はADC、14は信号処理部、15はLD、16は周
波数制御回路、17は制御部、9は表示部である。
【0015】半導体レーザLD15の発振周波数f
LDは、周波数制御回路16により図2に示すようにデュ
ーティー比50% 、最大周波数偏移10GHz 、変調周波数f
MOD で周波数推移変調(デジタル周波数変調)されてい
る。また、図2と図3に示すように変調周波数fMOD
初期値1MHzから最終値1GHzまで時間に対し線形に増加
し、1回の測定はaから始まりbで終わる。
【0016】ここで変調周波数fMOD の変化は変調周波
数fMOD や測定対象の反射点までの光の往復時間に比べ
十分緩やかで、ここでは1s程度とする。したがって、A
DC13がAD変換する各点での変調周波数fMOD は一
定と考えられる。LD15の出力光はハーフミラー3で
2分され、一方は測定対象1に入射し、他方はミラー2
に入射する。ミラー2に入射した光は鏡面で反射され参
照光としてPD4に向かう。測定対象1に何らかの反射
点がある場合、そこからの反射光(以下この反射光を信
号光と呼ぶ)はハーフミラー3によりPD4に向かい参
照光と干渉する。
【0017】ここで測定対象1からの信号光とミラー2
からの参照光の間に光路長差ΔLがあると、この光路長
差に対応する時間差Δtだけ信号光の周波数変調の位相
が遅れることとなる。なお前記したように変調周波数f
MOD の変化が測定対称の反射点までの光の往復時間に比
べ十分緩やかなので、変調周波数の変化は無視でき、信
号光と参照光の変調周波数fMOD は等しい。信号光と参
照光の周波数の関係と得られるビート信号の周波数を図
4に図示する。
【0018】ここで図4の(a)、(b)、(c)、
(d)は時間差Δtと変調周波数fMOD により決まる信
号光の位相遅れがそれぞれ0、π/2、π、3π/2の
場合である。図4(a)は信号光と参照光の光路長差に
対応する時間差Δtが変調周波数fMOD の周期1/f
MOD の整数倍となっている場合で、この場合信号光の周
波数変調の位相遅れが2πの整数倍つまりゼロとなる。
ここで光路長差に対応する時間差ΔtがLD15のスペ
クトル線幅に対応する時間1μsに比べ短ければ信号光と
参照光の発振周波数は一致するが(以下この場合を前者
の場合とする)、Δtがそれよりも長くなるとLD15
の発振周波数揺らぎの影響により両者の周波数はスペク
トル線幅程度の範囲でばらつくこととなる(以下この場
合を後者の場合とする)。
【0019】したがってPD4に得られるビート信号の
周波数は前者の場合直流(DC)となり、後者の場合D
Cからスペクトル線幅の1MHz程度の範囲となる。これを
図4(a)に示す(スペクトル線幅による1MHz程度の広
がりは縦軸に比較し小さいので明示していない)。どち
らの場合もバンドパスフィルター10の中心周波数と通
過帯域幅がそれぞれ10GHz と5MHzに設定されているた
め、ビート信号は全てバンドパスフィルター10でカッ
トされ信号は出ない。
【0020】次に変調周波数fMOD が図4(a)の条件
から変化すると、参照光と信号光の周波数変化に位相差
が生じる。図4(b)は変調周波数の変化が1/(4Δ
t)となった場合で、この時の参照光と信号光の位相差
はπ/2となる。この場合PD4に得られるビート信号
の周波数は図4(b)のようにDCと最大周波数偏移10
GHz の周波数がデューティー比50% で交互に現れる。た
だし後者の場合ビート信号の周波数は、スペクトル線幅
の1MHz程度の範囲に広がる。このビート信号のスペクト
ルを図5に示す。バンドパスフィルター10の中心周波
数と通過帯域幅がそれぞれ10GHz と5MHzに設定されてい
るため、前者の場合も後者の場合も10GHz の信号のみが
検波回路11に入り、検波回路11から図4(b)に示
す矩形波の出力信号が得られる。この出力信号がローパ
スフィルター12により平均化され、矩形波のデューテ
ィー比に比例した電圧がADC13に加わることとな
る。
【0021】この場合デューティー比が50% であるため
最大値(図4(c)で得られる電圧)の半分の値とな
る。図4(c)は変調周波数の変化が1/(2Δt)と
なった場合で、この時の参照光と信号光の位相差はπと
なる。この場合PD4に得られるビート信号の周波数は
図4(c)のように常に最大周波数偏移10GHz となる。
ただし後者の場合ビート信号の周波数は、スペクトル線
幅の1MHz程度の範囲に広がる。
【0022】バンドパスフィルター10の中心周波数と
通過帯域幅がそれぞれ10GHz と5MHzに設定されているた
め、前者の場合も後者の場合も10GHz の信号が検波回路
11に入り、検波回路11から図4の(c)に示すDC
の出力信号が得られる。このDCの出力信号はローパス
フィルター12を通過しADC13に加わる。この場合
デューティー比100%に対応し最大の電圧が得られること
となる。
【0023】図4の(d)は変調周波数の変化が3/
(4Δt)となった場合で、この時の参照光と信号光の
位相差は3π/2となる。この場合PD4に得られるビ
ート信号の周波数は図4(d)のようにDCと最大周波
数偏移10GHz の周波数がデューティー比50% で交互に現
れる。この場合図4(b)と同様に検波回路11から図
4(d)に示す矩形波の出力信号が得られ、最大値(図
4(c)で得られる電圧)の半分の電圧がADC13に
加わることとなる。更に変調周波数の変化が1/Δtと
なると参照光と信号光の位相差は2πとなり図4の
(a)の状態に戻る。
【0024】以上の変化をまとめ、変調周波数の変化に
対しADC13に加わる電圧を図6に示す。このように
PD4に得られるビート信号のスペクトルが変調周波数
の変化1/Δtを周期として変化し、これに対応しAD
C13に加わる電圧も周期的に変化する。したがってA
DC13で得られたデータを信号処理部14でFFT
(高速フーリエ変換)解析し、得られた周期からΔtが
計算でき、Δtから信号光と参照光の間に光路長差ΔL
つまり測定対象1の反射点の位置が求められる。またそ
の強度から反射点の反射率が求められる。制御部17は
全体の測定シーケンスを制御すると共に、測定結果を表
示部9に表示する。
【0025】以上説明したように、信号光と参照光の光
路長差に対応する時間差ΔtがLD15のスペクトル線
幅に対応する時間1μsに比べ長くなり、LD15の発振
周波数揺らぎの影響により両者のビート信号の周波数が
測定できない場合でも、測定対象1の反射点までの距離
を計測することができる。また、分解能は、LD15の
発振周波数の変調周波数fMOD の周波数変化幅ΔfMOD
(つまり初期値fMOD1から最終値fMOD2までの変化量)
で決まり、測定対象1の屈折率をn、光速をcとする
と、c/2nΔfMOD となる。実施例では周波数変化幅
ΔfMOD =1GHz-1MHz ≒1GHzであるので、ファイバの屈
折率を1.5として測定分解能は約10cmとなる。このよう
に本測定法は、ファイバ検査装置として要求される測定
距離と分解能の両方を満足する測定方法である。
【0026】なお、本発明は実施例に限定されるもので
はない。例えば、実施例ではLD15の発振周波数の変
調周波数fMOD を1MHzから1GHzまで約1GHz変化させた
が、分解能は周波数変化幅ΔfMOD で決まるため変調周
波数fMOD の初期値と最終値に制限はなく、例えば1GHz
から2GHzまで1GHz変化させてもよい。
【0027】また、上記実施例で信号光の偏波状態によ
るビート信号の強度変化を防ぐため、受光部PD4に偏
波ダイバシティー方式を用いてもよい。更にまた、上記
実施例ではLD15の発振周波数の変調周波数fMOD
初期値1MHzから最終値1GHzまで時間に対し線形に増加さ
せローパスフィルター12の出力信号の周期を測定して
いるが、LD15の発振周波数の変調周波数fMOD の変
化は時間に対し線形でなくてもよい。この場合にはLD
15の発振周波数の変調周波数fMOD の周波数変化量が
所定の値ΔfMOD となる毎にトリガー信号を発生させ、
このトリガー信号でADC13のサンプリングを行えば
よい。
【0028】またバンドパスフィルタの代わりにハイパ
スフィルターを用いてもよい。この場合、ハイパスフィ
ルタの遮断周波数をレーザ光源の周波数変調の最大周波
数偏移より低く設定する。
【0029】上記実施例で、LD、PD、ミラー、ハー
フミラー間の空間光による結合にファイバまたは偏波面
保存ファイバを用いてもよい。また、ハーフミラーをフ
ァイバを用いたカップラーに置き換えてもよい。
【0030】
【発明の効果】本発明によれば、受光部に光ヘテロダイ
ン検波を用い、かつビート信号のスペクトルの変化を測
定して測定対象の反射点までの距離を求めるため、SN
比を向上させ、かつビート信号の周波数揺らぎの影響が
ない測定法が可能となる。これにより受光部に光ヘテロ
ダイン検波を用いた高分解能なファイバ検査装置におい
て、レーザ光源のスペクトル線幅により測定可能距離が
制限されなくなるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るファイバ検査装置の一実施例を示
す構成図である。
【図2】発振周波数fLDの周波数推移変調の様子を示す
図である。
【図3】変調周波数fMOD の変化の様子を示す図であ
る。
【図4】信号光と参照光の周波数の関係およびビート信
号の周波数と検波回路の出力を示す図である。
【図5】ビート信号のスペクトルの一例を示す図であ
る。
【図6】変調周波数の変化に対しADCに加わる電圧を
示す図である。
【図7】従来のファイバ検査装置の一例を示す構成図で
ある。
【図8】従来のファイバ検査装置における変調周波数f
LDの変化の様子を示す図である。
【符号の説明】
1 測定対象 2 ミラー 3 ハーフミラー 4 PD 9 表示部 10 バンドパスフィルタ 11 検波回路 12 ローパスフィルタ 13 ADC 14 信号処理部 15 LD 16 周波数制御回路 17 制御部

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】レーザ光源からの出力光を分割し、分割し
    た前記出力光を測定対象および参照ミラーに入射し、前
    記測定対象および前記参照ミラーからの反射光を合波さ
    せることにより得られるビート信号を測定し、前記測定
    対象の反射点の位置または反射率を得るようにしたファ
    イバ検査装置であって、 前記レーザ光源の発振周波数を周波数fMOD で変調する
    と共にその変調周波数fMOD を時間的に変化させ、前記
    変調周波数fMOD に対する前記ビート信号の変化から前
    記測定対象の反射点の位置または反射率を得るように構
    成したことを特徴とするファイバ検査装置。
  2. 【請求項2】前記レーザ光源の周波数変調がデューティ
    ー比50%の周波数推移変調であることを特徴とする請求
    項1記載のファイバ検査装置。
  3. 【請求項3】前記レーザ光源の周波数変調の最大周波数
    偏移が前記レーザ光源のスペクトル線幅より大きいこと
    を特徴とする請求項1記載のファイバ検査装置。
  4. 【請求項4】前記変調周波数fMOD に対する前記ビート
    信号の変化の周期解析を行い、その周期と強度から前記
    測定対象の反射点の位置または反射率を得るようにした
    ことを特徴とする請求項1記載のファイバ検査装置。
  5. 【請求項5】前記レーザ光源の周波数変調をデューティ
    ー比50%の周波数推移変調とすると共に前記周波数変調
    の最大周波数偏移をレーザ光源のスペクトル線幅より大
    きくし、 前記ビート信号に含まれる、前記最大周波数偏移近傍の
    周波数成分の信号のデューティー比の前記変調周波数f
    MOD に対する周期的変化から、前記測定対象の反射点の
    位置または反射率を得るようにしたことを特徴とする請
    求項1記載のファイバ検査装置。
  6. 【請求項6】前記レーザ光源の発振周波数の変調周波数
    MOD の時間的変化が、初期値fMOD1から最終値fMOD2
    まで変化率一定で増加または減少するようにしたことを
    特徴とする請求項1記載のファイバ検査装置。
  7. 【請求項7】前記ビート信号を測定する回路がハイパス
    フィルターと検波回路からなり、前記ハイパスフィルタ
    ーの遮断周波数が前記レーザ光源の周波数変調の最大周
    波数偏移より低く設定され、前記検波回路が前記レーザ
    光源の周波数変調の最大周波数偏移の周波数の信号に同
    調するように設定されていることを特徴とする請求項1
    記載のファイバ検査装置。
  8. 【請求項8】前記ビート信号を測定する回路がバンドパ
    スフィルターと検波回路からなり、前記バンドパスフィ
    ルターの中心周波数が前記レーザ光源の周波数変調の最
    大周波数偏移に設定され、かつ前記バンドパスフィルタ
    ーの通過帯域幅が前記レーザ光源のスペクトル線幅と同
    程度かまたは広く設定され、前記検波回路が前記レーザ
    光源の周波数変調の最大周波数偏移の周波数の信号に同
    調するように設定されていることを特徴とする請求項1
    記載のファイバ検査装置。
  9. 【請求項9】前記レーザ光源の周波数変調をデューティ
    ー比50%の周波数推移変調とすると共に、前記レーザ光
    源の周波数変調の最大周波数偏移を前記レーザ光源のス
    ペクトル線幅より大きくし、 前記レーザ光源の発振周波数の変調周波数fMOD の時間
    的変化が初期値fMOD1から最終値fMOD2まで変化率一定
    で増加または減少し、前記ビート信号を測定する回路が
    ハイパスフィルターと検波回路からなり、前記ハイパス
    フィルターの遮断周波数が前記レーザ光源の周波数変調
    の最大周波数偏移より低く設定され、前記検波回路が前
    記レーザ光源の周波数変調の最大周波数偏移の周波数の
    信号に同調するように設定され、 前記検波回路の出力を、遮断周波数が前記レーザ光源の
    発振周波数の変調周波数の最小値より低いローパスフィ
    ルターを通し、その出力信号をデジタル変換し、得られ
    たデータをFFT解析して前記出力信号の周波数と強度
    から前記測定対象の反射点の位置または反射率を得るよ
    うにしたことを特徴とする請求項1記載のファイバ検査
    装置。
  10. 【請求項10】前記レーザ光源の周波数変調をデューテ
    ィー比50%の周波数推移変調とすると共に、前記レーザ
    光源の周波数変調の最大周波数偏移を前記レーザ光源の
    スペクトル線幅より大きくし、前記レーザ光源の発振周
    波数の変調周波数fMOD の時間的変化が初期値fMOD1
    ら最終値fMOD2まで変化率一定で増加または減少し、前
    記ビート信号を測定する回路がバンドパスフィルターと
    検波回路からなり、前記バンドパスフィルターの中心周
    波数が前記レーザ光源の周波数変調の最大周波数偏移に
    設定され、かつ前記バンドパスフィルターの通過帯域幅
    が前記レーザ光源のスペクトル線幅と同程度かまたは広
    く設定され、前記検波回路が前記レーザ光源の周波数変
    調の最大周波数偏移の周波数の信号に同調するように設
    定され、 前記検波回路の出力を、遮断周波数が前記レーザ光源の
    発振周波数の変調周波数の最小値より低いローパスフィ
    ルターを通し、その出力信号をデジタル変換し、得られ
    たデータをFFT解析して前記出力信号の周波数と強度
    から前記測定対象の反射点の位置または反射率を得るよ
    うにしたことを特徴とする請求項1記載のファイバ検査
    装置。
  11. 【請求項11】前記ビート信号を測定する回路の受光部
    が、偏波ダイバシティー方式であることを特徴とする請
    求項9または請求項10記載のファイバ検査装置。
  12. 【請求項12】前記レーザ光源の発振周波数の変調周波
    数fMOD を初期値fMOD1から最終値fMOD2まで変化さ
    せ、所定の周波数変化量ΔfMOD 毎にトリガー信号を発
    生させ、このトリガー信号で前記デジタル変換のサンプ
    リングを行うことを特徴とする請求項9または請求項1
    0記載のファイバ検査装置。
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