JP5487149B2 - 波長分散測定装置及びそれを用いた波長分散測定方法 - Google Patents

Description

本発明は、光パルスの波長分散を測定する波長分散測定装置等の技術分野に関し、特に伝送レートが数十Gbit／sの高速光通信システムにおける光ファイバネットワークの光伝送路を伝搬する光パルスの波長分散を測定する波長分散測定装置及びそれを用いた波長分散測定方法に関する。

近年、データ通信は光ファイバを介したものに移行しつつあり、これに伴い、データの伝送速度も従来より飛躍的に高まっている。近い将来、このような光ファイバを介した高速光通信システムにおいて、超短光パルスを用い、現時点での伝送速度より高速な数十Gbit／sもしくはそれ以上の伝送速度で通信を行うことが検討されている。

ところで、高速光通信システムにおけるデータ通信を行う場合、常にクロストークや伝送エラーが発生するという問題がある。
しかしながら、データの伝送速度がより高速となるに従い、個々の光パルスの幅と、互いに前後する光パルスの間隔が狭くなり、上述したクロストークや伝送エラーが、信頼性の高いデータ通信を行う際、以下に説明するように非常に重要な問題となる。

光が物質中を進行する速度は、伝搬する物質の屈折率によって決まるため、物質の屈折率が大きいほど光の速度は遅くなる。ガラス、半導体、光学結晶等の物質の屈折率は、光の周波数(空気中の波長)によって変化する。そのため、光の速度は波長に依存することになる。この屈折率の波長依存性により、光パルスが物質中を進行する間に波形が歪み、光パルスの時間幅が広がる要因となることが知られている。さらに、光ファイバに代表される光導波路では、コア及びクラッドの各々の形状・寸法に応じて、光導波路の実効屈折率が決まるため、光導波路における光の速度が波長に依存する。したがって、光導波路の構造も光パルスの時間幅が広がる要因となる。
このように、光の波長に応じて光速度が異なる、という特性を、以下、波長分散、あるいは単に分散と称する。

このように、光パルスが光ファイバ中を進行する間に、上述した波長分散により光パルスの波形が歪んだり、光パルスの時間幅が広がるが、従来の伝送速度では、光パルスの幅も前後の光パルスの間隔も波長分散に比較して広いため、特に大きな問題とはならない。
しかし、データの伝送速度が数十Gbit／s以上となり高くなると、波長分散が前後の光パルスの間隔より広くなり、前後の光パルス同士が干渉するなどして、クロストークや伝送エラーが生じてしまう。このため、現状の技術のままで単に伝送速度を高めようとしたのでは、より高速度で信頼性の高いデータ通信は実現できない。

上述した高速光通信システムにおける波長分散を除去（或いは制御）するためには、まず当該高速光通信システムに使用する各種光コンポーネント等の波長分散を測定して、各部材の波長分散の特性を把握する必要がある。
例えば、スペクトル位相の変化から波長分散を求めるため、各種コンポーネントのスペクトル位相を測定する周波数シフタを用いたスペクトルシアリング干渉計を用いた波長分散測定装置がある（例えば、特許文献１参照）。
このスペクトルシアリング干渉計では、スペクトル位相を一義的に計測可能とする目的として、光パルスのｃｏｓ成分及びｓｉｎ成分を各々水平偏光成分及び垂直偏光成分に変換し、偏波分離を行うことによって直交二成分を同時に計測するため、空間光学系を用いて干渉計を構成している。

スペクトルシアリング干渉計においては、干渉計の一部を構成する光ファイバ内を、光パルスが直線偏光により伝搬される。
このスペクトルシアリング干渉計において、ｃｏｓ成分及びｓｉｎ成分の直交二成分を発生させるためには、直線偏光を円偏光に変換する必要がある。
この円偏光は、縦及び横に直交する水平偏光及び垂直偏光の２つの直交偏光の重ね合わにより形成されている。水平偏光と垂直偏光との間には９０°の位相差がある。
したがって、偏光ビームスプリッタを用いて、円偏光を水平偏光と垂直偏光とに空間分離することにより、 ｃｏｓ成分とｓｉｎ成分との直交二成分を得ることができる。

上述したように、波長分散の測定には、複数の波長帯におけるｃｏｓ成分とｓｉｎ成分との直交二成分を得る必要がある。
これに対して、光ファイバにおいては、光ファイバの光学長に応じた特定波長の光のみが、円偏光から楕円偏光に変化されずに伝搬され、それ以外の波長の光を円偏光から楕円偏光に変化して伝搬され、直交二成分を安定した状態にて維持することができず、高い精度にて直交二成分を得ることができない。

このため、円偏光が楕円偏光に変化しないように、直交二成分の分離に関わる光路に空間光学系を用いることにより、該当する全ての波長の光に対して円偏光を安定に伝搬させ、ｃｏｓ成分とｓｉｎ成分との直交二成分を高い精度にて発生させている。

特開２００７−８５９８１号公報

しかしながら、特許文献１の波長分散測定装置は、精度よく光パルスの直交二成分を得ることができるが、空間光学系を用いているため、光ファイバと空間光学系との間における光の入出力により、光損失が発生する。この光損失により、光の強度が低下してしまい、測定感度が低減するという問題がある。
また、特許文献１の波長分散測定装置は、空間光学系を用いているため、装置の構成が複雑となり、かつ空間光学系に必要な部品を配置する必要性あるため小型化できないという問題がある。

また、特許文献１の波長分散測定装置は、空間光学系を用いて偏光の選別により直交二成分を得ているため、直交二成分以外の複数の位相成分、例えば、ラジアン単位での位相角度が０、π及びαとなる３つの位相成分を発生するように光学系を拡張することは困難である。ここで、αとは、０とπとの間、すなわち０より大きく、πよりも小さい任意の位相角度を示している。

上述した０、π及びαとなる３つの位相成分を用いて、波長分散の特性の精度を低下させる背景成分となる非干渉成分（非干渉光成分、すなわちＤＣ成分に相当）を、数値演算により除去することができる。
しかし、特許文献１の波長分散測定装置では、０とπとの直交二成分のみが発生可能であり、任意の位相角度αの位相成分を発生させることができない。
したがって、特許文献１の波長分散測定装置では、非干渉成分を除去するために、干渉計の各分岐経路への光強度分布を、常に５０：５０に一致するように干渉計を最適化する必要がある。このため、分岐経路への光強度分布を常に５０：５０に保持するための安定化機構が必要となり、装置が複雑となり大型化することになり、小型化を行うことが困難となる。

そこで、本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、装置を小型化することが可能であり、かつ非干渉成分の影響を受けることなく、光パルスの波長分散の測定を確実かつ高安定に実現する波長分散測定装置等を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、請求項１に記載の発明は、測定対象から入射される被測定光信号を伝搬する、偏波保持特性を有する光ファイバで構成された入射経路（入射光ファイバ１）と、前記入射経路に接続された第１入射端から被測定光信号を入射し、当該被測定光信号を第１入出射端から出射し、また当該第１入出射端から入射される合波被測定光信号を第１出射端から出力する光循環部（光循環部２）と、一端が前記第１入出射端に接続された、偏波保持特性を有する光ファイバで構成された第１接続経路（光ファイバ３）と、前記第１接続経路の他端に接続された第２入出射端から前記被測定光信号を、第１被測定光信号及び第２被測定光信号の２つに分離し、前記第１被測定光信号を第３の入出射端から出射し、また前記第１被測定光信号と同一の偏光方向であり、かつ当該第１被測定光信号に対し、予め設定した周波数分シフトさせた前記第２被測定光信号を第４の入出射端から出射し、一方、前記第３の入出射端から入射される第１被測定反射光信号と、前記第４入出射端から入射される第２被測定反射光信号を第１被測定反射光信号に対して前記周波数分シフトさせた信号とを合波し、この合波による干渉結果として前記合波被測定光信号を、前記第２入出射端から出射する光分岐結合部（光分岐結合部４）と、一端が前記第３入出射端に接続された、偏波保持特性を有する光ファイバで構成された第１分岐経路（光ファイバ５）と、一端が前記第４入出射端に接続された、偏波保持特性を有する光ファイバで構成された第２分岐経路（光ファイバ６）と、前記第１分岐経路の他端に接続された第５入出射端から入射される第１被測定光信号を全反射し、前記第１被測定反射光信号として前記第５入出射端から前記第１分岐経路へ出射する第１終端部（第１終端部１１）と、前記第２分岐経路の他端に接続された第６入出射端から入射される前記第２被測定光信号を全反射し、前記第２被測定反射光信号として前記第６入出射端から前記第２分岐経路へ出射する第２終端部（第２終端部１２）と、前記第１分岐経路及び前記第２分岐経路のいずれか一方に設けられ、設けられた分岐経路を伝搬する光測定光信号の位相α_ｉ（ラジアン単位、α_ｉは実数であり０≦α_ｉ≦２π、ｉは整数であり３≦ｉ）を周期的に変化させる光位相シフタ（光位相シフト部８）と、前記第１出射端に接続され、前記合波被測
定光信号を伝搬させる光ファイバで構成された測定結合用経路（出射光導入光ファイバ１３）と、前記測定結合用経路に接続された第２入射端から前記合波被測定光信号を入射し、前記合波被測定光信号を通過させる周波数範囲を掃引し、前記合波被測定光信号から前記周波数範囲のスペクトル成分を抽出する周波数分解を行い、周波数分解の結果を成分被測定光信号として第２出射端から出射する光周波数掃引部（光周波数掃引部１４）と、前記第２出射端に接続され、前記成分被測定光信号を伝搬させる光ファイバで構成された出射光経路（出射光ファイバ１５）と、前記出射光経路に接続された第３の入射端から前記成分被測定光信号を入射し、該成分被測定光信号を電気信号に変換し、変換結果を干渉信号とする光検出部（光検出部１６）と、前記光位相シフタの位相の変化に同期させ、前記位相シフタの位相を変化させる一周期内においてｉが増加される毎に、前記第１被測定光信号と前記第２被測定光信号との位相α_ｉにおける光成分に対応する前記干渉信号を時系列的に取得する制御部（制御部１７）とを有することを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項２に記載の発明は、前記ｉの取り得る値の範囲がｍである場合、前記制御部が、前記第ｉ光成分の各々に対し、周波数成分毎の測定間隔を１／ｍとする補間処理を行うことにより、全干渉信号のデータ点数をｍ倍とすることを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項３に記載の発明は、前記α_ｉの要素の総数が３以上（ｉ≧３）であり、前記制御部が、当該要素から３つの要素として、位相α_１の第１光成分、位相α_２の第２光成分及び位相α_３の第３光成分を抽出し、当該第１光成分、当該第２光成分及び当該第３光成分の各々から前記干渉信号を取得することを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項４に記載の発明は、前記制御部が、前記第１光成分の前記干渉信号を受信する第１受信部と、前記第２光成分の前記干渉信号を受信する第２受信部と、前記第３光成分の前記干渉信号を受信する第３受信部とを有していることを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項５に記載の発明は、前記α_ｉの要素の総数が２０以上（ｉ≧２０）であることを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項６に記載の発明は、前記第１終端部または前記第２終端部のいずれかまたは双方の終端部の反射率が可変であり、前記制御部が、前記光分岐結合部に入射される前記第１被測定反射光信号と前記第２被測定反射光信号との光強度の差分を、前記第１光成分の干渉信号及び第２光成分の干渉信号との波形における直流成分の電圧値により検出し、当該電圧値が予め設定した閾値を超える場合、反射率が可変な前記終端部の反射率を、前記電圧値が前記閾値以下となるように制御することを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項７に記載の発明は、前記第１分岐経路または第２分岐経路のいずれかまたは双方に光強度調整部が介挿されており、前記制御部が、前記光分岐結合部に入射される前記第１被測定反射光信号と前記第２被測定反射光信号との光強度の差分を、前記第１光成分の干渉信号及び第２光成分の干渉信号との波形の電圧値により検出し、当該電圧値が予め設定した閾値を超える場合、前記光強度調整部により、前記第１被測定反射光信号と前記第２被測定反射光信号とにおける反射率の強度の差分である前記電圧値を、前記閾値以下となるよう制御することを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項８に記載の発明は、前記第１分岐経路及び前記第２分岐経路のいずれか一方に設けられ、前記第１分岐経路と前記第２分岐経路との光路長差を調節する光遅延部をさらに有することを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項９に記載の発明は、前記第１分岐経路及び前記第２分岐経路のいずれか一方に前記光遅延部が設けられ、前記位相シフタが他方に設けられることを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項１０に記載の発明は、前記第１分岐経路及び前記第２分岐経路のいずれか一方に、前記光遅延部及び光位相シフタが一体化して設けられていることを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項１１に記載の発明は、前記制御部が、測定範囲における測定周波数の掃引毎に、測定単位として前記干渉信号毎に前記第１光成分、第２光成分及び前記第３光成分をデータグループとして時系列に取得することを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項１２に記載の発明は、前記光結合部の前記第３出射端から出射する前記合波光信号を第１光ファイバを介して前記第６入射端から入射し、校正用光源の出射端から出射する校正光を第７出射端から入射し、前記合波信号もしくは前記校正光のいずれかを選択して前記第５出射端から出射する光入力切替部を有し、該光入力切替部で選択した前記合波光信号もしくは前記校正光を第２光ファイバを介して前記光周波数挿引部の前記第４入射端に入射させ、前記結合用経路中に、前記結合用経路を伝搬する光として前記合波被測定光信号と前記構成用光源の出射端から出射する前記校正光とを切替える手段を有することを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項１３に記載の発明は、前記測定結合用経路を偏波保持特性を有する光ファイバで構成し、前記測定結合用経路の後段に、前記合波被測定光信号の偏光方向を制御する偏波コントローラを挿入し、当該偏波コントローラと前記光周波数掃引部との間を偏波保持特性を有する第３光ファイバにより接続していることを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項１４に記載の発明は、前記請求項１から請求項１３のいずれかの波長分散測定装置を用いて、測定対象の波長分散を求める波長分散測定方法であって、前記測定対象である光伝送路の波長分散を評価する部分に分岐部を設け、偏波制御部が該分岐部より得られる被測定光信号の偏波を直線偏波に制御し、前記波長分散測定装置内を伝搬する偏光軸に揃え、該波長分散測定装置に前記入射経路を介して被測定光信号を入射させ、前記第１光成分及び前記第２光成分の前記干渉信号から被測定光信号のスペクトル位相の変化分を求め、前記測定対象における波長分散を評価することを特徴とする。

上記課題を解決するため、請求項１５に記載の発明は、前記請求項１から請求項１３のいずれかの波長分散測定装置を用いて、測定対象の波長分散を求める波長分散測定方法であって、前記測定対象の出射端から出射される光信号の偏波を直線偏波に制御し、前記波長分散測定装置内を伝搬する偏光軸に揃えた被測定光信号とし、当該測定対象が複数の波長チャンネルを含む場合には、前記測定対象から出射される前記被測定光信号から、単一の波長チャンネルの光信号を抽出し、抽出した前記被測定光信号を前記波長分散装置に入射して、当該被測定対象における波長分散を評価することを特徴とする。

この発明によれば、空間光学系を使用せず、偏波保持特性を有する光ファイバの第１分岐経路及び第２分岐経路によって、波長分散測定装置の干渉計を構成しているため、従来例のように、光ファイバと空間光学系との間における光の入出力による光損失が発生せず、被測定光信号の光の強度を低下させることが無くなる。
また、この発明によれば、空間光学系を用いていないため、装置の構成が簡易となり、かつ空間光学系において必要とされていた部品を配置する必要性がなく、装置を小型化することが可能となる。

また、この発明によれば、偏波維持特性を有する光ファイバによって、被測定光信号の偏波を維持させた状態で装置内を伝搬させ、干渉計を構成する第１分岐経路及び第２分岐経路において、第１分岐経路に伝搬される第１被測定光信号対し、第２分岐経路に伝搬される第２被測定光信号の位相差を時系列に、ラジアン単位で０からπの間で周期的に切り替えることにより、安定した同一の偏波状態の第１及び第２被測定光信号から、非干渉成分の影響を受けることなく行えるため、各々異なる位相シフト量の第ｉ光成分から干渉要素を抽出することができ、従来に比較して光パルスの波長分散の測定を、高精度かつ高感度に行うことができる。

光パルスからスペクトル位相の変化分Δφ（ν）の測定を説明するための図である。 周波数シフトしていない第１被測定光信号と、周波数シフトさせた第２被測定光信号との波形を示す図である。 第１の実施形態による波長分散測定装置の構成例を示すブロック図である。 光循環部２の他の構成例を示す図である。 光分岐結合部４の他の構成例を示す図である。 第１の実施形態における、光周波数掃引部１４の周波数掃引動作と、これに対応した光位相シフト部８の位相シフトの動作と、制御部１７における光検出部１６からの電気信号のサンプリングとにおける動作のタイミングを示す波形図である。 第２の実施形態における、光周波数掃引部１４の周波数掃引動作と、これに対応した光位相シフト部８の位相シフトの動作と、制御部１７における光検出部１６からの電気信号のサンプリングとにおける動作のタイミングを示す波形図である。 第３の実施形態による波長分散測定装置の構成例を示すブロック図である。 本発明の波長分散測定装置を用いて、光ファイバ伝送路を伝搬する光パルスの分散パラメータを測定する測定方法を説明する図である。 本発明の波長分散測定装置を用いて、光部品を伝搬する光パルスの分散パラメータを測定する測定方法を説明する図である。 入射する光の偏光方向がバンドパス光フィルタを構成する光ファイバの単一の偏光軸（例えば、スロー軸）に一致するように調節するための構成例を示す。 本発明の波長分散測定装置を用い、光パルス伝送路を伝搬する、光信号発生器で発生した光パルスの分散パラメータを測定する方法を説明する図である。 第８の実施形態による波長分散測定装置の構成例を示すブロック図である。

以下、本発明の好適な実施の形態を図面を用いて説明する。なお、本実施形態は、例えば東京−大阪間の幹線光ファイバ伝送路、都市部でのメトロ光ファイバネットワーク網等、波長多重伝送を併用する光ネットワーク等の光ファイバ伝送路を伝搬する光パルスの波長分散特性を評価するための波長分散測定装置及び当該波長分散測定装置を用いた波長分散測定方法に本発明を適用した場合の実施形態である。

［波長分散］
先ず、本実施形態における波長分散測定装置にて測定する波長分散について説明する。

本実施形態では、上述したように光ファイバ伝送路を伝搬する光パルスのスペクトル位相を測定し、光ファイバ伝送路にて生じる波長分散の特性評価を行う。特に、本実施形態は１０ＧＢｉｔ／ｓ〜４０ＧＢｉｔ／ｓ程度の高速光通信システムにおいて使用する光ファイバ伝送路の波長分散の特性評価を行う場合に好適な実施形態について説明する。

光ファイバ伝送路の波長分散を評価するには、周波数−波数の関係、すなわち分散関係が重要となる。この関係より光が光ファイバ伝送路を伝搬する際の速度が求まる。この速度は、光パルスの重心が移動するスピードを指し”群速度”と呼ばれる。群速度の波長（周波数）依存性が波長分散をあらわす。

この群速度は、周波数−波数特性曲線の傾き(微分係数)として与えられ、真空や空気中では、周波数−波数特性は直線となり、群速度は周波数によらず一定であるが、ガラス・半導体・金属などの物質中では周波数−波数特性は直線にならず、群速度は周波数に応じて変化する。光パルスが伝搬する光ファイバ伝送路は、主としてガラスで形成されているので、ガラスの特性に応じた波長分散が生じると共に、コア及びクラッドの形状と寸法に応じた波長分散を生じ、光パルスの周波数(波長と言い換えてよい)に応じて群速度は変化することとなる。

ここで、光パルスは単一の波長だけでなく、さまざまな波長成分を含んでいるので、群速度が波長に依存すると光ファイバ伝送路中を伝搬するにつれて光パルスの幅が広がってしまい、光パルスの波形が歪み、前後の光パルスで信号が重なりクロストークが生じ、エラーが発生してしまう。

波長分散は、伝搬する光ファイバなどの媒質の伝搬方向の長さに比例して増大するため、光ネットワークが普及し、光ファイバや光部品で構成された経路の長さが増加するに従い、光パルスの歪みが大きく広がることになり、深刻な問題となる。
そのため、波長分散を補償することが、光ネットワークを構築して運用する際に重要な課題となる。この波長分散を補償するためには、この波長分散の程度を評価することが必要である。

この光ファイバ伝送路の波長分散の特性である分散パラメータ（dispersion parameter）Ｄは、以下に示す式（１）により表される。分散パラメータの単位は、例えばｐｓ／ｎｍ／ｋｍである。この式（１）において、Δτｇは群遅延時間差、Ｌは光が伝搬する距離、Δλは波長差である。

本実施形態においては、分散パラメータＤは、例えば光ファイバ伝送路や光部品の長さである。光が伝搬する距離Ｌは既知であるため、波長差に対する群遅延時間差が求まれば、分散パラメータＤを算出することができる。
上記波長差は、周波数差Δνにより、以下の式（２）として表される。式（２）において、νは周波数であり、ｃは光の速度である。

式（２）を式（１）に代入することにより、以下に示す式（３）を得る。

ところで、光の周波数は非常に高く、電気的測定により光の電界の振動を測定することは、例えば、波長１５００ｎｍの光の周波数は２００ＴＨｚ（テラヘルツ）に相当し、現状の技術では不可能である。そこで、光の位相を測定する手段として、干渉計が用いられる。
この干渉計では、入射光はビームスプリッタで２方向に分割され、各々の光は独立の経路を通過した後、再び一つに結合される。分割された光が各々の経路を伝搬することによる位相差を、結合後の干渉光の強度として測定することができる。

従って、本実施形態では、光ファイバ伝送路を伝搬している光パルス自身の一部を取り出して、当該取り出した光パルスの一部を周波数シフタ（ＡＯＦＳ：acousto-optic frequency shifter）でΔν_０だけ周波数シフトさせた光パルスを用いて、元の光パルスと干渉させて得られた干渉フリンジを強度および位相に極座標変換することにより、元の光パルスの位相の周波数微分を求めることができ、群遅延時間を測定することができる。

以下、図を用いてより具体的に説明する。図１は、光パルスからスペクトル位相の変化分Δφ（ν）の測定を説明するための図である。
図１（Ａ）は、光ファイバ伝送路を伝搬している光パルスの波形を示す図であり、横軸を時間ｔ、縦軸を信号強度Ｉで表した光パルスの時間波形である。同図に示す例では、光パルスは２５ｐｓ（４０Gbit／s）毎にＯＮ、ＯＦＦを繰り返すような光パルスであるものとする。光ファイバ伝送路や光部品を伝搬後のスペクトル位相をφ（ν）とし、Δνの周波数差に対するスペクトル位相の変化分がΔφ（ν）であるとすると、群遅延時間差Δτｇは以下の式（４）で表される。ここで、スペクトル位相は、一般に光パルスチャープ（pulse chirp）と呼ばれ、周波数の関数として位相がどのように変化していくかを記述するものであり、ここでは光ファイバ伝送路によって生じた位相変化を示すものである。

式（４）を式（３）に代入することにより、以下に示す式（５）で表す関係式が導かれる。

この式（５）式により、光ファイバ伝送路や光部品中を伝搬した光パルスに対して、周波数差Δνに対するスペクトル位相の変化分を求めることにより、光ファイバ伝送路や光部品における分散パラメータＤが求まり、波長分散を評価することができる。分散スロープなどの高次の波長分散は分散パラメータの周波数依存性として表われるため、全ての次数の波長分散が式（５）により評価できる。

また、図１（Ｂ）に光パルスの位相の周波数νの依存特性を示す。測定対象である光ファイバ伝送路の光パルスは二次の分散を有しており、さらに同図に示す如く上に凸形状を有する放物線で示されるように位相が変化する。周波数をΔν_０だけ微小シフトさせた場合には図中の点線で示すように、このシフトによりスペクトル位相もΔφだけ変化する。
このスペクトル位相の変化分Δφの値は、周波数シフトしていない元の光パルス（図中実線）を微分した値と等価となる。従って、スペクトル位相の変化分Δφを周波数のシフト量Δν_０で除算することにより、式（４）で示すように群遅延時間差Δτｇを求めることができる。

［スペクトルシアリング干渉計］
スペクトルシアリング干渉計においては、干渉計が備える２本の分岐経路により、入力される光パルスを、偏光方向を同一に保持させて２つに分岐し、いずれか一方の分岐経路を伝搬する光パルスに対して周波数シフトを与える。
図１（Ｃ）に光パルスの強度スペクトル波形を示す。同図は電界Ｒに対する周波数νの依存特性を示すものであり、実線で示す如く、周波数シフトしていない元の光パルスは中心周波数ν_０で電界Ｒが最大（ピーク）となるスペクトルを有することがわかる。一方、周波数をΔν_０だけ微小シフトさせた場合（点線で図示）には、強度スペクトルのピークはシフトするが、波形は変化しないことがわかる。つまり、周波数を微小シフトさせても電界Ｒの値は変化がないため、絶対値で示される元の光パルスのパワースペクトルを、周波数をΔν_０だけ微小シフトさせた光パルスのパワースペクトルにより近似することができる。

このため、この周波数シフトにより生じる干渉フリンジのスペクトルを取得し、図１（Ｂ）に示される周波数差Δνに対するスペクトル位相の変化分Δφ（ν）を、すなわち光パルスを微分した値と等価な値として測定することができる。その結果、得られたスペクトル位相の変化分Δφ（ν）を式（５）に代入することにより分散パラメータを算出し、波長分散を評価することができる。このスペクトルシアリング干渉計の詳細については、参考文献（OPTICS LETTERS Vol.19, No.4, pp.287-289, February 15, 1994,"Analysis of ultrashort pulse-shape measurement using linear interferferometers"）, VictorWong and Ian Walmsley）に示されている。
以下、上記参考文献に示される構成に加えて、背景成分となる非干渉成分が存在しない場合を想定し、直交二成分を検出することにより、一義的な位相の測定を含めた本実施形態によるスペクトルシアリング干渉計による波長分散の評価の基礎原理について説明する。
次に、非干渉成分が存在する場合に、ラジアン単位で位相シフトを０、π、αとして測定した位相成分（光成分）により背景成分となる非干渉成分を除去して直交二成分を求める方法を、後述する干渉成分に重畳した非干渉成分の除去の項において説明する。

波長分散を評価する対象となる光ファイバ伝送路や光部品を伝搬した光パルスを被測定光信号として、この被測定光信号を光分岐部により、偏光方向を同一に保持させた状態で２つの分岐経路に分離する。これら２つの分岐経路の一方に伝搬する被測定光信号をπ／２位相シフトさせ、２つの分岐経路、例えば第１分岐経路を伝搬する第１被測定光信号と第２分岐経路を伝搬する第２被測定光信号とを合波するよう干渉計を構成する。ここで、本実施形態においては、後に詳述するように、反射型のスペクトルシアリング干渉計の構成を対象としている。この反射型のスペクトルシアリング干渉計においては、干渉計の終端部が測定光を反射させることにより、干渉を発生させる経路を往復させる構成となっている。このため、一方向の場合に対し、測定光が同一の経路を２回伝搬することになる。すなわち、第１被測定光信号は第１分岐経路を往路で終端部方向に伝搬し、終端部にて反射して復路で第１分岐経路を第１被測定反射光信号として伝搬することで２度伝搬する。同様に、第２被測定光信号は第２分岐経路を往路で終端部方向に伝搬し、終端部にて反射して復路で第２分岐経路を第２被測定反射光信号として伝搬することで２度伝搬する。したがって、第１被測定光信号または第２被測定光信号のいずれか一方に加わるπ／２位相シフトは、往路及び復路のそれぞれにおいてπ／４ずつ与えられ、往復でπ／２となるように与えられる構成となっている。これにより、片方向にて０度及び４５度に位相を変更するため、一度に０度から９０度に変化させるのに対し、位相を変更させるための印加電圧を約半分に低下させることができ、省電力を実現することができる。
第１分岐経路を伝搬する第１被測定光信号の電界の時間波形を以下の式（６）により表す。この式（６）において、ｔは時間であり、ν_０は被測定光信号の中心周波数である。

この式（６）においては、直交二成分を表す第１被測定光信号の時間波形が示され、上段の行が直交二成分の一方の成分であるｃｏｓ成分、下側の行が直交二成分の他方の成分であるｓｉｎ成分を示している。また、｜Ｅ１ｃｏｓ（ｔ）｜、｜Ｅ１ｓｉｎ（ｔ）｜の各々は電界の包絡線の絶対値を表している。ここで、第１被測定光信号における第１光成分であるｃｏｓ成分とｃｏｓ成分に対して位相がπ／２異なる第２の光成分であるｓｉｎ成分とは偏光方向が同一である。
Ψは時間領域表記での位相であり、波長分散に関係する項を含んでいる。また、式（６）において、信号変調フォーマットに依存する位相成分は省略している。
スペクトル干渉計においては、式（６）の電界の時間波形を分光して、すなわちフーリエ変換を行って、中心周波数ν_０を原点としたスペクトルに変換し、以下の式（７）を得る。

次に、第２分岐経路を伝搬する第２被測定光信号には、中心周波数ν_０に対してΔν_０の周波数シフトを与える。この周波数シフトΔν_０は微少であり、ν_０≫Δν_０の関係にある。ここで、本実施形態においては、上述したように、反射型のスペクトルシアリング干渉計の構成であるため、第２被測定光信号は第２分岐経路を往復して伝搬することになる。そのため、本実施形態は、第２被測定光信号には周波数シフトΔν_０を与えるが、位相シフトと同様に、往路及び復路のそれぞれの片方向の伝搬において周波数シフトΔν_０／２ずつ与え、往復でΔν_０を第２被測定光信号に与える構成となっている。この反射型のスペクトルシアリング干渉計を用いることにより、一方向の伝搬のみで干渉信号を生成する透過型のスペクトルシアリング干渉計に対して、周波数シフト量を容易に倍とすることができる。

図２は周波数シフトしていない第１被測定光信号と、周波数シフトさせた第２被測定光信号との信号強度を示す波形図であり、横軸が周波数を示し、縦軸が光信号の強度を示している。周波数シフトが２００ＭＨｚの図２（ａ）に対し、図２（ｂ）は周波数シフト量が倍の４００ＭＨｚとなっている。図２（ａ）の場合、周波数シフトを与えた光信号と周波数シフトを与えない光信号との裾（テイル）が重なることで干渉を起こす部分（Ｑ）がある。このため、図１（ｂ）における周波数シフトを与えた光信号と周波数シフトを与えない光信号と分離が不十分となり、スペクトル位相Δφを正確に測定できない場合がある。一方、周波数シフト量が増加することにより、例えば図２（ｂ）に示すように周波数シフト量がΔν_０／２が倍となってΔν_０となれば、周波数シフトを与えた光信号と周波数シフトを与えない光信号との裾が重なることを抑制することができる。
このとき、単純に周波数シフト量を２００ＭＨｚを４００ＭＨｚと倍にすることが考えられるが、このような処理を行うと位相シフトして出力される信号強度の効率が低下してしまい、測定される干渉信号の強度が低下し、測定精度が低下することになる。
また、周波数分離の分解能を向上させることが考えられるが、周波数分離の分解能を向上させるためには新たなバンドパスフィルタを生成する必要があるため、容易に行うことはできない。

これに対して、本実施形態においては、被測定光を周波数シフトさせる構成を往復させて通過させることにより、容易に、第２被測定光信号の周波数シフトを倍として与えることができる。このため、測定される干渉信号の強度を低下させず、すなわち第２被測定光信号に対して信号強度の減衰を与えずに、測定精度の低下を抑制して信号の分離を行っている。また、第２被測定光信号の周波数シフト量が倍となるため、周波数軸上における光信号の分離の特性を向上させ、現在の光周波数挿引部におけるバンドパスフィルタを使用して実質的に周波数分解能を向上させることができる。
上述したように干渉計の光路を往復して伝搬した後において、第２分岐経路を伝搬する第２被測定光信号の電界の時間波形は、以下の式（８）により表される。第１被測定光信号に対して、第２被測定光信号におけるｃｏｓ成分の位相差が０度、ｓｉｎ成分の位相差が９０度であることに対応し、ｓｉｎ成分には位相差π／２（９０度）が付加されている。ここで、ｓｉｎ成分による干渉成分（干渉フリンジ）のパワースペクトルを得るため、第２被測定光信号に、π／２の位相差を与え、ｓｉｎ成分としている。また、第２被測定光信号における第１光成分であるｃｏｓ成分とｃｏｓ成分に対して位相がπ／２異なる第２の光成分であるｓｉｎ成分とは偏光方向が同一である。

上記式（８）をフーリエ変換して、中心周波数ν_０を原点としたスペクトルに変換すると、以下の式（９）が得られる。

上述したように、周波数シフトΔν_０（往路Δν_０／２、復路Δν_０／２であり、往復でΔν_０）を微少としたことから、式（９）においてはｃｏｓ成分及びｓｉｎ成分の各々に対して、以下に示す式（１０）の近似式を適用した。

第１分岐経路を伝搬する第１被測定光信号と第２分岐経路を伝搬する第２被測定光信号とが干渉計の光路を往復して伝搬した後に、第１被測定光反射信号及び第２被測定反射光信号を５０：５０の比で再び結合部により合波し、合波後の合波被測定光信号を光検出部により検出すると、第１測定光反射信号と第２被測定光反射信号との干渉によるパワースペクトルが得られる。ここで、干渉計の光路を往復して伝搬した後における第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号の合波後の比が５０：５０であるため、背景成分となる非干渉成分は存在しない。

再結合後のｃｏｓ成分及びｓｉｎ成分の干渉成分のパワースペクトルを、それぞれ｜Ｅｃｏｓ（ν）｜^２、｜Ｅｓｉｎ（ν）｜^２として、式（７）及び式（９）の電界スペクトルにおける偏光方向が同一の第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号の各ｃｏｓ成分、またｓｉｎ成分同士を重ね合わせて絶対値の自乗を求めることにより、ｃｏｓ成分の干渉成分、ｓｉｎ成分の干渉成分の各々のパワースペクトルが以下の式（１１）のように求められる。

上記式（１１）において、周波数シフトΔν_０が式（４）及び式（５）における周波数差Δνに等しいとみなして、以下に示す式（１２）のように位相差を表す項が周波数差Δνに対するスペクトル位相の変化分Δφ（ν）に等しいとした。

次に、式（１１）を変形することで、スペクトル位相の変化分Δφ（ν）に対応するｃｏｓ成分及びｓｉｎ成分の項が以下の式（１３）に示すように得られる。ここで、上記再結合を行う際、第１被測定反射光信号と第２被測定反射光信号との偏光方向が同一であり、第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号におけるｃｏｓ成分とｓｉｎ成分との偏光方向も同一である。

第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号におけるｃｏｓ成分とｓｉｎ成分との干渉における干渉フリンジ成分は式（１３）における｜Ｅｃｏｓ（ν）｜、｜Ｅｓｉｎ（ν）｜に含まれている。
また、本実施形態においては、上記式（１３）を得るために第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号との再結合を行う際、すでに述べたように第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号のいずれか一方を、他方に対して位相を０度と９０度とに交互にシフトさせている。この位相のシフトは、光位相シフタである光位相シフト部に対して、位相のシフト量を制御する電圧である位相シフト電圧を、位相を０度と９０度とのシフト量となる電圧として時間的に交互に印加して行う。また、この位相のシフトを干渉計の光路の往復のそれぞれにおいて行った後においても、第１被測定反射光信号と第２披測定反射光信号との偏光方向は同一である。

この結果、式（８）の被測定光信号におけるｃｏｓ成分（上段）とｓｉｎ成分（下段）とを交互に取得する。この光位相シフト部は、本実施形態において、第２分岐経路に設けられ、上述したように、印加される位相シフト電圧により、第１分岐経路を伝搬する第１被測定光信号の位相に対し、往路及び復路において第２分岐経路を伝搬する第２被測定光信号の位相差を０度（ｃｏｓ成分取得）と４５度（ｓｉｎ成分取得）との２値にて交互に変化させている。したがって、第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号の合波において、第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号の位相差が０度と９０度と交互に変化するため、ｃｏｓ成分の干渉成分とｓｉｎ成分の干渉成分とが交互に取得されることになる。そして、交互に取得した一対のｃｏｓ成分とｓｉｎ成分との干渉成分のパワースペクトルを、以下の式（１４）に代入することにより、周波数差Δνに対するスペクトル位相の変化分Δφ（ν）が、一価関数のｔａｎ^−１により−πからπの範囲で一義的に求められる。ここで、ｃｏｓ成分とｓｉｎ成分との一対とは、周波数毎にスペクトル位相の変化分Δφ（ν）を求める単位要素である。

式（１４）において、最右辺の式を得るために、第１分岐経路を伝搬する第１被測定光信号（及び第１被測定反射光信号）と、第２分岐経路を伝搬する第２被測定光信号（及び第２被測定反射光信号）との各々におけるｃｏｓ成分及びｓｉｎ成分のパワーを等しいとし、以下の式（１５）を適用した。

上記スペクトル位相の変化分Δφ（ν）は、０から２πの範囲において周期的に折りたたまれているため、ｕｎｗａｒｐ処理により展開することで、この位相の折りたたみが解除される。
以上のようにして、スペクトルシアリング干渉計を用いて、周波数差Δνに対するスペクトル位相の変化分Δφ（ν）を測定し、式（５）に代入することで分散パラメータＤを算出し、光ファイバ伝送路や光部品などにおける波長分散の特性の評価を行う。

一方、スペクトル干渉計による分散パラメータＤの測定では、測定したスペクトル位相φ（ν）を周波数微分して群遅延時間を求めることにより、分散パラメータＤを算出することができる。ただし、この周波数微分を行うと、スペクトル位相における測定ノイズも同時に微分されてしまい、測定ノイズを微分した鋭いスパイクノイズが群遅延時間に重畳してしまい、分散パラメータを算出する際の精度を低下させることになる。
このように、スペクトル干渉計においては、分散パラメータを精度良く検出できない欠点がある。このため、本願発明においては、スペクトルシアリング干渉計を用いて、周波数差Δνに対するスペクトル位相の変化分Δφ（ν）を測定することにより、高精度に波長分散を評価している。

［干渉成分に重畳した非干渉成分の除去］
上述した「スペクトルシアリング干渉計」において、ｃｏｓ成分の干渉成分及びｓｉｎ成分の干渉成分の各々のパワースペクトルを示す式（１１）の導出において、第１分岐経路を伝搬する第１被測定反射光信号と、第２分岐経路を伝搬する第２被測定反射光信号との合波後のパワーを等しいとしている。すなわち、式（１１）の導出の部分ですでに記載したが、スペクトルシアリング干渉計の分岐比及び合波比は共に５０：５０であり、干渉フリンジの背景成分となる非干渉成分は存在していないことを想定している。

実際に非干渉成分が存在しない状態とするため、異なる波長に対して、常に分岐比及び合波比を５０：５０に保持することが要求され、スペクトルシアリング干渉計を構成する全ての要素の波長依存性を考慮し、構成として極めて特殊なスペクトルシアリング干渉計の設計が必要となる。
このような特殊な構成のスペクトルシアリング干渉計は、構成のための要素が複雑となるとともに要素数も増大することなり、実用上において装置が大型化するため、好ましくない。また、分岐比及び合波比が変動する（揺らぐ）ことの無いように、温度を一定に保つことで、構成する要素の熱膨張によるスペクトルシアリング干渉計の経路長の変動や、熱光学効果による構成する要素の屈折率の変動を抑制するための安定化機構が必要となる。

しかしながら、３つの位相成分を用いて、波長分散の特性の精度を低下させる背景成分となる非干渉成分を、数値演算により除去することができる（除去の方法については後に詳述）。
この非干渉成分の除去に用いる３つの位相成分を得るため、位相シフタで発生する位相シフトを０及びπ／２の２値に限定するのではなく、互いに異なる３値以上の位相シフトを位相シフタに発生させる。
そして、この互いに異なる３値以上の位相シフトに対し、背景成分となる非干渉成分が重畳した干渉フリンジを測定する。そして、測定した干渉フリンジにおける非干渉成分を、数値演算により除去することができ、直交二成分からスペクトル位相の変化分を求めることが可能となる。この方法を用いることにより、分岐比及び合波比を共に５０：５０に保持したり、温度による変動を抑制するための安定化機構を導入する必要がなく、スペクトルシアリング干渉計を小型化して簡便に制作することが可能となる。

上述したように、位相シフトの値が互いに異なる３値以上の位相シフト、例えば３値の位相シフトに対し、非干渉成分が重畳した干渉フリンジを測定し、直交二成分からスペクトル位相の変化分を導出する処理の手順を以下に説明する。また、互いに位相シフトの値が異なる４値以上の位相位相シフトを使用する場合においても、以下に説明する３値の位相シフトを用いた処理の手順と同様な手順により、背景成分となる非干渉成分を除去して、スペクトル位相の変化分を高い精度で求めることができる。
以下の説明において、位相シフトの値が互いに異なる３種を、０、π及びαとして説明する。ここで、位相シフトの値はラジアンで示し、αは０より大きくπより小さい任意の値（０＜α＜π）である。

上述した互いに値が異なる３値の位相シフトの各々の干渉パワースペクトルは、背景成分となる非干渉成分が干渉成分に重畳し、行列式において下記の式（１６）として表される。この式（１６）は、位相シフトが０及びπ／２における干渉成分の干渉パワースペクトルを示す式（１１）に置き換わる表式である。

上記式（１６）の左辺において、上部から下部に向かって順に、位相シフト０、π及びαでの非干渉成分が重畳した干渉フリンジである。ここでは、例えば、位相シフトを０、π、αの順番で交互に切り替える。具体的には、０→π→α→０→π→α…と、０→π→αを一周期として繰り返される。
また、上記式（１６）の右辺において、第１項（Ｉ_ｂａｃｋ（ν））が各々の背景成分となる非干渉成分を表し、第２項（Ｉ_ｉｎｔ（ν）ｃｏｓ[…]）が干渉成分を表している。この非干渉成分は、位相シフトには依存せずに、光パルスの周波数νのみに依存する。

上述した各位相シフトの干渉成分には、ｃｏｓ関数の変数部に各々位相シフト（０、π、α）が含まれている。
また、式（１６）の位相シフトが０とπとにおける非干渉成分が重畳した干渉フリンジにより、ｃｏｓ干渉成分（位相シフト０）と背景成分となる干渉成分とが、以下に示す式（１７）として与えられる。

ｓｉｎ干渉成分（位相シフトπ／２）を求める処理は、以下の手順にしたがって行う。
まず、三角関数の加法定理を用いて、ｓｉｎ干渉成分を以下の式（１８）として表す。

上記式（１６）の３行目の式に、式（１７）の２行目の式を代入することで、以下に示す式（１９）が得られる。

そして、式（１８）に対して、式（１７）の１行目に示したｃｏｓ成分と式（１９）とを代入して、ｓｉｎ干渉成分を表す以下に示す式（２０）が得られる。

次に、式（１７）の１行目の式と、式（２０）とにより、スペクトル位相の変化分Δφ（ν）と、パワースペクトルＩ_ｉｎｔ（ν）との各々が、以下に示す式（２１）、式（２２）により得られる。なお、パワースペクトルは、図１の電界強度Ｒの自乗に等しい。

上述したように、本発明においては、互いに異なる値の３値の位相シフトに対し、非干渉成分が重畳した干渉フリンジを測定することにより、非干渉成分を除去した直交二成分からスペクトル位相の変化分を求めることができる。

［波長分散測定装置の構成及び機能］
＜第１の実施形態＞
次に、図３を参照して、本実施形態による波長分散測定装置の構成及び機能を説明する。図３は、本実施形態による波長分散測定装置の構成例を示すブロック図である。
この図３において、波長分散測定装置は、入射経路としての入射光ファイバ１、光循環部２、接続光ファイバ３、光分岐結合部４、第１光分岐経路としての第１光ファイバ５、第２光分岐経路としての第２光ファイバ６、光遅延部７、光位相シフタとしての光位相シフト部８、終端部１１、終端部１２、出射光導入光ファイバ１３、光周波数掃引部１４、出射光経路としての出射光ファイバ１５、光検出部１６、制御部１７、位相制御線１８、掃引周波数制御線１９及び検出制御線２０を備える。ここで干渉計における光の伝搬する経路の距離は、光分岐結合部４の入出射端から終端部までと、終端部から入出射端までの往復の光路の距離となる。

入射光ファイバ１は、一端が波長分散を評価する評価対象である光ファイバ伝送路または光部品から光パルスを入射し、他端が光分岐部２の入射端（第１入射端）に接続されている。ここで、波長分散を評価する評価対象の光ファイバ伝送路または光部品を伝搬した光パルスを、入射光ファイバ１を介して波長分散測定装置に入射し、入射した光パルスを被測定光信号とし、出入射端（第１入出射端）に一端が接続された接続光ファイバ３を介して光循環部２へ出射する（矢印Ｓ１）。
また、光循環部２から第１光ファイバ５の第１終端部１１まで、また光循環部２から第２光ファイバ６の第２終端部１２までを被測定光信号が往復して伝搬することになる。ここで、光循環部２から光分岐結合部４を介して終端部（終端部１１及び終端部１２）へ、被測定光の伝搬する往路の方向を進行方向とし、終端部から光分岐結合部４を介して光循環部２へ戻る復路を反射方向（後退方向）として説明する。このため、光分岐結合部４から終端部１１へ進行する第１被測定光信号に対し、終端部１１にて反射して光分岐結合部４へ戻る光を第１被測定反射光信号とし、一方、光分岐結合部４から終端部１２へ進行する第２被測定光信号に対し、終端部１２にて反射して光分岐結合部４へ戻る光を第２被測定反射光信号として説明する。

光循環部２は、進行方向において、接続光ファイバ３の他端に接続された第１入射端（第１入射端）から、当該接続光ファイバ３を介して被測定光信号が入射されると、この入射された被測定光信号を、第１入出射端（第１入出射端）に一端が接続されている接続光ファイバ３に対して出射する（矢印Ｓ２）とともに、反射方向において接続光ファイバ３の上記一端から第１入出射端に入射される合波被測定光信号を、第１出射端（第１出射端）に接続されている出射光導入光ファイバ１３に対して出射する（矢印Ｓ１２）。この光循環部２に用いる光部品としては、例えば、光ファイバサーキュレータがある。

また、図４は、光循環部２の構成例を示す図であり、光サーキュレータ以外の光部品を用いた構成例を示している。図４の光循環部２は、光アイソレータ２１及び２×１光カプラ２２を有している。この２×１光カプラ２２は、第１入射端に対応する入射端から入射される被測定光信号を、第１入出射端としての端子から出射し、第１入出者端としての端子から入射される合波被測定光信号を、第１出射端としての端子から、出射光導入光ファイバ１３に対して出射する。また、第１入出射端に対応する端子には、反射光としての合波被測定光信号を、被測定光の光源に対して戻さないように、光アイソレータ２１が配置されている。また、サーキュレータは伝搬させる周波数の帯域が狭いため、測定するための帯域が非常に広がっている場合に、図４の構成であれば、光サーキュレータに対して広い帯域をカバーすることができる。

光分岐結合部４は、第１入出射端（第２入出射端）が接続光ファイバ３の他端に接続され、接続光ファイバ３から入射される被測定光信号を２つに分岐し、分岐した一方の光束を第１被測定光信号とし、分岐した他方の光束を第２被測定光信号とする。また、光分岐結合部４は、第１被測定光信号を第２入出射端（第３入出射端）から第１光ファイバ５に対して出射し（矢印Ｓ３）、一方、第２被測定光信号を第３入出射端（第４入出射端）から第２光ファイバ６に対して出射する（矢印Ｓ４）。ここで、第１被測定光信号は式（６）に示す時間波形であり、式（７）に示す周波数スペクトルを有している。第２被測定光信号は式（８）に示す時間波形であり、式（９）に示す周波数スペクトルを有している。
光分岐結合部４は、第２入出射端に光ファイバ５の他端が接続され、第３入出射端に第２光ファイバ６の他端が接続されている。

また、光分岐結合部４は、第１被測定光信号と第２被測定光信号とが異なる周波数となるように、第１被測定光信号と第２被測定光信号との間に周波数シフト差を発生させる。例えば、本実施形態において、光分岐結合部４は、第２入出射端から第１光ファイバ５へ出射する第１被測定光信号と、他の出射端である第３入出射端から第２光ファイバ６へ出射する第２被測定光信号との間に、キャリア周波数差Δν_０／２を発生させる。このとき、光分岐結合部４は、第１被測定光信号に対しては周波数シフトを行わず、第２被測定光信号に対してキャリア周波数差Δν_０／２を与える。このとき、第１被測定光信号と第２被測定光信号とは同一の偏光方向である。

光分岐結合部４は、例えば、ＡＯＦＳ（acousto-optic frequency shifter：音響光学型周波数シフタ）を用いている。このＡＯＦＳの０次光出力ポートが第１光ファイバ５の一端と接続され、１次光出力ポートが第２光ファイバ６の一端と接続されている。ＡＯＦＳは、周波数Δν_０／２の高周波が供給された場合、０次光出力ポートから周波数シフトされない第１被測定光信号を出力し、一方、１次光出力ポートから周波数Δν_０／２だけ周波数シフトされた第２被測定光信号を出力する。
また、光分岐結合部４は、第１終端部１１により反射されて第２入出射端から入射された第１被測定反射光信号（矢印Ｓ９）と、第２終端部１２から反射された第３入出射端から入射される第２被測定反射光信号（矢印Ｓ１０）とを再結合し、再結合により干渉成分を取得するため、第１被測定反射光信号と第２被測定反射光信号との偏光方向を同一として出射する（矢印Ｓ１２）。
第１被測定反射光信号は第１光ファイバ５を介して光分岐結合部４の第２入出射端に入射され、第２被測定反射光信号は第２光ファイバ６を介して光分岐結合部４の第３入出射端に入射される。

また、第１光ファイバ５の経路中には、光遅延部７が介挿されている。この光遅延部７は、第１光ファイバ５と第２光ファイバ６との光路長差を同じにする目的で、他方に対して光路長が短い方の光ファイバに設けられ、光路長差を解消する調整のための遅延を被測定光信号に与えている。
このように、光遅延部７を設けて光路長差を解消することにより、第１光ファイバ５と第２光ファイバ６との間において生ずる光路長の揺らぎを低減することができるため、式（１４）におけるスペクトル位相の変化分Δφ（ν）の測定精度を向上させることができる。
なお、第１光ファイバ５と第２光ファイバ６との光路長差が測定精度に対して影響を与えない程度であれば、光遅延部７を設ける必要性はない。

第１終端部１１は、第１光ファイバ５の他端（終端）に設けられた全反射ミラーであり、第１光ファイバ５を伝搬してきた第１被測定光信号（矢印Ｓ５）を全反射し、第１被測定反射光信号として、伝搬方向を反転させて第１光ファイバ５に対して反射方向に出射する（矢印Ｓ７）。

また、第２光ファイバ６の経路中には、光位相シフト部８が介挿されている。この光位相シフト部８は、第２光ファイバ６を伝搬する第２被測定光信号と第２被測定反射光信号の位相を、一定の第１周期において０からπ／２（ラジアン単位）の間で連続的に位相シフトさせる。すなわち、光位相シフト部８は、第１光ファイバ５を伝搬する第１被測定光信号と、第２光ファイバ６を伝搬する第２被測定光信号との間に与える位相差を、一定の第１周期において０からπ／２（ラジアン単位）の間で連続的に変化させ、かつ、第１光ファイバ５を伝搬する第１被測定反射光信号に対し、第２光ファイバ６を伝搬する第２被測定反射光信号との間に与える位相差を、一定の第１周期において０からπ／２（ラジアン単位）の間で連続的に変化させている。これにより、光分岐結合部４に対し、反射方向において第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号が入射される際、往路で０度及び４５度の位相差を与え、復路で０からπ／２（ラジアン単位）との間で連続的に変化させている。これにより、光分岐結合部４に対し、第１終端部１１、第２終端部１２の各々から反射された第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号が入射される際、往路で０からπ／２の位相差が与えられ、復路でも０からπ／２の位相差が与えられているため、第１被測定反射信号に対して第２被測定光反射信号が、０からπの間で位相が連続的にシフトされることになる。ここで、光位相シフト部８は、第１被測定光信号に対して第２被測定光信号の位相をシフトさせるが、シフト後も第２被測定光信号の偏光方向を、第１被測定光信号と同一として出射する。

これにより、光分岐結合部４に反射方向において入射される際、第１光ファイバ５を伝搬する第１被測定反射光信号と第２光ファイバ６を伝搬する第２被測定反射光信号との間の位相差が０の場合を０成分検出モード、位相差がπの場合をπ成分検出モード、さらに位相差がαの場合をα成分検出モードとする。式（１６）の行列における１行目、２行目及び３行目の各々の表式が、それぞれ０成分検出モード、π成分検出モード、α成分検出モードで干渉成分に被干渉成分が重畳した干渉フリンジに対応している。

ここで、上述したように、光分岐結合部４から出射される第１被測定光信号と第２被測定光信号との偏光方向は同一であり、かつ第１被測定光信号に対して光位相シフト部８により位相差を０からπ／２の間で位相シフトされた第２被測定光信号との偏光方向も同一であり、また、第１被測定反射光信号に対して光位相シフト部８により位相差を０からπ／２の間で位相シフトされた第２被測定反射光信号との偏光方向も同一である。
したがって、光位相シフト部８により、往復で与えられる位相差の合計を０からπの間で順次変化させることで、位相差が０の場合の０成分検出モード、πの場合のπ成分検出モード、あるいはαの場合のα成分検出モードのいずれかを選択することができる。

本実施形態においては、第２被測定反射光信号の第１被測定反射光信号に対する位相シフトが０の場合、第１被測定反射光信号と第２被測定反射光信号とで０成分の干渉が起こり、第２被測定反射光信号の第１被測定反射光信号に対する位相シフトがπの場合、第１被測定反射光信号と第２被測定反射光信号とでπ成分の干渉が起こり、第２被測定反射光信号の第１被測定反射光信号に対する位相シフトがαの場合、第１被測定反射光信号と第２被測定反射光信号とでα成分の干渉が起こる。
すなわち、光分岐結合部４は、第２被測定反射光信号の位相シフトが０の場合、第１被測定反射光信号と第２被測定反射光信号との０成分における干渉成分を合波被測定光信号として出力し、第２被測定反射光信号の位相シフトがπの場合、第１被測定反射光信号と第２被測定反射光信号とのπ成分における干渉成分を合波被測定光信号として出力し、第２被測定反射光信号の位相シフトがαの場合、第１被測定反射光信号と第２被測定反射光信号とのα成分における干渉成分を合波被測定光信号として出力する。

この光位相シフト部８には、例えば、電気光学結晶（例えばLiNb0３)を用いた位相シフタを用いることができ、印加する位相シフト電圧（後述するＶ_０、Ｖ_π／２、Ｖ_α／２）を変化させることにより、位相のシフト量を０からπ／２の間で連続して変化させることができる。本実施形態においては、位相シフトが連続的に変化させるとしているが、これに限るものではなく、離散的に変化させる（例えば、０→α→πの３値で変化させる）場合にも、本実施形態による波長分散測定装置を構成することができる。

また、光分岐結合部４には、図５に示す構成を用いても良い。図５は、光分岐結合部４の他の構成を示す図である。
この図５において、光分岐結合部４は、２×１光カプラ４１と、ＳＡＷ（surface acoustic wave：表面弾性波）フィルタ４２とを有している。２×１光カプラ４１は、分岐された光が出射される２つの端子の一方に、ＳＡＷフィルタ４２が設けられており、このＳＡＷフィルタ４２により２つの端子間における周波数シフトを発生する。そして、ＳＡＷフィルタ４２は、例えば、第１被測定光信号に対して第２被測定信号に、また第１被測定反射光信号に対して第２被測定反射光信号に、各々ν_０／２の周波数シフトを与える。

なお、本実施形態においては、光遅延部７が第１光ファイバ５に介挿され、また光位相シフト部８が第２光ファイバ６に接続された構成としているが、実際には、第１光ファイバ５及び第２光ファイバ６のうちいずれか光路長の短い光ファイバに光遅延部７を介挿し、他方に光位相シフト部８を接続するようにする。
上述したように、光遅延部７と光位相シフト部８との各々を、それぞれ異なる光ファイバの光路中に挿入することにより、光遅延部７と光位相シフト部８との間を残留反射光が往復することを防止することができる。このため、残留反射光が往復して共振することにより発生するスペクトルリップルを除去することができる。

光周波数掃引部１４は、入射端（第４入射端）が結合用光ファイバ６の他端に接続され、出射端(第４出射端)が出射光ファイバ１５の一端に接続されている。光周波数掃引部１４は、例えば、チューナブルバンドパスフィルタであり、周波数掃引周期（設定された測定周波数の範囲で周波数の掃引を行う周期）の開始を示すトリガ信号により、所定の測定周波数の範囲において周波数を変化させる掃引を行う。光周波数掃引部１４は、通過させるバンドパス周波数幅の中心周波数を上記測定周波数の範囲において時系列に変化させる。また、光周波数掃引部１４は、出射光導入光ファイバ１３から入射される合波被測定光信号から、上記バンドパス周波数幅に対応した周波数の干渉要素を取り出す処理、すなわち合波被測定光信号の周波数分解（スペクトル分解）を行う。光周波数掃引部１４は、周波数分解後の成分被測定光信号（周波数毎のスペクトル強度を示す信号）を出射端から、出射光ファイバ１５に対して出射する。
第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号を合波した合波被測定光信号の周波数数分解に用いる周波数は、上記バンドパス周波数幅における中心周波数とする。上記周波数分解において、周波数分解における周波数毎（異なる周波数における）の０成分、π成分及びα成分の干渉要素（干渉成分及びこの干渉成分に重畳した非干渉成分）を検出することになる。光周波数挿引部１４は、出射端に出力光ファイバ１５の一端が設けられている。

第２終端部１２は、第２光ファイバ６の他端（終端）に設けられた、第１終端部１１と同様に全反射ミラーであり、第２光ファイバ６を伝搬してきた第２被測定光信号（矢印Ｓ６）を全反射し、第２被測定反射光信号として、伝搬方向を反転させて第２光ファイバ６に対して反射方向に出射する（矢印Ｓ８）。
第１終端部１１及び第２終端部１２は、例えば、シリコン基板あるいはガラス基板にＡｌ（アルミニウム）、Ａｇ（銀）、Ａｕ（金）などの金属膜、あるいは誘電体膜（単層あるいは多層）などをコーティングした反射鏡を用いても良い。また、第１光ファイバ５及び第２光ファイバ６の他端の終端面に金属をコーティングして反射面を形成し、この反射面を第１終端部１１、第２終端部１２として用いても良い。

光検出部１６は、入射端（第３入射端）が出射光ファイバ１５の他端と接続されている。光検出部１６は、出射光ファイバ１５から入射される成分被測定光信号を、電気信号に変換して、変換結果を非干渉成分を含む（非干渉成分が重畳された）干渉信号として制御部１７に対し、検出制御線２０を介して出力する。
ここで、成分被測定光信号は、光位相シフト部８が位相のシフト量を０としている場合、対応する周波数の０成分の干渉要素であり、光位相シフト部８が位相のシフト量をπとしている場合、対応する周波数のπ成分の干渉要素であり、光位相シフト部８が位相のシフト量をαとしている場合、対応する周波数のα成分の干渉要素である。

また、本実施形態において、入射光ファイバ１、接続光ファイバ３、第１光ファイバ５、第２光ファイバ６のそれぞれは、偏波保持特性を有する偏波保持光ファイバ（PMF :Polarization Maintaining Fiber）が用いられている。これら入射光ファイバ１、接続光ファイバ３、第１光ファイバ５、第２光ファイバ６のそれぞれの偏光軸はすべて同一方向に揃えられた状態とし、第１被測定光信号、第２被測定光信号、第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号の偏光方向を揃えて同一とし、第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号を合波する光分岐結合部４に入射されるようにしている。
したがって、光分岐結合部４にて合波する第１被測定反射光信号及び第２被測定反射光信号の偏波方向は同一に揃えられている。このため、被測定光信号は、図示しない偏波コントローラを用い、波長分散を評価する対象の光ファイバ伝送路を伝搬直後の被測定光信号の偏波を直線偏波とし、その偏光軸を入射光ファイバ１の偏光軸（例えば、スロー軸）に揃えた後に、入射光ファイバ１に入射される。
また、出射光導入光ファイバ１３及び出射光ファイバ１５に対しても、偏波保持光ファイバを用いても良い。

制御部１７は、光周波数掃引部１４から、周波数制御線１９を介して入力される周波数掃引周期の開始点を示すトリガ信号に同期し、光位相シフト部８に対して第１周期毎に印加する位相シフト電圧を連続的に変化させることで、位相シフトを行わせるため、位相制御線１８を介して光位相シフト部８へこの位相シフト電圧を供給する。
すなわち、測定周波数がｎ点である場合、周波数掃引周期をｎで除算して得た第１周期毎に繰り返して連続的に位相シフト電圧を変化させる処理を上記トリガ信号に同期して行う。
また、制御部１７は、検出制御線２０を介して光検出部１６から、この第１周期に同期して、０成分、π成分及びα成分の干渉信号を、位相シフト電圧の変化に対応させて順次受信する。
例えば、本実施形態においては、０成分→α成分→π成分の順番に、測定周波数を測定周波数の数ｎで乗算した１つの周波数を測定する第１の周期内で、それぞれ第１周期に同期して、周期的に受信するものとする。この第１の周期内において位相シフト電圧を０成分→α成分→π成分を連続的に順次変化させ、この変化させる処理を周波数掃引周期内において第１周期毎に繰り返すことになる。
そして、制御部１７は、この時系列に取得した０成分、π成分及びα成分の干渉要素を一組として、各周波数における分散パラメータを演算するための非干渉成分を含む干渉スペクトルのデータとして用いる。

次に、制御部１７は、式（１６）の非干渉成分が重畳した０成分の干渉信号、π成分の干渉信号及びα成分の干渉信号の３値のの位相シフトによる干渉成分に入力すべき０成分、π成分、α成分の電気信号を得る。
さらに、制御部１７は、式（１６）及び三角関数の加法定理を用いて得られた式（１７）、式（１９）及び式（２０）により、周波数毎の一対のｃｏｓ成分及びｓｉｎ成分のパワースペクトルを得て、式（２１）により、周波数毎の位相の変化分Δφ（ν）を得ることができる。そして、制御部１７は、この位相の変化分Δφ（ν）を式（５）に代入することにより、周波数毎の分散パラメータを算出する。
上述したように、本実施形態においては、測定周波数の範囲における周波数の掃引の開始を、光周波数掃引部１４から供給されるトリガ信号によって通知するものとする。

また、制御部１２が第１周期のｎ倍を周波数掃引周期とし、この周波数掃引周期の開始を示すトリガ信号を生成し、光周波数掃引部１４へトリガ信号を出力し、測定周波数の範囲において、周波数の掃引を制御する構成としても良い。
また、周波数掃引周期を連続させず、周期間に予め設定した一定時間を設けて、周波数掃引周期の開始点及び終了点各々のトリガ信号を用いることにより、開始点と終了点とを同時刻に設定する必要がなく、開始点と終了点との間に周波数を掃引の初期値に戻す時間を設けることができる。このため、終了点と開始点とがタイミング的に同一の場合（終了された後、時間を設けることなく開始される場合）のように、開始点から初期値への変化を行うために、周波数の変化する時間により、周波数掃引周期における最初の第１周期が短くなることが無くなり、測定時間の制御をさらに高精度化することができる。

次に、本実施形態における図３に示す波長分散測定装置の被測定光信号を測定する動作を、図６を用いて説明する。図６は、光周波数掃引部１４の周波数掃引動作と、これに対応した光位相シフト部８の位相シフトの動作と、制御部１７における光検出部１６からの干渉信号のサンプリングとにおける動作のタイミングを示す波形図である。
すなわち、図６（ａ）は、縦軸が電圧であり、横軸が時間であり、光周波数掃引部１４の出力するトリガ信号の出力タイミングを示す図である。この図６（ａ）において、光周波数掃引部１４から出力されるトリガ信号のＨレベル（Ｖ_Ｈ）およびＬレベル（Ｖ_Ｌ）は、各々ＴＴＬ制御（ＴＴＬ（Transistor Transistor Logic）インターフェースを用いた制御）に適合するように設定される。

図６（ｂ）は、縦軸が周波数であり、横軸が時間であり、光周波数掃引部１４の掃引において出力するパスバンドの中心周波数の時間変化を示している。この図６（ｂ）において、ν_１は掃引開始の周波数（測定周波数の範囲における最低周波数）であり、ν_２は掃引停止の周波数（測定周波数の範囲における最大周波数）である。このため、周波数ν_１から周波数ν_２が測定周波数の範囲、すなわち周波数を掃引する範囲となる。
図６（ｃ）は、縦軸が電圧であり、横軸が時間であり、位相差を第１周期Δｔで変化させる、光位相シフト部８に印加する位相シフト電圧の波形を示す図である。位相シフト電圧Ｖ_０は位相シフトを０（０成分検出モード）とする際の電圧であり、位相シフト電圧Ｖ_π／２は位相シフトをπ（π成分検出モード）とする際の電圧である。また、位相シフトのシフト量をα（α成分検出モード）とする際の電圧をＶ_α／２とすると、本実施形態においては、Ｖ_α／２はＶ_０より大きくＶ_π／２よりも小さい、すなわちＶ_０＜Ｖ_α／２＜Ｖ_π／２である。制御部１２は、第１周期Δｔに対して周期的に正弦波的形状に位相シフト電圧を変化させ、光シフト位相部８へ印加する。光位相シフト部８を往復で合計２回通過するので、一回の通過により発生する位相シフトは、各々の位相成分での位相シフトの半分で良いため、必要とする電圧は透過型のスペクトルシアリング干渉計に比較して半分に低減できる。
図６（ｄ）は、縦軸が電圧であり、横軸が時間であり、制御部１７が光検出部１６からの非干渉信号が重畳された干渉信号を時系列データとして受信するサンプリング周期のタイミングを示す図である。
図６（ｃ）及び図６（ｄ）については、第１周期を明確に記載するため、図６（ａ）及び図６（ｂ）の横幅の時間スケールを拡大し、一部の時間範囲のみを示している。

光周波数掃引部１４は、トリガ信号を発生し、時間「Ｔ_ｌ＋１−Ｔ_ｌ」の周波数掃引周期において、トリガ信号を制御部１７に対して出力するとともに、合波被測定光信号の周波数分解を行うために、周波数ν_１から周波数ν_２までの周波数を線形に増加させる掃引の処理を開始する。ここで、ユーザが実際の測定の前に掃引変化を測定し、時間に対する掃引された周波数の線形性が達成されないことを検出した場合、掃引の周波数の校正を行い、周波数掃引の非線形性を補正する。また、本実施形態において、低周波側から高周波側への周波数の掃引を行っているが、高周波側から低周波側に周波数の掃引を行うよう構成しても良い。また、タイミング制御は、ＴＴＬ制御に限るものではなく、例えばＣＭＯＳ（Metal Oxide Semiconductor ）インターフェースを用いても良い。

制御部１７は、トリガ信号が供給されると、このトリガ信号に同期して、第１周期Δｔ毎に光位相シフト部８へ電圧Ｖ_０から電圧Ｖ_π／２までの位相シフト電圧を連続的に順次出力する処理を開始する。本実施形態においては、位相シフト電圧Ｖ_０から供給を開始しているが、位相シフト電圧Ｖ_π／２から供給を開始するように構成しても良い。
この結果、光位相シフト部８は、供給される位相シフト電圧Ｖ_０から位相シフト電圧Ｖ_π／２までの変化により、第１光ファイバ５を進行方向に伝搬する第１被測定光信号の位相に対し、第２光ファイバ６を進行方向に伝搬する第２被測定光信号の位相を、０からπ／２の範囲で連続的に変化させ、また第１光ファイバ５を反射方向に伝搬する第１被測定反射光信号の位相に対し、第２光ファイバ６を反射方向に伝搬する第２被測定反射光信号の位相を０からπ／２の範囲において連続的に順次変化させる。
光検出部１７は、第１周期Δｔ毎に連続して変化する位相シフトにともない、各周波数における干渉要素を有する（位相シフトのシフト量が０、π及びαの各々に対応する干渉要素を有する）成分被測定光信号を連続的に干渉信号として、制御部１２に対して供給する。

そして、制御部１７は、第１周期Δｔに同期して、当該第１周期Δｔ内において一定のサンプリング間隔で、上記成分被測定光信号をサンプリングすることにより、各測定周波数における０成分の干渉要素を有する成分被測定光信号、α成分の干渉要素を有する成分被測定光信号、及びπ成分の干渉要素を有する成分被測定光信号の各々を、この順序に従って得ることができる。ここで、制御部１７は、上述した一定のサンプリング間隔において、位相シフト電圧を順次変化させ、位相シフト電圧Ｖ_０、Ｖ_α／２及びＶ_π／２の各々を出力したタイミングに同期して、成分被測定光信号をサンプリングし、それぞれを０成分の干渉要素、α成分の干渉要素、π成分の干渉要素として得る。
すなわち、制御部１７は、第２被測定信号の位相シフトの位相量を第１周期において０→π→０と連続して変化させるに伴い、測定周期である第１周期毎に１組の０成分、α成分及びπ成分の干渉要素をこの順序で得ることができる。これにより、測定周波数の範囲内にて、ｎ個の第１周期Δｔから、ｎ組の０成分、α成分及びπ成分の干渉要素が得られる。

位相シフトのシフト量が０、α及びπの干渉成分の決定精度を向上させるため、位相シフト電圧が第１周期において０→π→０として変化する間に、制御部１７は、成分被測定光信号の２０点のサンプリングを行う。すなわち、本実施形態において、制御部１７は、第１周期Δｔにおいて、２０種の成分被測定光信号に対応する、シフト量が異なる２０成分の干渉フリンジデータを取得する。
そして、制御部１７は、スペクトル位相の変化分Δφ（ν）とパワースペクトルＩ_ｉｎｔ（ν）を求める際、２０成分の干渉フリンジデータから０成分、π成分及びα成分に対応する３種を、位相シフト電圧Ｖ_０、Ｖ_α／２及びＶ_π／２の各々を出力したタイミングに基づいて、サンプリングした複数の干渉フリンジデータから抽出し、式（２１）及び式（２２）に代入する。ここで、測定周波数がｎ点の場合、周波数掃引周期において周波数を１回掃引することにより、総サンプリング数は２０×ｎ（光成分）となる。

制御部１７は、一定の時間間隔のサンプリング周期により、０成分、α成分及びπ成分の干渉要素を順次サンプリングして測定する。このため、サンプリングに用いるクロック信号（電気信号）及び成分被測定光信号を受信する受信ポートを一系統設けて、制御部１７を構成すれば良く、波長分散測定装置を簡便に構成することができる。

図６（ｄ）は、ｎ個の測定周波数の第１周期毎に２０回のサンプリングを行った場合における１番目の測定周波数の測定点、すなわちサンプリングタイミングｔ_１，１からｔ_１，２０、及びｎ番目の測定周波数の測定点、すなわちサンプリングタイミングｔ_ｎ，１からｔ_ｎ，２０が示している。
ここで、各第１周期内にサンプリング行う測定点が２０点ある場合、サンプリングタイミングの変化に伴う測定点毎の掃引周波数の変化を無視することができなくなる。このため、各第１周期内における測定点毎の掃引周波数の変化を補正して、得られる干渉フリンジデータ各々の周波数精度を維持する必要がある。
本実施形態においては、測定点毎の掃引周波数の変化を補正するため、制御部１７は以下の処理を行う構成としている。

制御部１７は、線形補完を用いて各サンプリング点において、各成分、すなわち０成分、α成分及びπ成分の干渉フリンジデータを生成し、周波数掃引周期内の２０×ｎ個のサンプリングタイミング各々に対して、２０成分の干渉フリンジデータを求める。したがって、制御部１２は、上述した線形補間を行うプログラムを記憶するメモリ、あるいは線形補間を実行するための回路を有している。
図３には記載されていないが、本実施形態の波長分散測定装置は、線形補間を行うために用いる、２０×ｎ個の測定された干渉フリンジデータを記憶する記憶部を備えている。制御部１７は、この記憶部に対して、測定した２０×ｎ個の干渉フリンジデータを、識別情報（例えば、上述したｉ番目の第１周波数におけるｊ番目の測定点かを示すサンプリングタイミングｔ_ｉ，ｊ）とともに順次書き込んで記憶させ、周波数掃引周期が終了した時点で、各干渉フリンジデータを読み出して線形補間を行う。ここで、ｉは１以上でありｎ以下（１≦ｉ≦ｎ）の整数、ｊは１以上であり２０以下（１≦ｊ≦２０）の整数である。

図６（ｄ）においては、位相シフトのシフト量が０の場合の０成分、αの場合のα成分及びπの場合のπ成分の各々は、サンプリングタイミングｔ_ｉ，１、ｔ_ｉ，６、ｔ_ｉ，１１のそれぞれにおいて測定された干渉フリンジデータが対応している。ここで、制御部１２は、スペクトル位相の変化分Δφ（ν）の算出に用いるα成分の位相量の位相校正を行う。
ここで、各位相成分の０成分、α成分及びπ成分各々には、サンプリングタイミングｔ_ｉ，１、ｔ_ｉ，６、ｔ_ｉ，１１の干渉フリンジデータが対応する。ここで、ｉは１以上であり、かつｎ以下（１≦ｉ≦ｎ）の整数である。本実施形態においては、位相量の位相校正を行い、サンプリングタイミングｔ_ｉ，６に対応するαは、ラジアンを単位として０．４１８４３６πである。ここで、上述した位相校正は、以下の方法により行う。

連続する同一間隔のサンプリングタイミングに対して、位相が線形に変化するため、サンプリングタイミングｔ１，１の干渉フリンジデータの値を位相が０成分の値とし、サンプリングデータｔ１，１１の干渉フリンジデータの値を位相がπ成分の値とすることにより、これらの位相に対応する三角関数がサンプリングタイミングの関数として一義的に決定される。このサンプリング関数の逆関数により、サンプリングタイミングｔ_ｉ，５における干渉フリンジデータの値に対する位相値が求まる。すなわち、このサンプリングタイミングの関数の逆関数から求められた位相値がα成分の位相値の位相校正された値となる。前述のｊが大きくなるほど、サンプリングタイミングによる位相値の分解能が向上するため、上記α成分のフリンジデータの最大値および最小値が真の最大値および最小値に近づくことになり、α成分の位相を決定する精度が高くなる。

また、サンプリング点数が少ない場合（本実施形態においては２０個より減少させた場合）、上述した干渉フリンジデータの補間の精度が低下することで、位相シフトのシフト量である０、α及びπの決定精度が劣化してしまい、スペクトル位相の変化分Δφ（ν）もしくはパワースペクトルＩ_ｉｎｔ（ν）の算定結果（横軸を周波数として、縦軸に変化分Δφ（ν）、パワースペクトルＩ_ｉｎｔ（ν）の各々をプロットしたグラフ）にリップルが生じることになる。
しかしながら、掃引周波数におけるある周波数において、スペクトル位相の変化分Δφ（ν）もしくはパワースペクトルＩ_ｉｎｔ（ν）でのリップルの相対強度が１ｐｐｍ未満であれば、他の周波数においても、リップルの相対強度が１ｐｐｍ未満となることが期待され、測定精度の高い波長分散の評価が可能となる。

本実施形態においては、第１周期内における干渉成分、すなわちサンプリング点数を２０、位相量αの計算桁数を小数点以下６桁としているが、このサンプリング点数及び小数点以下の桁数に限定されることなく、必要とするリップルの相対強度をどの程度まで許容できるかにより、リップルの相対強度をどの程度まで低減するかを決定して設定し、サンプリング点数及び小数点以下の桁数を設定すれば良い。なお、位相量πの計算桁数の小数点以下の桁数も位相量αと同様に、リップルの相対強度の低減に応じて決定して設定することが必要なのは言うまでもない。

また、本実施形態においては、上述した位相量αの干渉フリンジデータとして、サンプリングタイムｔ_ｉ，６ので測定された成分被測定光信号を用いたが、このサンプリングタイムに限定するものでなく、位相量０及びπ以外の位相シフトであれば、測定された２０個の内のいずれを用いても良い。ここで、通常、位相シフトの位相量が接近した値でなければ、位相量の誤差が縮小されるため、リップルの相対強度に与える影響は小さい。
このため、サンプリングタイムｔ_ｉ，ｊの各々において、リップルの相対強度を観察し、リップルの相対強度が必要とする許容範囲にあるサンプリングタイムを、位相量αのサンプリングに用いるかを決定すれば良い。

また、位相シフトの位相量の異なる干渉成分を複数計測し、位相差決定の精度を向上することに対する、位相シフト干渉計による画像処理への応用に関しては、「Applied Optics Vol.39,No.4,pp.585-591,February 1,2000,"Phase-shifting interfermetry with uncalibrated hase shifts,"Xin Chen,Maureen Gramaglia, and John A.Yeazell（参考文献２）」に示されている。
例えば、第１周期の数ｎが１０００であり、周波数掃引周期Ｔｌ＋１−Ｔｌが１ｓ（秒）とした場合、位相シフト電圧の切替え周期である第１周期Δｔは、１秒をｎ、すなわち１０００で除算すると１ｍｓとなる。また、サンプリングタイミングの間隔は、第１周期の時間１ｍｓを、第１周期における測定点（サンプリング点）の数２０で除算すると、５０μｓとなる。すでに述べたように、線形補間により、位相シフトの各位相量の成分の干渉フリンジデータの総数は、ｎに２０を乗算して２００００となる。
このため、周波数成分毎の測定間隔を１／２０とする補間処理を行うこととなり、各位相成分毎の干渉信号のデータ点数を２０倍とし、２０倍とされた光成分の干渉フリンジデータから任意のデータを選択し、波長分散の評価に用いることができる。周波数の掃引が線形的に行われるため、時間経過により測定周波数に対応する位相量を線形関係により決定することができる。その結果、各位相成分に対応する干渉フリンジデータを、容易に補間することができる。

また、被測定光信号は１００ＧＨｚ間隔のＩＴＵ（International TelecommunicationUnion）グリッドに従うものとして、周波数掃引範囲ν_２−ν_１を１００ＧＨｚとする。例えば、被測定光信号がＩＴＵグリッドのＣバンド３１番チャンネルに割り当てられている場合、周波数ν_１および周波数ν_２は各々１９３．０５ＴＨｚおよび１９３．１５ＴＨｚとなる。この場合、サンプリング間隔は、周波数間隔に換算すると、５０ＭＨｚとなる。
スペクトル位相の変化分Δφ（ν）の測定精度を向上させるため、各サンプリング点での位相を精度良く求める必要がある。このため、光周波数掃引部９でのバンドパス周波数幅は、上記サンプリング間隔の半分以下の狭さとすることが好ましい。
バンドパス周波数幅が狭いほど、周波数分解の分解能を高くすることができ、周波数に対するスペクトル位相の変化分Δφ（ν）を、高い精度により測定することができる。
ただし、バンドパス周波数幅を狭くすることにより、光検出部１１に入射する光量が減少し、測定ノイズの影響が強くなることに注意する必要がある。

しかしながら、本実施形態による反射型スペクトルシアリング干渉計においては、被測定光信号を一方向のみに進行させて伝搬させる透過スペクトルシアリング干渉計に比較し、周波数シフト量を容易に倍とすることができる。この結果、周波数シフトさせていない第１被測定反射光信号と、周波数シフトさせた第２被測定反射光信号との分離を、図２（ｂ）に示したように十分に行うことが可能となるため、バンドパスフィルタの周波数分解能を、実効的に増加させることとなる。したがって、本実施形態によれば、光量を減少させることなく、透過型スペクトルシアリング干渉計に比較して周波数分解能を向上させることができる。
本実施形態においては、バンドパス周波数幅をサンプリング周波数（サンプリング間隔）の１／２、すなわち２５ＭＨｚとする。このとき、光周波数掃引部９に用いるバンドパス光フィルタのフィネスは、ピーク間隔を透過ピークの半値全幅で除算した値、すなわち４０００となる。ここで、光分岐結合部４に対して供給する高周波の周波数（Δν_０／２）を２００ＭＨｚとする。このため、第１被測定反射光信号の周波数に対する第２被測定反射光信号の周波数の周波数シフト（Δν_０）は、干渉計の光路の往復にて４００ＭＨｚとなる。

ヘテロダインスペクトル干渉計を用いで位相ゆらぎを測定すると、干渉計の経路に使用する光ファイバ長が１ｍ程度であると、位相が１８０度程度ゆらぐのに要する時定数は５ｓ程度である。したがって、周波数掃引周期が１secに設定されている場合、干渉計の波長分散の評価に対する位相ゆらぎの影響は少ないと予想される。
また、測定精度を向上させるために位相ゆらぎをさらに低減する必要がある場合、周波数掃引周期をさらに短くすればよい。例えば、周波数掃引周期を約０．１secにまで短縮することにより、周波数分散における位相ゆらぎの影響を無視することができる。
また、本実施形態において、光周波数掃引部９が線形に周波数を掃引するとして説明したが、一組の０成分、α成分及びπ成分のサンプリングを行う期間において、掃引が停止されて、一組の０成分、α成分及びπ成分のサンプリングを行う期間において、測定周波数が同一の周波数となるよう、ステップ状に周波数の掃引を行うようにしても良い。

このステップ状に周波数の掃引を行う構成であれば、一組の０成分、α成分及びπ成分の各々の間において、周波数変化が無く、すでに説明した線形補間を行う必要がなくなるため、線形補間を行う構成を空間的に配置する必要がなく、波長分散測定装置の構造をより簡易化することができ、装置を小型化することができる。
さらに、本実施形態においては、従来例のように空間光学系を用いることなく干渉計を校正しているため、光ファイバと空間光学系とのとの間での光の入出力における光損失が発生することがなく、光の強度の低下を抑制し、干渉成分の測定感度を維持し、波長分散を測定することができる。

また、本実施形態においては、位相シフトにおける位相量変化の範囲を、０からπとして説明したが、位相量を０からπ以上２π以下の範囲で変化させるように構成しても良い。特に、位相シフトにおける位相量を０から２πの範囲で変化させることにより、位相シフタ８における位相シフトの位相量の周波数依存性を掃引周波数の全領域で行うことが可能となり、掃引する周波数の全領域で位相の決定精度を向上させることができる。
ただし、この場合、第１周期におけるサンプリング点数を増加、例えばサンプリング点数を２０から４０に増加させることにより、位相シフトの位相量の決定精度を上げる必要がある。

また、本実施形態によれば、すでに述べたように、反射型スペクトルシアリング干渉計を用いているため、干渉計における第１光ファイバ５及び第２光ファイバ６の各々の分岐経路を、被測定光信号が進行方向（第１被測定光信号、第２被測定光信号）及び反射方向（第１被測定反射光信号、第２被測定反射光信号）に往復して伝搬するため、周波数シフト量を容易に従来の倍とすることができ、周波数シフトさせていない被測定反射光信号と、周波数シフトさせた被測定反射光信号との周波数軸上における重なりを抑止し、周波数分解の際に周波数軸上における波形の分離特性を向上させるため、周波数分解能を向上させることができる。
また、本実施形態によれば、一定の周波数分解能を得るため、光分岐結合部４に対して供給する高周波を半分とすることができ、倍の周波数を供給する場合に比較して省電力化することができる。
さらに、本実施形態によれば、光位相シフト部８においても位相シフトの量を、往復でα_ｉとなるように、片方向ではα_ｉ／２と半分とすることができるため、印加する電圧を低下させることができ、装置の簡易化とともに低電圧化を行うことができる。

また、本実施形態において、第１終端部１１または第２終端部１２のいずれかまたは双方の終端部の反射率を可変として構成しても良い。
そして、制御部１７は、光分岐結合部４に対して入射される第１被測定反射光信号と第２被測定反射光信号との光強度の差分を、第１光成分の干渉信号及び第２光成分の干渉信号とにより検出する。このとき、制御部１７は、この検出した光強度の差分が予め設定した閾値を超える場合、反射率が可変な終端部の反射率を、差分が閾値以下となるように制御する。反射率が可変な終端部は、例えば、反射板として、厚さが位置を変更するごとに徐々に異なるように、厚さが位置により異なるように、厚さの変化に傾きを有するように金属または誘電体膜を基板にコーティングし、どの位置の膜を使用するかにより、反射率の制御を行う。

光強度の測定において、制御部１７は、干渉信号を検出する際、フォトディテクタを使用すると、出力される電圧値において、干渉成分は交流電圧成分として検出し、一方、光強度が異なる成分は直流成分として検出することになる。したがって、制御部１７は、直流成分が検出されなくなるように、反射板において反射に使用される位置を変更する（反射板のコーティングした膜の厚さを変更する）制御を行う。このとき、光検出部１６には交流から直流までの光信号を検出可能なディテクタを用い、また、反射率を変更可能な終端部に反射板を制御部１７からの制御信号により可動できる機構を設ける必要がある。
上述した反射率の変更処理は、温度変化により光強度の平衡性が崩れた場合に、リアルタイムに制御する場合の構成である。
また、作成した後に光強度の平衡性を調整するため、作業者が制御部１７により干渉信号の測定を行いつつ、対応する反射率となるように、反射板の膜厚を調整するようにしても良い。

また、光強度の平衡性の制御として、上述したように、終端部の反射率を変更するのではなく、第１光ファイバ５または第２光ファイバ６のいずれか、または双方に光強度調整部を介挿し、この光強度調整部により、第１光ファイバ５を伝搬する第１被測定光信号及び第１被測定反射光信号と、第２光ファイバ６を伝搬する第２被測定光信号及び第２被測定反射光信号との光強度が同様となるように、制御部１７が調整するように構成しても良い。
光強度の測定については、上述した終端部の反射率を変更する場合と同様であり、光強度調整部としては、アッテネータなどを用いる。
そして、制御部１７は、光分岐結合部４に対して入射される第１被測定反射光信号と第２被測定反射光信号との光強度の差分を、第１光成分の干渉信号及び第２光成分の干渉信号とにより検出する。このとき、制御部１７は、この検出した差分が予め設定した閾値を超える場合、アッテネータにおける光の減衰率を差分が閾値以下となるように制御する。

＜第２の実施形態＞
次に、第２の実施形態による波長分散測定装置の説明を行う。第２の実施形態は、第１の実施形態と同様の構成であるが、図３の構成において、制御部１７に並列に設けた３つの受信ポート（後述する受信ポートＰ１、Ｐ２及びＰ３）により、１組の０成分、α成分及びπ成分を、並列に受信する構成を有している。
図７は、光周波数掃引部９の周波数掃引動作と、これに対応した光位相シフト部８の位相シフトの動作と、制御部１２における光検出部１１からの干渉信号のサンプリングとにおける動作のタイミングを示す波形図である。

図７（ａ）は、縦軸が電圧であり、横軸が時間であり、光周波数掃引部１４の出力するトリガ信号の出力タイミングを示す図である。この図７（ａ）において、光周波数掃引部１４から出力されるトリガ信号のＨレベルおよびＬレベルは、各々ＴＴＬ制御に適合するように設定される。
図７（ｂ）は、縦軸が周波数であり、横軸が時間であり、光周波数掃引部１４の掃引において出力する共振周波数の時間変化を示している。この図７（ｂ）において、ν_１は掃引開始の周波数（測定周波数の範囲における最低周波数）であり、ν_２は掃引停止の周波数（測定周波数の範囲における最大周波数）である。
図７（ｃ）は、縦軸が電圧であり、横軸が時間であり、光位相シフト部８に印加する位相差を第１周期Δｔで変化させる位相シフト電圧の波形を示す図である。位相シフト電圧Ｖ_０は位相シフトを０度（０成分検出モード）とする際の電圧であり、位相シフト電圧Ｖ_π／２は位相シフトをπ（π成分検出モード）とする際の電圧である。また、０成分及びπ成分の検出を行う位相シフト電圧は、第１周期Δｔ内において正弦波的に変化する。ここで、αは、ラジアン単位で示す位相量であり、０＜α＜πして範囲が設定された実数である。したがって、αは０＜α＜πの範囲において変化する。
図７（ｄ）は、縦軸が電圧であり、横軸が時間であり、制御部１７が光検出部１６から出力される電気信号である干渉信号を、受信ポートＰ１、受信ポートＰ２及び受信ポートＰ３から並列に時系列データとして受信するサンプリング周期のタイミングを示す図である。本実施形態においては、受信ポートＰ１が０成分の成分被測定光信号を受信し、受信ポートＰ２がπ成分の成分被測定光信号を受信し、受信ポートＰ３がα成分の成分被測定光信号を受信する。
図７（ｃ）及び図７（ｄ）については、第１周期Δｔを明確に記載するため、図７（ａ）及び図７（ｂ）の横幅の時間スケールを拡大し、一部の時間範囲のみを示している。

制御部１７は、光検出部１６から、位相シフト電圧Ｖ_０が出力されているとき、受信ポートＰ１により０成分の成分被測定光信号を受信し、位相シフト電圧Ｖπ／２が出力されているとき、受信ポートＰ２によりπ成分の成分被測定光信号を受信し、位相シフト電圧Ｖ_α／２が出力されているとき、受信ポートＰ３によりα成分の成分被測定光信号を受信する。
第２の実施形態も、第１の実施形態と同様に、ｎを１０００とし、周波数掃引周期は１ｓとし、受信ポートＰ１から受信ポートＰ３各々のサンプリング周期は１ｍsecである。

制御部１７では、Ａ／Ｄ（アナログ／デジタル）変換を行い、光検出部１６から電気信号である干渉信号の電圧レベルをデジタルデータとして取得する。制御部１７は、電気信号である干渉信号をＡ／Ｄ（アナログ／デジタル）変換処理するＡ／Ｄ変換回路を有している。
したがって、制御部１７における干渉信号のＡ／Ｄ変換を行うＡ／Ｄ変換回路の動作速度が、サンプリング周期を短縮したい場合の制限要因となる可能性がある。しかし、本実施形態では、受信ポートＰ１、受信ポートＰ２及び受信ポートＰ３の三系統受信を採用することにより、各受信ポートのサンプリング速度が１ポートのみで受信する場合の１／３となるため、Ａ／Ｄ変換回路の動作速度の制限を３倍に上昇させることができる。この場合、制御部１７は、受信ポートＰ１から入力される干渉信号をＡ／Ｄ変換処理するＡ／Ｄ変換回路と、受信ポートＰ２から入力される干渉信号をＡ／Ｄ変換処理するＡ／Ｄ変換回路と、受信ポートＰ３から入力される干渉信号をＡ／Ｄ変換処理するＡ／Ｄ変換回路との３個のＡ／Ｄ変換回路を有している。受信ポートＰ１、受信ポートＰ２及び受信ポートＰ３の各々は、干渉信号の１系統、すなわちそれぞれ１個の受信ポートから構成されている。
また、１つの受信ポートにおいて、０成分、π成分及びα成分の各々の測定タイミングを交互に振り分ける必要が無くなるため、データ処理プログラムが簡単になり、データ処理速度を向上させることができる。

＜第３の実施形態＞
次に、第３の実施形態による波長分散測定装置の説明を行う。図８は第３の実施形態の構成例を示すブロック図である。第１の実施形態と同様の構成については同一の符号を付し、第１の実施形態と異なる構成について以下に説明する。
第１光ファイバ５と第２光ファイバ６との光路長差を解消する光遅延部７及び被測定光信号の位相をシフトする光位相シフト部８を用いる場合、第１の実施形態の場合には光遅延部７及び光位相シフト部８の各々を異なる光ファイバに接続している。

図３に示す第１の実施形態の構成との対比から判るように、光遅延部７及び光位相シフト部８の各々を異なる光ファイバに設ける必要は無いため、第３の実施形態においては、光遅延部７及び光位相シフト部８とを合体させて一体化し、光遅延部７の光の伝搬を遅延させる機能と、光位相シフト部８の光の位相差をシフトさせる機能とを有する光遅延・光位相シフト部４７を、第１光ファイバ５または第２光ファイバ６のいずれか一方に設ける構成としている。第１光ファイバ５または第２光ファイバ６のいずれか一方が他方より光路長が短い場合、一方に光遅延・光位相シフト部４７設けて、他方に対する光路長差を補正する。これにより、光遅延部７及び光位相シフト部８とを一体化した光遅延・光位相シフト部４７を用いて、第１の実施形態に比較して装置をより小型化することができる。
また、光遅延部７及び光位相シフト部８とを合体させて一体化することにより、光遅延部７と光位相シフト部８とを分離して同一の光ファイバに設ける場合に比較して、光ファイバに発生する残留反射光を低減することができる。このため、第１の実施形態において示した残留反射光の共振によるスペクトルリップルを、より低いレベルに抑制することができる。

＜第４の実施形態＞
次に、第４の実施形態による波長分散測定装置の説明を行う。図９は、第１の実施形態から第４の実施形態のいずれかによる波長分散測定装置を用いて、光ファイバ伝送路を伝搬する光パルスの分散パラメータを測定する測定方法を説明する図である。この図において、波長分散測定装置６６が、第１の実施形態から第３の実施形態のいずれかによる波長分散測定装置である。
モニタ用光分岐部６２は、光ファイバ伝送路６１の経路中において、波長分散を評価する位置に配置され、光ファイバ伝送路６１に伝搬する光パルスを被測定光信号として抽出し、モニタ用光ファイバ６３を介して偏波コントローラ６４へ出射する。

このとき、モニタ用光分岐部６２は、光ファイバ伝送路６１における伝搬に影響を与えてしまう程に減衰させないように、光ファイバ伝送路６１において伝搬する光パルスのパワーの一部を抽出する。本実施形態において、モニタ用光分岐部６２は、光ファイバ伝送路６１に伝搬される光パルスのパワーの一部、例えば１０％を被測定光信号として、モニタ用光ファイバ６３に分岐させる。すなわち、モニタ用光分岐部６２の分岐によって、光ファイバ伝送路６１を伝搬する光パルスと、モニタ用光ファイバ６３を伝搬する被測定光信号とのパワー分岐比は９：１となる。モニタ用光ファイバ６３には、例えば、標準分散の単一モード光ファイバを用いる。

偏波コントローラ６４は、被測定光信号の偏波状態を直線偏波とし、その偏光軸を入射用光ファイバ６５（図３または図８の入射光ファイバ１）の偏光軸（例えば、スロー軸）に揃えた後に、入射用光ファイバ６５に被測定光信号を出射する。
入射用光ファイバ６５は、偏波保持光ファイバが用いられており、偏光軸が波長分散測定装置６６内部の偏波保持光ファイバ（第１光ファイバ５、第２光ファイバ６）との偏光軸に揃える。

以上により、本実施形態においては、光ファイバ伝送路６１における波長分散を測定する際、実際に光ファイバ伝送路６１を伝搬する光パルスを利用して波長分散の測定を行うため、従来のように専用の光源を用意し、この光源から測定用の光パルスを光ファイバ伝送路６１の入射端から入射し、光ファイバ伝送路６１の出射端から出力される測定用の光パルスを取り出し、この測定用の光パルスを取り出して波長分散の測定を行う必要が無くなる。
光ファイバ伝送路６１の全体における波長分散の測定だけでなく、光ファイバ伝送路６１の任意の位置にて、その位置までの距離の波長分散を測定することができ、波長分散の測定位置の自由度を向上させることができる。
また、空間光学系を用いていないため、装置自体が小型化でき、装置を携帯して任意の光ファイバ伝送路の任意の個所において、情報を伝送する役割を担って伝搬する光パルスを用い、この光パルスをモニタするため、特に測定用の光源を必要とすることなく、微小周波数シフトに対するスペクトル位相の変化分Δφ（ν）を測定することにより、光ファイバ伝送路６１の波長分散を評価することができる。

＜第５の実施形態＞
次に、第５の実施形態による波長分散測定装置の説明を行う。図１０は、第１の実施形態から第４の実施形態のいずれかによる波長分散測定装置を用いて、光部品を伝搬する光パルスの分散パラメータを測定する測定方法を説明する図である。この図において、波長分散測定装置７８が、第１の実施形態から第４の実施形態のいずれかによる波長分散測定装置である。
本実施形態において、被測定対象の光部品の波長分散を測定する際、測定用の特別な光源を用意するのではなく、通常、情報伝達のために伝送する光パルスを光ファイバ伝送路に出力する光送信機を、光源７１として用いる。このように、光源７１は光ファイバ伝送路に用いられる光源であり、本実施形態においては、干渉信号を光パルスに変換する光トランシーバを用いる。光源７１は、入射用光ファイバ７２に対して光パルスを被測定光信号として出射する。

入射用光ファイバ７２は、被測定対象７４としての光部品が配置される光ファイバ伝送路に用いられるのと同様の光ファイバにより構成する。この入射用光ファイバ７２には、入射光制御部７３が介挿されている。
入射光制御部７３は、入射用光ファイバ７２を伝搬する被測定光信号のパワー及び偏光状態を制御し、入射用光ファイバ７２を介して、制御後の被測定光信号を被測定対象７４の入射端に対して出射する。
被測定光信号のパワーを制御することにより、被測定対象７４における波長分散のパワー依存性、すなわち波長分散の程度とパワーとの関係を測定して評価することができる。
また、被測定光信号の偏光状態を制御することにより、波長分散の偏光状態依存性、すなわち偏光状態と波長分散の程度との関係を測定して評価することができる。

被測定対象７４は、出射端に出射用光ファイバ７５の一端が接続され、入射端から入射された被測定光信号を出射端から出射用光ファイバ７５に対して出射する。
出射用光ファイバ７５は、被測定対象７４としての光部品が配置される光ファイバ伝送路に用いられるのと同様の光ファイバにより構成する。
偏波コントローラ７６は、入射端に出射用光ファイバ７５の他端が接続され、被測定対象７４からの被測定光信号が入射される。また、偏波コントローラ７６は、出射端に入射用光ファイバ７７の一端が接続されている。この入射用光ファイバ７７は、偏波保持光ファイバが用いられており、偏光軸が波長分散測定装置７８内部の偏波保持光ファイバ（第１光ファイバ５、第２光ファイバ６）との偏光軸に揃える。

偏波コントローラ７６は、被測定光信号の偏波状態を直線偏波とし、その偏光軸を入射用光ファイバ７７（図３または図８の入射光ファイバ１）の偏光軸（例えば、スロー軸）に揃えた後に、入射用光ファイバ７７に被測定光信号を出射する。
また、被測定対象７４としては反射型の光部品であっても良い。反射型の光部品である場合、被測定対象７４における入射端と出射端とは同一となり、被測定対象７４への入射用光ファイバ７２と、被測定対象７４からの出射用光ファイバ７５とはサーキュレータを介して接続することになる。

上述のように、本実施形態によれば、空間光学系を使用せずに、装置を小型化することができ、装置を携帯していずれの場所においても、被測定対象とする光部品内を伝搬した光信号を被測定光信号とし、微小周波数シフトに対するスペクトル位相の変化分Δφ（ν）を測定することにより、実際に光部品内を伝搬する光パルスを用いて測定対象とする光部品の波長分散を評価することができる。

＜第６の実施形態＞
次に、第６の実施形態による波長分散測定装置の説明を行う。第６の実施形態による波長分散測定装置は、第１の実施形態から第５の実施形態のいずれの構成においても実施することが可能であり、以下図３を用いて説明する。
第６の実施形態は、図３における光周波数掃引部１４に入射される合波被測定光信号の偏光方向を、光周波数掃引部１４におけるバンドパス光フィルタの偏光軸に一致する制御を行い、スペクトル分解特性を向上させる構成となっている。以下の説明において、第１の実施形態から第５の実施形態と異なる構成のみの説明を行う。
光周波数掃引部１４には、周波数に対する分解能を向上させるため、バンドパス周波数幅が狭く、フィネスが高いバンドパス光フィルタを用いる。
このバンドパス光フィルタの一例として、光ファイバ中にＱ値の高い共振器を設けて構成された光素子がある。

このように、バンドパス光フィルタ自身が光ファイバで構成されていると、すでに説明した実施形態１から実施形態５の波長分散測定装置の構成をさらに小型化かつ軽量化するのに有利となる。
一方、バンドパス光フィルタにおいて、偏波保持光ファイバを用いず、偏波非保持光ファイバ（以下、光ファイバ）を用いた場合、固定状態などにより光ファイバに対して歪が印加されると、入射する光の偏光方向に対して屈折率が異なる偏光依存性が発生する。この結果、バンドパス光フィルタにおいて、偏光方向によってバンドパス周波数幅が拡がったり、バンドパス周波数帯が単一でなく偏光方向に依存して複数存在し、周波数分解能が劣化するという問題が発生する。

このバンドパス光フィルタに偏光依存性が発生する問題を解決するため、バンドパス光フィルタで構成された光周波数掃引部１４の前段に偏波コントローラを設け、入射する光の偏光方向がバンドパス光フィルタを構成する光ファイバの特定の偏光軸に一致するように調節し、偏光依存性を解消する構成とすればよい。ここでは、偏波コントローラは、入射される合波被測定光信号の偏光方向を、バンドパス光フィルタに用いる光ファイバのスロー軸に一致させるものとする。
図１１に、入射する光の偏光方向がバンドパス光フィルタを構成する光ファイバの単一の偏光軸（例えば、スロー軸）に一致するように調節するための構成例を示す。図１１における光ファイバ８１は図３の出射光導入光ファイバ１３に対応し、図１１における８４を光周波数掃引部とした場合は、図３の光周波数掃引部１４に対応し、図１１における光ファイバ８５は偏波非保持光ファイバであり、図３の出射光ファイバ１５に対応している。

本実施形態においては、偏光を制御する目的のため、図１１の入射側の光ファイバ８１及び接続光ファイバ８３は偏波保持光ファイバとする。偏波コントローラ８２は、入射端に対して光ファイバ８１の出射端が接続され、出射端に接続光ファイバ８３の入射端が接続されている。また、偏波コントローラ８２は、光ファイバ８１を介して入射される合波被測定光信号の偏光方向を光周波数掃引部８４におけるバンドパス光フィルタを構成する光ファイバのスロー軸に一致させた後、接続光ファイバ８３に対して出射する。
これにより、光周波数掃引部８４は、接続光ファイバ８３を介して、内部のバンドパス光フィルタを構成する光ファイバのスロー軸に偏光特性が一致した合波被測定光信号を、光循環部２を介して光分岐結合部４から入射する。
そして、８４が光周波数掃引部の場合、光周波数掃引部８４は、測定周波数の範囲においてバンドパス周波数幅を掃引することにより、合波被測定光信号を周波数分解して、成分被測定光信号として、光ファイバ８５を介して光検出部１６に対して出射する。

上述したように、偏波コントローラ８２が合波被測定光信号の偏光方向を、光周波数掃引部８４におけるバンドパス光フィルタを構成する光ファイバの偏光軸に合わせることにより、偏光方向によるスペクトル分解特性の劣化を防止することができ、周波数分解特性の精度を向上させることができる。

なお、光周波数掃引部８４におけるバンドパス光フィルタを構成する光ファイバが偏波保持光ファイバである場合、光ファイバ８１を偏波保持光ファイバとすることにより、偏波コントローラ８２を省略することができる。すなわち、入射側の光ファイバ８１の偏光方向と、光周波数掃引部８４におけるバンドパス光フィルタを構成する光ファイバとの偏光方向とを揃えて、直接に接続すればよい。
以上により、波長分散測定装置の全ての光の伝送経路を光ファイバベースとする光部品で構成する場合において、光周波数掃引部８４における周波数分解（スペクトル分解特性）の精度の劣化を防止することができる。

＜第７の実施形態＞
次に、第７の実施形態による波長分散測定装置の説明を行う。第７の実施形態による波長分散測定装置は、第１の実施形態から第３の実施形態のいずれかの波長分散測定装置を用い、光信号発生器で発生した光パルスの分散パラメータを測定する。図１２は、第１の実施形態から第３の実施形態のいずれかの波長分散測定装置を用い、光パルス伝送路を伝搬する、光信号発生器９１で発生した光パルスの分散パラメータを測定する方法を説明する図である。
また、この図９において、波長分散測定装置９７が第１の実施形態から第３の実施形態のいずれかの波長分散測定装置である。

図１２に示す分散パラメータの測定系は、光信号発生器９１、光ファイバ伝送路９２、偏波コントローラ９３、光ファイバ９４、波長チャンネル選択フィルタ９５、入射用光ファイバ９６及び波長分散測定装置９７とから構成されている。光ファイバ９４及び入射用光ファイバ９６は、偏波保持光ファイバが用いられる。
光信号発生器９１は、光トランスポンダ／光トランシーバ及び波長合成器を備えて構成されており、光ネットワークに用いられる光伝送装置における光パルスを発生する光信号発生部として機能する。

また、光信号発生器９１は、光出力端が光ファイバ伝送路９２の一端に接続されている。
光ファイバ伝送路９２は、光ネットワークに使用される光ファイバケーブルが構成の基本要素であり、全長が使用の対象とする光ネットワークに応じて決定される。例えば、海底光ファイバネットワークの場合には、光ファイバ伝送路９２の全長が１０００ｋｍ以上となることがある。
また、光ファイバ伝送路９２の全長が長くなり、伝送路の途中に光中継装置を介挿される際、光中継装置を通した光パルスの分散パラメータを評価する必要があり、この場合、光ファイバ伝送路９２には光増幅器など光中継装置に用いられる機器が介挿される。

本実施形態における光信号発生器９１は、構成要素の光トランスポンダ／光トランシーバが、例えば、連続発信する半導体レーザと、伝送するデータに従ってこの半導体レーザの出射光をコーディング、すなわち変調するための光変調器とを有している。この光変調器は、データの変調フォーマットとして、例えば、１０Ｇｂｐｓ−ＮＲＺ（ｎｏｎ−ｒｉｔｕｒｎ ｔｏ ｚｅｒｏ）強度変調、または４０Ｇｂｐｓ−ＤＱＰＳＫ（ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ｑｕａｄｒａｔｕｒｅ ｐｈａｓｅ−ｓｈｉｆｔ ｋｅｙｉｎｇ）変調を用いる。
したがって、本実施形態において測定対象とする被測定光信号には、上述した１０Ｇｂｐｓ−ＮＲＺや４０Ｇｂｐｓ−ＤＱＰＳＫ等の変調フォーマットの光信号が含まれる。ただし、本実施形態において測定対象とする被測定光信号は、これらの変調フォーマットに限られず、その他ＱＡＭ（ｑｕａｄｒａｔｕｒｅ ａｍｐｌｉｔｕｄｅ ｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ）などの研究開発段階にある、これから実用化される変調フォーマットのものも含む。

光ファイバ伝送路９２は、他端が偏波コントローラ９３の光入力端へ接続されている。
偏波コントローラ９３は、光ファイバ伝送路９２から光入射端に入射される被測定光信号の偏波状態を直線偏波に変換し、被測定光信号の偏光軸を入射用光ファイバ９６（図３または図８の入射光ファイバ１）の偏光軸（例えば、スロー軸）に揃えた後、被測定光信号を光出射端に一端が接続されている光ファイバ９４へ出射する。

波長チャンネル選択フィルタ９５は、光入射端に対して光ファイバ９４の他端が接続されており、光ファイバ９４を介して偏波コントローラ９３から被測定光信号が入射される。
この波長チャンネル選択フィルタ９５は、入射される被測定光信号から、波長分散測定装置９７において評価する対象となる波長チャンネルの光信号を選択的に透過させ、波長分散測定装置９７に対する被測定光信号として、光出射端から出射する。

また、波長チャンネル選択フィルタ９５は、図１２において、偏波コントローラ９２の後段に配置されているが、偏波コントローラ９２の前段に配置するようにしても良い。
すなわち、偏光軸を入射用光ファイバ９６に合わせた被測定光信号が、波長チャンネル選択フィルタ９５により、偏波状態が著しく変化してしまう場合、上述したように、波長チャンネルを選択した後、波長チャンネルの光信号の偏光軸を揃える処理が行われるように、波長チャンネル選択フィルタ９５の後段に偏波コントローラ９３を配置する構成が好ましい。この場合、光ファイバ伝送路９２と光ファイバ９４との間に波長チャンネル選択フィルタ９５が設けられ、光ファイバ９４と入射用光ファイバ９６との間に偏波コントローラ９３が設けられる。また、この波長チャンネル選択フィルタ９５の後段に偏波コントローラ９３を配置する構成の場合には、光ファイバ９４は、偏波保持光ファイバである必要はない。

上述した本実施形態による波長分散測定装置によれば、波長チャンネル選択フィルタ９５が透過する周波数チャネルを変化させることにより、光信号発生器９１を構成する光トランスポンダ／光トランシーバのチャープ特性を評価することができる。このチャープ特性（周波数チャープ量）の評価を行う場合、光ファイバ伝送路９２に代え、より短い短尺（例えば、数メートル）の光ファイバパッチコードを用いても良い。この光ファイバパッチコードは、標準分散単一モード光ファイバ、または分散シフト光ファイバなどの光ファイバで構成されている。

なお、本実施形態において用いた波長チャンネル選択フィルタ９５は、波長多重伝送において用いられる多重された波長チャンネルのいずれかの周波数を選択する用途で用いており、本発明の他の実施形態においても使用が可能である。
例えば、第４の実施形態の波長分散測定装置において、モニタ用分岐部６２の後段、すなわちモニタ用分岐部６２と波長分散測定装置６６との間に、波長チャンネル選択フィルタ９５を設けることで、多重された波長チャンネルのいずれか一つの波長チャネルの被測定光信号を抽出し、この一つの波長チャネルの波長分散特性を評価することができる。

＜第８の実施形態＞
次に、図１３を参照して、第８の実施形態による波長分散測定装置の構成及び機能を説明する。図１３は、第８の実施形態による波長分散測定装置の構成例を示すブロック図である。第１の実施形態と同様の構成については同一の符号を付し、第１の実施形態と異なる構成及び動作について以下に説明する。
図１３において、本実施形態の波長分散測定装置は、図３の第１の実施形態の波長分散装置の光循環部２と光周波数掃引部１４との間に光入力切替部１０１が介挿される構成となっている。また、本実施形態の波長分散測定装置には、校正用光源１０３が設けられている。

このため、本実施形態においては、図３の第１の実施形態による波長分散測定装置における結合用経路である結合用光ファイバ１３が、接続光ファイバ１０７、光入力切替部１０１、接続光ファイバ１０２、校正用光源１０３及び接続光ファイバ１０４に置き換えられている。
本実施形態においては、光循環部２の第１出射端に接続光ファイバ１０７の一端が接続されている。光入力切替部１０１は、２つの光入射端のいずれか一方（第６入射端）が接続光ファイバ１０７の他端に接続され、２つの光入射端の他方（第７入射端）が接続光ファイバ１０２の一端に接続されている。接続光ファイバ１０２の他端は校正用光源１０３の光出射端に接続されている。光入力切替部１０１の出射端（第５出射端）には接続光ファイバ１０４の一端が接続されており、接続光ファイバ１０４の他端は光周波数挿引部１４の入射端に接続されている。また光入力切替部１０１には、２つの光入射端から入射される光信号のいずれかを光出射端から出射するかの制御信号が光入力切替制御線１０５を介して、制御部１７から供給される。
校正用光源１０３は、光出射端が接続光ファイバ１０２の他端に接続され、制御部１７からの周波数制御を行う制御信号が供給される校正用光源制御線１０６の一端が接続されている。制御部１７には、校正用光源制御線１０６の他端が接続されている。
光入力切替部１０１は、制御部１７からの光入力を２つの光入射端のいずれから行うか、すなわち光循環部２からの被測定光信号を光周波数挿引部１４へ供給するか、あるいは校正用光源１０３の出力する校正光を光周波数挿引部１４へ供給するかを制御する制御信号が供給される光入力切替制御線１０５の一端が接続されている。制御部１７には、光入力切替制御１０５の他端が接続されている。

上述した波長分散測定装置において、制御部１７は、接続光ファイバ１０７を介して光循環部２から入射される被測定光信号と、接続光ファイバ１０２を介して校正用光源１０３から入射される校正光と、のいずれを光周波数掃引部１４の光入射端へ出射するかを制御する電気信号（制御信号）を、光入力切替制御線１０５を介し、光入力切替部１０１へ出力する。
そして、光入力切替部１０１は、接続光ファイバ１０２から入射される校正光を出力することを示す制御信号が制御部１２から供給された場合、接続光ファイバ１０２から入射される校正光を光出射端から、接続光ファイバ１０４を介して光周波数掃引部９の光入射端へ出射する。

ここで、光周波数掃引部１４は、接続光ファイバ１０４から入射される校正光を、すでに第１の実施形態において説明した被測定光信号に対する周波数掃引と同様の処理を行い、出射光光ファイバ１０を介して、掃引によって得られた成分被測定光信号を光検出部１１へ出射する。
そして、光検出部１１は、接続光ファイバ１０４を通過する光信号として校正光を選択した状態において、出射光光ファイバ１５から入射される校正光を電気信号に変換して、この変換した電気信号を制御部１２へ出力する。
制御部１２は、校正用光源１０３の出射する校正光の光周波数を変化させ、入力される電気信号を測定する。この結果、周波数掃引部１４において周波数掃引される光周波数の校正を行うことができ、測定する光周波数の変動を解消することができる。

例えば、光周波数掃引部１４には、光ファイバエタロンを用いたチューナブル光フィルタが用いられている。このチューナブル光フィルタは、一般的に、光ファイバエタロンの透過光周波数をＰＺＴ（preparation of lead zirconate titanate）などの圧電素子で光ファイバを伸縮させることにより、透過光周波数を可変としている。この圧電素子を用いたチューナブル光フィルタは、圧電素子の駆動電圧の変動、あるいはコントローラの電圧変動により、掃引周波数が変動してしまう。
したがって、この掃引光周波数の変動により、成分測定光信号の周波数の変動を解消するために、校正用光源１０３の校正光の周波数に対して、チューナブル光フィルタの掃引光周波数（透過周波数）のずれを校正する必要がある。

校正用光源１０３は、制御部１２から校正用光源制御線１０６を介して送信される制御信号（制御コマンドまたは制御電気信号）により、接続光ファイバ１０２に出射する校正光の周波数を制御する。
制御部１７は、光入力切替部１０１における被測定光信号と校正光とのいずれを出射するかの制御を、光周波数掃引部１４における周波数掃引及び校正用光源１０３の校正光の光周波数の制御と同期させることにより、被測定光信号の波長分散測定と、被測定光信号の周波数の校正とを交互に、もしくは一定の時間間隔毎に測定光周波数の校正を行うことができる。光周波数掃引部１４の掃引周波数の変動の状態に応じて校正の間隔を調整するば良い。これにより、光周波数掃引部１４を透過する光周波数がずれたとしても、校正光により周波数のずれを校正することができ、正確に周波数毎の分散パラメータを測定することができる。

制御部１７は、光周波数掃引部１４の透過させる周波数帯が掃引ごとに変動することを、校正用光源１０３の出力する校正光が光周波数掃引部１４から透過される際に強度が最大になる波長を決定することにより検出している。
また、光周波数掃引部１４の透過する光周波数のずれが測定精度に比較して大きくない場合、予め設定した一定の時間毎に被測定光信号の周波数の校正を行うようにしても良い。

校正用光源１０３の構成としては、波長校正・波長安定化制御がなされているもので、例えば、以下に示す５種類の構成のいずれかを用いると良い。
（１）単一縦モードにて発振するレーザ素子からなる構成
（２）単一縦モードで発振し、互いに発振波長が異なる複数のレーザ素子を用い、互いに異なる発振波長のいずれを校正光とするかを光スイッチにより選択する構成（ここで、光スイッチの切替は制御部１７により制御される）
（３）単一縦モードで発振し、発振波長が可変であるチューナブルレーザ素子であり、発振波長を制御部１７からのコマンド（制御命令）あるいは電気制御信号に従って可変する構成（ここで、コマンドは発振波長を示す制御データであり、電気制御信号は例えば発振波長に対応した電圧値などである）
（４）広帯域光源からの光信号を光フィルタにより透過させ、透過した光のピーク波長あるいは周波数幅を制御部１７からのコマンドあるいは電気制御信号に従って可変する構成
（５）縦モードがマルチモードであるレーザ素子あるいは光周波数コム（ｏｐｔｉｃａｌ ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ ｃｏｍｂ）光源であり、ピーク波長の周波数周期を制御部１７からのコマンドあるいは電気制御信号にしたがって可変する構成

また、本実施形態における校正用光源１０３の構成は、上述した（１）から（５）の構成に限定するものではない。
また、本実施形態にの説明における光周波数の構成機能を付加する構成については、第１の実施形態による波長分散測定装置に基づいて説明したが、本発明の第１の実施形態以外の他の実施形態による波長分散測定装置に対しても容易に適用できる。

以上、この発明の実施形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計等も含まれる。

１…入射光ファイバ ２…光循環部 ３，８３…接続光ファイバ ４…光分岐結合部 ５…第１光ファイバ ６…第２光ファイバ ７…光遅延部 ８…光位相シフト部 １１…第１終端部 １２…第２終端部 １３…出射光導入光ファイバ １４，８４…光周波数掃引部 １５…出射光ファイバ １６…光検出部 １７…制御部 １８…位相制御線 １９…周波数制御線 ２０…検出制御線 ４７…光遅延・光位相シフト部 ６１…光ファイバ伝送路 ６２…モニタ用光分岐部 ６３…モニタ用光ファイバ ６４，７６，８２，９３…偏波コントローラ、 ６５，７２，７７，９６…入射用光ファイバ、 ６６，７８，９７…波長分散測定装置 ７１…光源 ７３…入射光制御部 ７４…被測定対象 ７５…出射用光ファイバ ８１，８５，９４…光ファイバ ９１…光信号発生器 ９２…光ファイバ伝送路 ９３…偏波コントローラ ９５…波長チャンネル選択フィルタ １０１…光入力切替部 １０３…校正用光源 １０２，１０４，１０７…接続光ファイバ １０５…入力切替制御線 １０６…校正用光源制御線

Claims (15)

1. 測定対象から入射される被測定光信号を伝搬する、偏波保持特性を有する光ファイバで構成された入射経路と、
   前記入射経路に接続された第１入射端から被測定光信号を入射し、当該被測定光信号を第１入出射端から出射し、また当該第１入出射端から入射される合波被測定光信号を第１出射端から出力する光循環部と、
   一端が前記第１入出射端に接続された、偏波保持特性を有する光ファイバで構成された第１接続経路と、
   前記第１接続経路の他端に接続された第２入出射端から前記被測定光信号を、第１被測定光信号及び第２被測定光信号の２つに分離し、前記第１被測定光信号を第３の入出射端から出射し、また前記第１被測定光信号と同一の偏光方向であり、かつ当該第１被測定光信号に対し、予め設定した周波数分シフトさせた前記第２被測定光信号を第４の入出射端から出射し、一方、前記第３の入出射端から入射される第１被測定反射光信号と、前記第４入出射端から入射される第２被測定反射光信号を第１被測定反射光信号に対して前記周波数分シフトさせた信号とを合波し、この合波による干渉結果として前記合波被測定光信号を、前記第２入出射端から出射する光分岐結合部と、
   一端が前記第３入出射端に接続された、偏波保持特性を有する光ファイバで構成された第１分岐経路と、
   一端が前記第４入出射端に接続された、偏波保持特性を有する光ファイバで構成された第２分岐経路と、
   前記第１分岐経路の他端に接続された第５入出射端から入射される第１被測定光信号を全反射し、前記第１被測定反射光信号として前記第５入出射端から前記第１分岐経路へ出射する第１終端部と、
   前記第２分岐経路の他端に接続された第６入出射端から入射される前記第２被測定光信号を全反射し、前記第２被測定反射光信号として前記第６入出射端から前記第２分岐経路へ出射する第２終端部と、
   前記第１分岐経路及び前記第２分岐経路のいずれか一方に設けられ、設けられた分岐経路を伝搬する光測定光信号の位相α_ｉ（ラジアン単位、α_ｉは実数であり０≦α_ｉ≦２π、ｉは整数であり３≦ｉ）を周期的に変化させる光位相シフタと、
   前記第１出射端に接続され、前記合波被測定光信号を伝搬させる光ファイバで構成された測定結合用経路と、
   前記測定結合用経路に接続された第２入射端から前記合波被測定光信号を入射し、前記
   合波被測定光信号を通過させる周波数範囲を掃引し、前記合波被測定光信号から前記周波数範囲のスペクトル成分を抽出する周波数分解を行い、周波数分解の結果を成分被測定光信号として第２出射端から出射する光周波数掃引部と、
   前記第２出射端に接続され、前記成分被測定光信号を伝搬させる光ファイバで構成された出射光経路と、
   前記出射光経路に接続された第３の入射端から前記成分被測定光信号を入射し、該成分被測定光信号を電気信号に変換し、変換結果を干渉信号とする光検出部と、
   前記光位相シフタの位相の変化に同期させ、前記位相シフタの位相を変化させる一周期内においてｉが増加される毎に、前記第１被測定光信号と前記第２被測定光信号との位相α_ｉにおける光成分に対応する前記干渉信号を時系列的に取得する制御部と
   を有することを特徴とする波長分散測定装置。
2. 前記ｉの取り得る値の範囲がｍである場合、
   前記制御部が、
   前記第ｉ光成分の各々に対し、周波数成分毎の測定間隔を１／ｍとする補間処理を行うことにより、全干渉信号のデータ点数をｍ倍とする
   ことを特徴とする請求項１に記載の波長分散測定装置。
3. 前記α_ｉの要素の総数が３以上（ｉ≧３）であり、
   前記制御部が、当該要素から３つの要素として、位相α_１の第１光成分、位相α_２の第２光成分及び位相α_３の第３光成分を抽出し、当該第１光成分、当該第２光成分及び当該第３光成分の各々から前記干渉信号を取得する
   ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の波長分散測定装置。
4. 前記制御部が、前記第１光成分の前記干渉信号を受信する第１受信部と、前記第２光成分の前記干渉信号を受信する第２受信部と、前記第３光成分の前記干渉信号を受信する第３受信部とを有していることを特徴とする請求項３に記載の波長分散測定装置。
5. 前記αｉの要素の総数が２０以上（ｉ≧２０）であることを特徴とする請求項３に記載の波長分散測定装置。
6. 前記第１終端部または前記第２終端部のいずれかまたは双方の終端部の反射率が可変であり、
   前記制御部が、前記光分岐結合部に入射される前記第１被測定反射光信号と前記第２被測定反射光信号との光強度の差分を、前記第１光成分の干渉信号及び第２光成分の干渉信号との波形における直流成分の電圧値により検出し、当該電圧値が予め設定した閾値を超える場合、反射率が可変な前記終端部の反射率を、前記電圧値が前記閾値以下となるように制御することを特徴とする請求項３から請求項５のいずれか一項に記載の波長分散測定装置。
7. 前記第１分岐経路または第２分岐経路のいずれかまたは双方に光強度調整部が介挿されており、
   前記制御部が、前記光分岐結合部に入射される前記第１被測定反射光信号と前記第２被測定反射光信号との光強度の差分を、前記第１光成分の干渉信号及び第２光成分の干渉信号との波形の電圧値により検出し、当該電圧値が予め設定した閾値を超える場合、前記光強度調整部により、前記第１被測定反射光信号と前記第２被測定反射光信号とにおける反射率の強度の差分である前記電圧値を、前記閾値以下となるよう制御することを特徴とする請求項３から請求項５のいずれか一項に記載の波長分散測定装置。
8. 前記第１分岐経路及び前記第２分岐経路のいずれか一方に設けられ、前記第１分岐経路
   と前記第２分岐経路との光路長差を調節する光遅延部をさらに有することを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の波長分散測定装置。
9. 前記第１分岐経路及び前記第２分岐経路のいずれか一方に前記光遅延部が設けられ、前記位相シフタが他方に設けられることを特徴とする請求項８に記載の波長分散測定装置。
10. 前記第１分岐経路及び前記第２分岐経路のいずれか一方に、前記光遅延部及び光位相シフタが一体化して設けられていることを特徴とする請求項８に記載の波長分散測定装置。
11. 前記制御部が、測定範囲における測定周波数の掃引毎に、測定単位として前記干渉信号毎に前記第１光成分、第２光成分及び前記第３光成分をデータグループとして時系列に取得することを特徴とする請求項３から請求項１０のいずれかに記載の波長分散測定装置。
12. 前記光結合部の前記第３出射端から出射する前記合波光信号を第１光ファイバを介して前記第６入射端から入射し、校正用光源の出射端から出射する校正光を第７出射端から入射し、前記合波信号もしくは前記校正光のいずれかを選択して前記第５出射端から出射する光入力切替部を有し、
    該光入力切替部で選択した前記合波光信号もしくは前記校正光を第２光ファイバを介して前記光周波数挿引部の前記第４入射端に入射させ、前記結合用経路中に、前記結合用経路を伝搬する光として前記合波被測定光信号と前記構成用光源の出射端から出射する前記校正光とを切替える手段を有することを特徴とする請求項１から請求項１１のいずれかに記載の波長分散測定装置。
13. 前記測定結合用経路を偏波保持特性を有する光ファイバで構成し、前記測定結合用経路の後段に、前記合波被測定光信号の偏光方向を制御する偏波コントローラを挿入し、当該偏波コントローラと前記光周波数掃引部との間を偏波保持特性を有する第３光ファイバにより接続していることを特徴とする請求項１から請求項１２のいずれか一項に記載の波長分散測定装置。
14. 前記請求項３から請求項１３のいずれかの波長分散測定装置を用いて、測定対象の波長分散を求める波長分散測定方法であって、
    前記測定対象である光伝送路の波長分散を評価する部分に分岐部を設け、偏波制御部が該分岐部より得られる被測定光信号の偏波を直線偏波に制御し、前記波長分散測定装置内を伝搬する偏光軸に揃え、該波長分散測定装置に前記入射経路を介して被測定光信号を入射させ、前記第１光成分及び前記第２光成分の前記干渉信号から被測定光信号のスペクトル位相の変化分を求め、前記測定対象における波長分散を評価することを特徴とする波長分散測定方法。
15. 前記請求項１から請求項１３のいずれかの波長分散測定装置を用いて、測定対象の波長分散を求める波長分散測定方法であって、
    前記測定対象の出射端から出射される光信号の偏波を直線偏波に制御し、前記波長分散測定装置内を伝搬する偏光軸に揃えた被測定光信号とし、当該測定対象が複数の波長チャンネルを含む場合には、前記測定対象から出射される前記被測定光信号から、単一の波長チャンネルの光信号を抽出し、抽出した前記被測定光信号を前記波長分散装置に入射して、当該被測定対象における波長分散を評価することを特徴とする波長分散測定方法。

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