JPS63196038A - エネルギ−線描画装置及び描画方法 - Google Patents
エネルギ−線描画装置及び描画方法Info
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- JPS63196038A JPS63196038A JP2854987A JP2854987A JPS63196038A JP S63196038 A JPS63196038 A JP S63196038A JP 2854987 A JP2854987 A JP 2854987A JP 2854987 A JP2854987 A JP 2854987A JP S63196038 A JPS63196038 A JP S63196038A
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- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 8
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Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、エネルギー線描画装置及び描画方法、特に
写真蝕刻技術に関するものである。
写真蝕刻技術に関するものである。
（従来の技術）
矩形状ビームによる描画においては、最大矩形寸法に制
限があるため、大型のパターンを描画する際、あらかじ
め、設計データを最大矩形寸法に分割し、順次描画して
いた。
限があるため、大型のパターンを描画する際、あらかじ
め、設計データを最大矩形寸法に分割し、順次描画して
いた。
（発明が解決しようとする問題点）
ところで、従来の技術においては、大型のパターンや長
い線で、本来一つの連続したパターンを描画する場合に
も、最大矩形と矩形のつなぎに対して、特別な工夫はな
されていなかった。そのため、矩形寸法の調整精度が悪
かったり、矩形ビームを得るためのスリットの直交度が
悪いと、パターンが不連続になったり、つなぎ幅が異り
、きよ歯状になるという問題があった。特にパターンの
不連続は、本技術の主適用例である半導体デバイスや光
デバイスに用いる場合には致命的とな−る。
い線で、本来一つの連続したパターンを描画する場合に
も、最大矩形と矩形のつなぎに対して、特別な工夫はな
されていなかった。そのため、矩形寸法の調整精度が悪
かったり、矩形ビームを得るためのスリットの直交度が
悪いと、パターンが不連続になったり、つなぎ幅が異り
、きよ歯状になるという問題があった。特にパターンの
不連続は、本技術の主適用例である半導体デバイスや光
デバイスに用いる場合には致命的とな−る。
（問題点を解決するための手段）
本発明の第１は矩形状のスリットにエネルギー線を均一
に照射し矩形状のビームを得る手段と、描画パターンに
ついて、パターン間のつなぎ関係を判断する手段と、つ
なぎ方向に矩形ビームを微小量だけ変動させる偏向手段
とを有することを特徴としたエネルギー線描画装置であ
り、本発明の第２は、描画パターンと、その前後に描画
するパターンのつなぎ関係を、判定する工程と、そのつ
なぎ関係情報にもとづき接続方向に、エネルギー・ビー
ムを微小量位置変動させながら、エネルギー線照射を、
基板状に堆積したエネルギー線感応性樹脂層に対して行
う工程と、該エネルギー線感応樹脂層を現像させる工程
とからなることを特徴とするエネルギー線による描画方
法である。
に照射し矩形状のビームを得る手段と、描画パターンに
ついて、パターン間のつなぎ関係を判断する手段と、つ
なぎ方向に矩形ビームを微小量だけ変動させる偏向手段
とを有することを特徴としたエネルギー線描画装置であ
り、本発明の第２は、描画パターンと、その前後に描画
するパターンのつなぎ関係を、判定する工程と、そのつ
なぎ関係情報にもとづき接続方向に、エネルギー・ビー
ムを微小量位置変動させながら、エネルギー線照射を、
基板状に堆積したエネルギー線感応性樹脂層に対して行
う工程と、該エネルギー線感応樹脂層を現像させる工程
とからなることを特徴とするエネルギー線による描画方
法である。
（作用）
本来一つのパターンであるものを分割して描画する際、
本発明の装置及び方法ではパターンの端でビームをつな
ぎ方向に微小量だけ振動させるため、つなぎ方向にパタ
ーン間で露光量分布にテールが生じる。このため分割矩
形間のつなぎ精度が向上し、特に不連続部分が生じるこ
とがなくなる。
本発明の装置及び方法ではパターンの端でビームをつな
ぎ方向に微小量だけ振動させるため、つなぎ方向にパタ
ーン間で露光量分布にテールが生じる。このため分割矩
形間のつなぎ精度が向上し、特に不連続部分が生じるこ
とがなくなる。
（実施例）
以下、実施例により、装置及び描画方法を説明する。第
１図は、本発明の装置により、本発明の方法で描画する
際にエネルギー線として電子を用いた場合すなわち電子
ビーム露光の例である。図中１が基板、２がエネルギー
感応性樹脂層である。電子線源５から出た電子線は矩形
状のスリット６を通過する際に矩形状のビームとなる。
１図は、本発明の装置により、本発明の方法で描画する
際にエネルギー線として電子を用いた場合すなわち電子
ビーム露光の例である。図中１が基板、２がエネルギー
感応性樹脂層である。電子線源５から出た電子線は矩形
状のスリット６を通過する際に矩形状のビームとなる。
ついで制御用コンピュータ７から送られる位置情報にも
とづき、ｘ及びＹのＤ／Ａコンバータ９が働き、Ｘ及び
Ｙ方向のビーム位置ぎめ偏向板１０に電圧が印加される
。同時に、パターン３のように、前後のパターン３′に
３”と本来、接続されるべきＹ方向に長い線分を描画す
る場合は、制御用コンピューターにたくわえられたＬＳ
Ｉなどのパターン情報にもとづきパターン間のつなぎが
必要な場合微小偏向用のＤ／Ａコンバーター８が駆動さ
れ、つなぎ方向に図中に矢印で示したようにビームを０
．１〜０．３ｐｍｔｉ動す＋る。
とづき、ｘ及びＹのＤ／Ａコンバータ９が働き、Ｘ及び
Ｙ方向のビーム位置ぎめ偏向板１０に電圧が印加される
。同時に、パターン３のように、前後のパターン３′に
３”と本来、接続されるべきＹ方向に長い線分を描画す
る場合は、制御用コンピューターにたくわえられたＬＳ
Ｉなどのパターン情報にもとづきパターン間のつなぎが
必要な場合微小偏向用のＤ／Ａコンバーター８が駆動さ
れ、つなぎ方向に図中に矢印で示したようにビームを０
．１〜０．３ｐｍｔｉ動す＋る。
このようにして電子ビーム露光を行なった後現像すれば
、接続されるべきパターンがきちんと接続されているエ
ネルギー感応性樹脂パターンが得られる。
、接続されるべきパターンがきちんと接続されているエ
ネルギー感応性樹脂パターンが得られる。
また、パターンの端において、ビームをつなぎ方向とと
もにそれと直角の方向にも振動させると、パターンの不
連続部が発生しないという効果に加えてパターン間のつ
なぎ部分の幅が異なってパターンが鋸歯状になることも
あるていど防止することができる。
もにそれと直角の方向にも振動させると、パターンの不
連続部が発生しないという効果に加えてパターン間のつ
なぎ部分の幅が異なってパターンが鋸歯状になることも
あるていど防止することができる。
またスリットを２段に重ねて、その途中でビームを偏向
させることにより矩形寸法を可変とする方式においても
、本発明を適用することによりパターン間における同様
な高精度のつなぎが可能となる。
させることにより矩形寸法を可変とする方式においても
、本発明を適用することによりパターン間における同様
な高精度のつなぎが可能となる。
また以上の実施例は電子ビームリソグフイについて述べ
たが、本発明はイオンビームリソグラフィについても適
用することができる。
たが、本発明はイオンビームリソグラフィについても適
用することができる。
（発明の効果）
以上のように、本発明は、従来の矩形ビーム型装置及び
描画方法の致命的欠点であった。本来連続すべきパター
ンの途中に、調整不良やスリットの不良にもとづ（不連
続部が発生するという問題がな（、パターン描画の信頼
性を大幅に向上するものである。
描画方法の致命的欠点であった。本来連続すべきパター
ンの途中に、調整不良やスリットの不良にもとづ（不連
続部が発生するという問題がな（、パターン描画の信頼
性を大幅に向上するものである。
第１図は本発明のエネルギー線描画装置及び描画方法を
説明するための概略図である。図中１は基板、２はエネ
ルギー感応性樹脂、３は矩形状エネルギー線照射位置、
３”及び３”はその前後の照射位置、４は矩形状の電子
線、５は電子線源、６は矩形状の穴を有するスリット、
７は制御用コンピュータ、８はビーム位置の振動用のＤ
／Ａコンバータ部、９はビームのＸ、Ｙ位置を決めるた
めのんＤコンバーターであ第１図 基板１
説明するための概略図である。図中１は基板、２はエネ
ルギー感応性樹脂、３は矩形状エネルギー線照射位置、
３”及び３”はその前後の照射位置、４は矩形状の電子
線、５は電子線源、６は矩形状の穴を有するスリット、
７は制御用コンピュータ、８はビーム位置の振動用のＤ
／Ａコンバータ部、９はビームのＸ、Ｙ位置を決めるた
めのんＤコンバーターであ第１図 基板１
Claims (2)
- （１）矩形状のスリットにエネルギー線を均一に照射し
矩形状のビームを得る手段と、描画パターンについて、
パターン間のつなぎ関係を判断する手段とつながってい
ると判断した場合つなぎ方向に矩形ビームを微小量だけ
を変動させる偏向手段とを有することを、特徴としたエ
ネルギー線描画装置。 - （２）描画するパターンと、その前後に描画するパター
ンのつなぎ関係を判定する工程と、そのつなぎ関係情報
にもとづき、つなぎ方向にエネルギー線を微小量位置変
動させながら、エネルギー線照射を、基板上に堆積した
エネルギー線感応性樹脂層に対して行う工程と、該エネ
ルギー線感応樹脂層を現像させる工程とを備えたことを
特徴とするエネルギー線による描画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2854987A JPS63196038A (ja) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | エネルギ−線描画装置及び描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2854987A JPS63196038A (ja) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | エネルギ−線描画装置及び描画方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63196038A true JPS63196038A (ja) | 1988-08-15 |
Family
ID=12251737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2854987A Pending JPS63196038A (ja) | 1987-02-09 | 1987-02-09 | エネルギ−線描画装置及び描画方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63196038A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6544698B1 (en) | 2001-06-27 | 2003-04-08 | University Of South Florida | Maskless 2-D and 3-D pattern generation photolithography |
| US6764796B2 (en) | 2001-06-27 | 2004-07-20 | University Of South Florida | Maskless photolithography using plasma displays |
| US6998219B2 (en) | 2001-06-27 | 2006-02-14 | University Of South Florida | Maskless photolithography for etching and deposition |
| US7271877B2 (en) | 2001-06-27 | 2007-09-18 | University Of South Florida | Method and apparatus for maskless photolithography |
| US7468238B2 (en) | 2001-06-27 | 2008-12-23 | University Of South Florida | Maskless photolithography for using photoreactive agents |
| DE102015006382A1 (de) | 2014-05-21 | 2015-11-26 | Nihon Plast Co., Ltd. | Windrichtungsregeler |
| US10112459B2 (en) | 2012-08-08 | 2018-10-30 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Register |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54105971A (en) * | 1978-02-07 | 1979-08-20 | Jeol Ltd | Electron beam exposure method |
| JPS5957428A (ja) * | 1982-09-27 | 1984-04-03 | Matsushita Electronics Corp | パタ−ン形成方法 |
-
1987
- 1987-02-09 JP JP2854987A patent/JPS63196038A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54105971A (en) * | 1978-02-07 | 1979-08-20 | Jeol Ltd | Electron beam exposure method |
| JPS5957428A (ja) * | 1982-09-27 | 1984-04-03 | Matsushita Electronics Corp | パタ−ン形成方法 |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US6764796B2 (en) | 2001-06-27 | 2004-07-20 | University Of South Florida | Maskless photolithography using plasma displays |
| US6998219B2 (en) | 2001-06-27 | 2006-02-14 | University Of South Florida | Maskless photolithography for etching and deposition |
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| US7468238B2 (en) | 2001-06-27 | 2008-12-23 | University Of South Florida | Maskless photolithography for using photoreactive agents |
| US7572573B2 (en) | 2001-06-27 | 2009-08-11 | University Of South Florida | Maskless photolithography for etching and deposition |
| US7573561B2 (en) | 2001-06-27 | 2009-08-11 | University Of South Florida | Method and apparatus for maskless photolithography |
| US10112459B2 (en) | 2012-08-08 | 2018-10-30 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Register |
| DE102015006382A1 (de) | 2014-05-21 | 2015-11-26 | Nihon Plast Co., Ltd. | Windrichtungsregeler |
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