JPS63190845A - 薬学的に活性な化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

意束上皮■且分立 本発明は薬学的活性、すなわち、抗ウイルス性、抗炎症
および血小板活性化因子阻害を有する化合物、それらの
薬学的に受容される塩および溶媒和物および活性化合物
を含む薬学的組成物に関する。 従」仙λ技ｊ杯 式： によって表わされる化合物、アリルトンＣＡｒｆｌｄｏ
ｎｅ）は、ｉｎ　ｖｉｔｒｏで庖疹ウィルスおよびポリ
オウィルスに対して活性であるが、ライノウィルス属の
ウィルスに対してはほとんど活性がない。ダイアナ（Ｄ
ｉａｎａ）ら、Ｊ、Ｍｅｄ、Ｃｈｅｍ、Ｚ８７４８（１
９８５）はピコルナウィルス科のウィルスに対して広域
スペクトル活性を有する化合物を製造しようと試みてア
リルトンのアルキル−置換イソキサゾール類似物を製造
した。その化合物のいくつかは、ライノウィルス２型お
よびポリオウィルス２型の両方に対して活性であった。 しかし、ダイアナらの製造した化合物が抗炎症剤として
または血小板活性化因子阻害剤として活性を持つことを
何ら示唆していない。 本発明の化合物の多くはそのような活性を有している。 発５１１斐 本発明の化合物は下記の構造式■および■：Ｚ−Ｘ−Ｑ
−Ｙ−Ｗ　、　　　Ｚ−Ｘ−Ｑ−Ｙ−Ｗ’　４−Ｑ−Ｘ
−ＺＩ　　　　　　　　　ｎ で表わされる化合物、薬学的に受容される酸付加塩、塩
基付加塩、およびその第四アミン塩およびその薬学的に
受容される溶媒和物であり、上記式中、各Ｚはそれぞれ
独立にｔｅｒ　ｔ−ブチル、フェニル、ナフチルまたは
アダマンタニル、置換フェニル、（ここで置換基は、１
個以上のハロゲン、低級アルコキシ、フェノキシ、ニト
リル、ニトロ。 フェニルスルホニル、低級アルキルスルホニル。 オキサゾール−２−イル、低級アルカノイル、ベンゾイ
ル、低級アルコキシカルボニル、低級アルキル、フェニ
ル、低級アルキルチオ、フェニルアミノチオカルボニル
、または低級アルキルアミノチオカルボニルである）、
または環内に少なくとも１個の窒素を含み、残りの環原
子は少なくとも１個の炭素、および任意にイオウまたは
酸素である４〜６員の非置換または置換複素環（ここで
置換基は１個以上の−ＣＯＯＨ，−ＣＨｚＯＨ，低級ア
ルキル。 低級アルキルカルボニル、またはアリール低級アルキル
である）であり； ＸおよびＹはそれぞれ独立に、単結合、−〇−１あり； 各Ｑはそれぞれ独立に２価の置換または非置換、直鎖ま
たは枝分れ鎖低級アルカンジイル、低級アルカンジイル
−シクロアルカンジイル−低級アルカンジイル、低級ア
ルケンジイル、低級アルキンジイル、フェニレン１　ジ
ヒドロフランジイル、テトラヒドロフランジイル、テト
ラヒドロピランジイルまたは低級アルカンジイル−テト
ラヒドロフランジイル−低級アルカンジイル（ここで置
換基は１個以上のヒドロキシ、エポキシ、フッ素、塩素
、アジド、またはアミンである）であり；Ｗは一価の置
換または非置換アリール基（置換基は１個以上のヒドロ
キシ、オキソ、アミノ、カルバモイル、カルボキシ、ニ
トリル、ニトロ、低級アルキル、低級アルコキシカルボ
ニル、ハロゲン、スルファミル、低級アルコキシカルボ
ニル低級アルキル、低級アルキルチオ、低級アルコキシ
。 ヒドロキシ低級アルキル、アミノ低級アルキル。 カルボキシ低級アルキル、グアニジノ、チオウレイド、
低級アルキルスルフォニルアミノ、アミノカルボニル低
級アルキル、アリルオキシカルボニルメチルまたはカル
バモイルオキシ低級アルキルである）、または４〜１０
個の環原子を含む複素環式単環または縮合環（少なくと
も１個の複素原子は窒素原子であり、そして残りの環原
子は少なくとも１個の炭素そして任意にイオウまたは酸
素である）であり、ただし、Ｗは置換または非置換イソ
オキサシリルであることはない。 Ｗ′は二価のＷである。 本発明は薬学的に有効な量の式■または式ＩＩの化合物
を含む薬学的組成物並びに適当な薬学的組成物を用いる
ウィルス感染、炎症及び血小板活性化因子阻害の治療法
をも包含する。 本明細書中で用いられる限り、「低級アルキル」単独ま
たは例えば「低級アルコキシ」または「低級アルカンジ
イル」のような組み合わされた型は、炭素原子１〜１０
個の直鎖または技分れ額アルキル基（例えば、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔｅｘｔ−
ブチル、ペンチル、ネオペンチル、ヘキシルなど）を意
味する。 ＺおよびＷにおける複素環はそれぞれＸおよびＹと複素
原子（好ましくは窒素）または炭素原子により一価の結
合を形成する　Ｗ　ｒにおける複素環は好ましくは２個
の窒素原子を持ち、それぞれは別々の−Ｙ−１１−Ｘ−
Ｚ部分と結合する。 Ｚとして、本発明の範囲内の複素環基は、例えばイミダ
ゾリル（イミダゾール−１−イル、イミダゾール−２−
イル、イミダゾール−４−イル。 およびイミダゾール−５−イルなと）、ジヒドロチアゾ
リル（４，５−ジヒドロチアゾール−２−イルなど）、
テトラゾール（テトラゾール−５−イル。 テトラゾール−１−イル、およびテトラゾ−ルー−イル
など）、テトラヒドロ−ピリミジニル（１゜２．３．４
−テトラヒドロピリミジン−１−イルなと）、ジヒドロ
−オキサゾール（４，５−ジヒドロオキサゾール−２−
イルなど）、ピロリジニル（ピロリジン−１−イルなど
）、ピラゾリル（ピラゾール−１−イルおよびピラゾー
ル−２−イルなど）、モルホリニル、およびアゼチジニ
ルである。上記の複素環基の全ての可能な結合位置は本
発明の範囲である。 Ｗとして本発明の範囲内の複素環基ば、例えば、Ｚに関
して上記で列記した全ての基および更に縮合環基（例え
ばベンズアミドアゾリル（ベンズアミドアゾール−１−
イルおよびベンズアミドアゾール−２−イルなど）、ナ
フチリジンル（ナフチリジン−１−イルなと）、プリン
（プリン−９−イルおよびプリン−７−イルなと）、お
よびキノリニル）である。 Ｗ′として本発明の範囲内に入る複素環基は、Ｚおよび
Ｗとして上記で列記した全ての基であるが、二価のもの
である。例えば、Ｗ′がテトラヒドロピリミジニルであ
る場合には、１，２，３．４−テトラヒドロ−ピリミジ
ン−１，３−ジイルであろう。ベンズアミドアゾリル基
のようなＷ′は、例えばベンズアミドアゾール−１，３
−ジイルでありうる。換言すれば、ＺおよびＷとして列
記した基から可能なＷ′基を得るには、ＺおよびＷ基中
の接尾語「イル」を「ジイル」で置き換えれば良い。 本明細書中で用いられる場合「アリール」はフヱニルお
よびナフチルをさす。 本明細書中で用いられる場合「ハロゲン」は塩素、フッ
素、臭素を意味し、塩素またはフッ素が好ましい。 「シクロアルカン」　（単独または結合型）は４゜５．
６または７員飽和炭素環を意味する。 「低級アルケン」　（単独または結合型）は炭素数２〜
ｌＯ個の技分かれまたは直鎖アルケン基を意味する。 「低級アルキン」　（単独または結合型）は、炭素数２
〜ｌＯ個の枝分れまたは直鎖アルキン基を意味する。 本明細書で用いられる「薬学的に受容される塩Ｊは、鉱
酸（例えば塩酸、臭化水素酸、リン酸、硫酸）、有機カ
ルボン酸またはスルホン酸（例えばトリフルオロ酢酸、
ｐ−トルエン、スルホン酸。 マレイン酸、酢酸、クエン酸、蓚酸、コハク酸。 安息香酸、酒石酸、フマル酸、マンデル酸、アスコルビ
ン酸、リンゴ酸）または全ての薬学的に受容される４級
塩が考えられるが、例えば有機ハロゲン化物（例えばヨ
ウ化メチル、ヨウ化エチル。 塩化ベンジル）から製造された４級塩から形成された酸
付加塩を意味する。塩基付加塩も本発明の範囲内である
。 上記塩は当分野における慣用手段（例えば、化合物と適
当な酸、有機ハロゲン化物、または塩基との反応〕によ
って製造される。 好適な塩は、塩酸塩である。 本明細書中で使用される場合「ヒドロキシ保護基」は、
製造される化合物に悪影響がない慣用反応によって除去
されるような公知のヒドロキシ保護基を意味する。一般
に適当なヒドロキシ保護基はＬ−ブチルジメチルシリル
（ＴＢＤＭＳ）またはテトラヒドロピラニルである。 本発明の化合物は、ピコルナウィルス科のウィルス（エ
ンテロウィル属およびライノウィルス属のウィルスを含
む）のようなエーテル抵抗性ＲＮ＾ウィルスに対して活
性である。エンテロウィルス属は、ポリオウィルス、コ
クサラキーウィルスおよびＥＣＨＯウィルスを含む、ラ
イノウィルス属は、普通感冒およびある種の他の呼吸疾
患に関与するウィルスを含む。１００を越える血細型が
単離されている０本発明の化合物は全てのライノウィル
ス属のウィルスに対して活性ではないが、ライノウィル
ス２型を含む多くのライノウィルス属ウィルスに対して
活性である０本発明の化合物はポリオウィルス２型、コ
クサラキーウィルスＡおよびＢ＃３、ＥＣＨＯ並びにＡ
型肝炎のようなエンテロウィルス属ウィルスに対しても
活性である。 更に、本発明の化合物は、庖疹ウィルス、サイトメガロ
ウィルスのようなある種のＤＮＡ　ウィルスに対して活
性である０合成化合物のウィルス感染性（例えばビコノ
ウィルス科ウィルスの怒染性）中和力を測定するｉｎ　
ｖｉｔｒｏ活性分析（例えば血小板減少分析；　ｐｌａ
ｑｕｅ　ｒｅｄｕｃｔｉｏｎ　ａｓｓａｙ）を試験した
場合に、本発明化合物は活性を示した。コクサンキーウ
ィルス３型に対する試験では、試験された本発明化合物
のＩＣ５Ｏ値は約０．７　μｇ／Ｉ１１〜約１．４μｇ
／ｌＩｉで変化した。全ての抗ウイルス試験におけるＩ
Ｃ５゜値は、非処置対照と比較した血小板形成単位の５
０％減少をもたらす試験化合物の濃度をｔｔｙ／戚で表
わしたものである。 修飾標準法（すむわち、ウィルスと試験化合物を混合し
、寒天培地に塗布する前にインキュベートした）で、本
発明の活性化合物はポリオウィルス２型に対して約６．
０〜約３７．３、ヒトライノウィルスに対して約８．５
〜約３９．５、コクサラキーウィルスＢ３に対して約２
．４〜５．０のＩＣ５ｅを持っていた。 標準法は測定される濃度の試験化合物を含む寒天培地に
ＨｅＬａ細胞を塗布、次いでウィルス吸収、その後７２
時間インキュヘーションを含む、得られた血小板を着色
し、可視化し、対照と比較した場合血小板減少によって
証明されるようなウィルス成長阻害を測定した。 修飾標準法は、より感度が高いと考えられる。 それは標準法ではＩ　Ｃｓ＊が非常に近い化合物相互間
のウィルス成長中和効果をよりはっきりと区別しうるか
らである。 式ＩおよびＨの範囲内の抗ウィルス化合物のうち、水溶
性酸付加塩を形成するものは、経口的に吸収可能であり
、良好な＆ｇ織地および血清安定性を示す。 本発明の好適な抗ウィルス化合物は次式■：Ｚ’−ｘ’
−Ｑ’−Ｗ’　　　　　　　　ｍおよび薬学的に受容さ
れる酸付加塩であり、上記式中、 口１は、炭素数５．６．または７の低級アルカンジイル
、炭素数６，７または８の低級アルキンジイル、および
メチルシクロヘキシルメチルの全ての可能な異性体であ
り； −１は非置換または置換イミダゾ−１−イル、プリン−
９−イル、またはイミダゾ−２−イル（ここで置換基は
１個以上の低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル、ニ
トロ、低級アルコキシカルボニル、カルボキシメチル、
アミノカルボニルメチルである）であり； ＯＮＯＨ ＸＩは−Ｏ−、−Ｃ−，または−Ｃ−１であり；そして
ｚｌは 好適な酸付加塩は塩酸塩である。 本発明のある種の化合物は炎症の動物モデルで活性を示
すことがわかっている。このように、ラットでの逆受動
アルチュス反応（ｒｅｖｅｒｓｅ、ｐａｓｓｉｖｅＡｒ
ｔｈｕｓ　ｒｅａｃｔｉｏｎ）において、本発明化合物
は２５〜１００■／Ｋｇの投与量で投与したとき、経口
的に活性ソツ、ラットでのアジュバントで誘発された間
接炎テストにおいても経口的に活性であった。 逆受動アルチュス試験は、免疫複合物、細胞性炎症反応
に対する試験化合物の活性を評価する。 試験の実施の際は、あらかじめ２４時時間量させたラッ
トタ試験化合物を投与し、次いで１時間後に軽く摩酔し
、無菌生理食塩水０．１　ｍウシ血清アルブミン（ＢＳ
＾）１．０■を静脈に（ｉ、ｖ、）注射する。その後に
ラットにウシ血清アルブミンに対する抗体タンパク質１
００μｇを含む無菌生理食塩水０．１　ｄを胸膜腔内に
注射する。 チャレンジの４時間後、ラットを殺し、胸膜腔漏出液を
取りその量を測定する０次に胸膜腔を冷たい生理食塩水
３ｒｄで洗浄し、洗浄液を除き、もとの漏出液に加える
。抗凝固剤またはＥＤＴＡで処置後、漏出液を氷で冷却
し、試験漏出液および対照漏出液の用量を食塩水で５．
５−に合わせ、白血球数を２１クールターカウンター（
ＺＩ　Ｃｏｕｌｔｅｒ　Ｃｏｕｎｔｅｒ）で計測する。 対照群と薬物処理群の間の漏出液量（浮腫の程度）と総
白血球数（好中球蓄積の程度）き間の差は薬品の抗炎症
活性の程度である。これらの効果は、好中球数および漏
出液量の阻害または減少率として表わされる。 ラットでのアジュバントで誘発された間接炎試験は慢性
炎症の免疫伝達モデルに対する薬品の効果を評価する。 試験の実施の際は、体重１００ｇあたりｌ−の薬品を経
口的に動物（ラット）に投与する。薬品濃度は異なる試
験投与量に応じて変化されるアジュバントはパラフィン
油中で均一化された加熱死菌混合ヒト結核菌（Ｍ、　ｔ
ａｂｅｒｃｕｌｏｓｉｓ）である。対照にはメチルセル
ロース　ビヒクルのみを与える。 アジュバントを左後足の足底皮下部に注射し、その直後
に、左右後足の体積をプレチスモグラフ（体積変動記録
器）で測定する。注射された後足は、Ｚ４時間および次
いで２１日後に測定される０反対側の後足体積は２１日
後にのみ測定される。最初と最後の後足体積間の差は炎
症の程度に関連がある。抗炎症性薬品はこれらの差を小
さくする。 抗炎症活性を示す本発明の化合物は、式ＩのＷ位にイミ
ダゾール−１−イルまたは低級アルキルで置換さたイミ
ダゾール−１−イルを持つ化合物である。 本発明の好適な抗炎症化合物は下記の化合物■：および
その薬学的に受容される酸付加塩であり、上記式中、 Ｒ＋＝ＲｚおよびＲ１はそれぞれ独立に水素、ヒドロキ
シ低級アルキルまたは低級アルキルであるが、ただし、
Ｒ８およびＲ３のうち１個が低級アルギルである場合に
は、一方は水素である。 本発明のある種の化合物は血小板活性化因子（ＰＡＰ）
拮抗作用を示すことがわかっている。ＰＡＦはいろいろ
なアレルギー性および炎症疾患の病態生理学において含
まれることが明らかにされている。血小板凝集、なめら
かな筋肉の収縮、特に肺組礒、血管透過性および好中球
活性化などの過程の重要な伝達物質である。更に、最近
の知見ではＰＡＦは気道高反応にも含まれる潜在的因子
としても関係している０以上のように、ＰＡＦはぜん息
（気管支収縮および血管浮腫）および炎症のような疾患
に関係がある。 ＰＡＦの拮抗物質または阻害物質（例えば本発明の化合
＃）は、従って、ＦＡＩ’が病気または障害の因子であ
るような場合に使用されるであろう。これ番よ、アレル
ギー疾患（例えばぜん息、成人呼吸困難およびじんま疹
）および炎症疾患（例えばリウマチ性関接炎および変形
性間接症）を含む。 モルモットのｉｎ　ｖｉｖｏ　ＰＡＦ誘発気管支Ｂ５Ｒ
（ＰＡＦＩｎｄｕｃｅｄ　Ｂｒｏｎｃｈｉｏｓρａｍ）
において、本発明の化合物はＩＣ５＠約３〜６０ｍｇ／
Ｋｇを示す。ｉｎ　ｖｉｔｒｏ　ＰＡＦ拮抗物質検定（
ＰＡＦ　Ａｎｔａｇｏｎｉｓｍ　Ａｓ５ａｙ）では、本
発明の化合物は、種々の濃度で約２０〜１００ＸのＰＡ
Ｆ活性阻害を示す。 モルモットのＰＡＦ誘発気管支痙彎は以下のように行わ
れる： 非感作モルモットを一晩絶食させ、シアルウレタン（ｄ
ｉａｌｕｒｅｔｈａｎｅ；ジアリルバルビッール酸０．
１ｇ／ＩＲＩｌ、エチル尿素０．４ｇ／ｄおよびメタン
０．４ｇ／Ｈ１）０．９ｍ／にｇを腹腔内に（ｉ、ｐ、
）投与し麻酔した。気管にカニユーレを挿入し、ハーノ
々−ド蕩歯動物人工呼吸器によって一拍容量４ｄ、５５
拍／分でモルモットに空気を送った。気管カニユーレの
分岐は気管内圧の連続測定（バーバードポリグラフで測
定）を確保するためにバーバード圧力変換器（Ｈａｒｖ
ａｒｄ　ｐｒｅｓｓｕｒｅ　ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ）に
接続した。化合物を投与するために頚静脈にカニユーレ
を挿入した。動物にＰＡＦ　（０，２５χＢＳ八を含む
等張食塩水中０．４　μｇ／Ｋｇ）を静脈内に投与する
ことによりチャレンジし、チャレンジ後５分以内でおこ
った膨張圧のピーク上昇を記録した。化合物は経口的（
ＰＡＦより２時間前に０．４χメチルセルロース　ビヒ
クル中に懸濁液として）または静脈内（ＰＡＦの１０分
前にＩＩＭＳＯ中溶液として）のいずれかで投与した。 気管支厘彎に対する化合物の効果は、対照群のピーク上
昇に比較した気管内圧のピーク上昇の阻止率で表わされ
る。ＩＣ５゜は５０％阻害を得るのに必要な投与Ｉｆ（
■／ｋｇ）である。 ｉｎ　ｖｉｔｒｏ　ＰＡＰ拮抗物質検定は以下のように
行われる： 血小板−活性化因子（ＰＡＰ）は受容体伝達機構内で血
小板の凝集をひきおこす。従って、ＰＡＰで誘発された
血小板凝集はＰＡＰ拮抗拮抗物質化合物を選抜するのに
簡単で便利な検定である。 ハ　　　ゝ　　　　Ｉａｔｅｌｅｔ−ｒｉｃｈ　　Ｉａ
ｓｓ＋ａ１ＰＲＰヒト血液（５Ｍ）を健常男性提供者か
らクエン酸ナトリウム（３，８χ）およびデキストロー
ス２％を含む抗凝固溶液（５ｍ）中に採集する。血液を
１１０ｘｇで１５分間遠心分離し、上滑（ＰＲＰ）を注
意深くポリエチレンチューブに移す、血小板欠乏血漿（
ｐｌａｔｅｌｅＬ−ｐｏｏｒ−ｐｌａｓｍａ；ＰＰＰ）
はＰＲＰを１２．０００ｘｇで２分間遠心分離すること
により調整される。　ＰＲＰは血ｉｆｌ採取後３時間以
内に使用される。 ■土板亙集検定 ＰＡＦのような凝集剤がＰＲＰに加えられると、血小板
は凝集する。血小板凝集計はＰＰＰとＰＲＰを通過する
光（赤外）の透過度を測定し比較するごときによってこ
の凝集を定量する０本発明の化合物について行われる凝
集検定は、二チャンネル血小板凝Ｌｉ＋（モデル４４０
．ペンシルバニア州ハーバータウン、クロノ−ログ　コ
ーポレーション；Ｃｈｒｏｎｏ−Ｌｏｇ　Ｃｏｒｐ、）
を用いて行われる。血小板凝集計キューレット内でＰＲ
Ｐ（０，４５ｍ）は絶え間なく撹拌される（３７°Ｃ）
、試験化合物またはビヒクル溶液をＰＲＰに加え、そし
て２分間インキュベーションした後、ｐＡｐ　を容量の
アリコート１０〜１５μｌを最終濃度１〜５ＸＩＯ−”
Ｍになるように加える。光透過度が最大になるまでイン
キュベーションを続ける（通常２分）、阻害値は試験化
合物の有無で得られる最大凝集を比較することによって
計算され、阻害率として表わされる。各実験では、アル
ブラシラム（ａｌｐｌａｚｏｌａｍ）のような標準ＰＡ
Ｐ拮抗物質が陽性内部対照として使用される。 本発明の好適なＰＡＰ拮抗化合物は次式■：Ｚ”−Ｘ”
−Ｑ”−Ｙ”−Ｗ”　　　　　　　Ｖおよびその薬学的
に受容される酸付加塩または第四アミン塩であり、上記
式中、 Ｚ２はフェニル、置換フェニル（ここで置換基は独立に
１個以上のハロゲン、低級アルキルチオ。 低級アルキルスルホニル、低級アルコキシ、オキサゾー
ル−２−イル、フェノキシである）、イミダゾール−１
−イル、低級アルキル置換されたイミダゾール−１−イ
ルまたはｔｅｒｔ−ブチルであり；ＮＯＨＮ０ＣＩＩｓ
　　　　　Ｏ ＩＩ　　　ＩＩ　　　　　　　Ｉ＋ ×２は単結合−ｏ−，−ｃ−、−ｃ−、−ｓ−、−ｃ−
または−３Ｏ□−であり； Ｑｔは炭素原子５．６または７個の低級アルカンジイル
（任意に一０■で置換される）、炭素原子６〜８個の低
級アルキンジイル、またはメチルシクロヘキシルメチル
であり； Ｙ２は単結合、−３−または一５Ｏ１−であり；そして
「はイミダゾール−１−イル、置換イミダゾール−１−
イル（ここで置換基は独立に１個以上の低級アルキル、
ヒドロキシ低級アルキル、アミノ低級アルキルまたは低
級アルコキシカルボニルである）、イミダゾール−２−
イル、イミダゾール−４−イル、イミダゾール−５−イ
ル、置換イミダゾール−２−イル、〜４−イルまたは−
５−イル（ここで置換基は独立に１個以上の低級アルキ
ルまたはアリルオキシカルボニルメチルである）、ピロ
リジン−１−イル、ベンズイミダゾール−１−イル、ｌ
、４−ジヒドロ−４−オキソ−７−メチル−１，８−３
−カルボキシ−ナフチリジン−１−イル。 プリン−９−イル、ピリジン−２−イル、ピラゾール−
１−イル、またはベンズイミダゾール−２−イルである
。 ＰＡＰ活性を持つ最適な化合物は次式■：２コーＸ’−
Ｑ”−Ｗ”　　　　　　　Ｖｌおよびその薬学的に受容
される酸付加塩または４級塩であり、上記式中、 Ｚ３は Ｑ３は炭素原子５，６または７の低級アルカンジイルで
あり、任意に−０１１で置換される；−３は であり：そして Ｒ４は水素、低級アルキルまたはヒドロキシ低級アルキ
ルであり； Ｒ５は低級アルキルであり； ＲｈおよびＲ７は独立に１個以上の水素、低級アルキル
、アミノ低級アルキルまたはニトロである。 本発明の化合物は、経口または非経口、局所および経皮
使用用に慣用的方法で処方され、経口が適当である。 本発明は混合物中に本発明化合物と薬学的に受容される
担体からなる薬学的組成物をその範囲内に包含する。更
に本発明はウィルス感染または炎症の治療、または血小
板活性化因子の阻害に有用な薬学的組成物調製用に式Ｉ
およびＩＩの化合物の使用も包含する。前述の組成物に
おいて、本発明の活性化合物は唯一の活性抗ウィルス剤
、唯一の活性抗炎症剤または唯一のＰＡＦ拮抗物質とし
て中独で、あるいは他の治療剤と組み合わせて用いうる
。 好適な経口投与としては、本発明の化合物は一般に錠剤
、カプセル剤、エリキシル剤、溶液剤、懸濁剤の型に、
特に好ましくは溶液剤で処方される。非経口投与として
は、溶液剤または懸濁剤に処方される０例えばローショ
ン剤、クリーム剤、軟膏、スプレー剤および機械的デリ
バリ−装置（例えば経皮的）などの一般的剤形も本発明
化合物で製造しうる。 上述の剤形に使用する一般的に薬学的に受容される担体
は以下に例示される： ｖＮｌ（例えばラクトース）、澱粉（例えばとうもろこ
し澱粉）、セルロースおよび誘導体（例えばカルボキシ
メチルセルロースナトリウム、エチルセルロースおよび
メチルセルロース）および当分野において周知の他の担
体。 組成物は保存剤、エアゾール噴射剤および着色剤、増粘
剤、懸濁化剤、分散剤、乳化剤、湿潤剤・安定化剤およ
び緩衝剤も含みうる。 投与される本発明化合物の投与量は、種々の因子（例え
ば治療される個人の年齢および体重、投与方法、投与さ
れる化合物の薬理的活力、医薬品投与のための指標およ
び治療される病気の程度）に基づき、主治医の判断によ
る。 −ｉには、ウィルス感染治療のための１日あたりの投与
量は、１回または分割用量で約１■／ｋｇ〜約７５■／
ｋｇの経口投与であろう、そして約１〜２５■／ｋｇが
好適である。炎症治療の投与量は、分割投与で毎日約２
５ｍｇ〜２ｇであり、好ましい範囲は約２５〜約１００
■である。 ＰＡＦ拮抗を達成するためには、約２．５１Ｉｇ／Ｉｃ
ｇ〜約５０■／ｋｇの単回または分割投与量で毎日の経
口投与が用いられうる。そして好ましいのは約２．５Ｍ
／ｋｇ〜約２５■／ｋｇである。静脈投与は約０．５■
／ｋｇ〜約１０■／ｋｇ、好ましくは約０．５〜約５１
１ｇ／ｋｇでありうる。 本発明の化合物は次の方法で製造される＝（Ａ）式Ｉの
化合物を製造するために、次式の化合物： Ｚ−Ｘ−Ｑ’　−Ｌ’ 〔式中、ＺおよびＸは先に定義した通りであり；Ｑ′は
先に定義したＱと同じであるか、または式Ｉで規定され
たＱは少なくとも１個の−ＣＨ−基 （ここで各Ｒは独立に水素または低級アルキルである）
を含む場合にはＱ′は少なくとも１個の−ＣＩ−基を含
まない上で定義されたＱと同じであってよく；そして Ｌｌは離脱基である〕を、次式で表わされる化合物： Ｌ”−Ｙ’　−Ｗ’ 〔式中、Ｌｌは離脱基であり； Ｗ＃は式ＩでＷとして定義された通りであるか、または
その互変異異性体であり；そしてＹ′は式Ｉで定義され
たＹと同じであるか、または、式■で規定されたＱが少
なくとも１個の−ＣＨ−基（ここで各Ｒは独立に水素ま
たは低級アルキルである）を含む場合には、Ｙ′はまた
少なくとも１個の−Ｃ１１−を含む式１で定義されたＹ
と同じであってよい］と反応させ、または（Ｂ）式ＩＩ
の化合物および可能な場合には式Ｉの化合物を製造する
ために、少なくとも１種の次式： ％式％ （式中、Ｚ、Ｘ、Ｑ’およびＬｌは先に定義した通りで
ある）を次式の化合物： ＬコーＹ’　　−Ｗ”　　−Ｙ’　　−Ｌ’（式中、し
３およびＬ４は離脱基であり；各Ｙ′は独立に上記定義
の　りであり；そして Ｗ″′は上記定義の通り二価Ｗ′である）と反応させ、
または、 （Ｃ）式Ｉの化合物（式中、ＺとＷは同じ、そしてＸと
Ｙは同じである）を製造するために、次式： ％式％ （式中、Ｙ′およびＷ＃は先に定義した通りであり；そ
して しｔは離脱基である）を、次式の化合物：ＬＳ　　Ｑ’
　　Ｌ６ （式中、し５およびＬ″は離脱基であり；そしてＱ＃は
上記定義の通り二価のＱ′である）と反応させる。 上記の方法において、どの反応基も所望によりまたは必
要に応じ保護される。 上記方法は、必要によりまたは所望により（ｉ）　　保
護基の除去、 （ｉｉ）　　製造された化合物の式■または式ＩＩの他
の化合物への変換、 （ｉｉｉ）　　１種より多い式ＩまたはＩＩの化合物が
製造された場合には、製造された化合物の分離、または （ｉｖ）　　製造された化合物のどれかの酸付加塩、塩
基付加塩、第四アミン塩またはその薬学的に受容される
溶媒和物−１転換、 を行う。 工程（Ａ）において、Ｌｌは好ましくは臭素であり、最
も好ましくはヨウ素であり、そしてＬｚは好ましくは、
例えばナトリウム、カリウムまたはセシウムのようなア
ルカリ金属である０反応は不活性打機溶媒〔例えばジメ
チルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）またはテトラヒドロフラン（Ｔ）ＩＦ）　）
巾約−２０°Ｃ〜６０°Ｃの温度で行なわるれる。多く
の場合、最終化合物は慣用反応（例えば塩酸またはメチ
ルスルホン酸のような４級化試薬との反応）によって水
溶性酸付加塩または４級塩に転化しうる。 出発化合物２−χ−Ｑ’−Ｌ’（式中ＬＩはハロゲン（
Ｈａｌ）である〕は次の反応によって製造される。 ＺＸＨ＋Ｈａｌ　−Ｑ’　　−Ｍａｌ　−→Ｚ−Ｘ−Ｑ
−Ｈａｌ酸掃去剤 （ここでＺ、ｘおよびＱ′は上８己定義の通りである）
反応は、ＫｚＣＯ３のような酸掃去剤またはコリジンお
よびハニグス（Ｈｕｎｉｇｓ）塩基のような有機塩基の
存在下で行なわれる。臭素も使用しうるけれども好まし
いＨａｌ基はヨウ素である。化合物Ｈａｌ−Ｑ’−Ｈａ
ｌ　（ここで１（ａｌ　はヨウ素である）はＱが−ＣＩ
＋！−または−ＣＩＺ−ＣＨ２−である場合を除いてＢ
ｒ−〇’　−Ｏｒとヨウ化ナトリウムを反応させること
によって製造されうる。 あるいはＺＸＱ’−ｒはＺＸ）ＩをＢｒ−Ｑ’−Ｂｒと
反応させＺＸΩ’　Ｂｒを生成し、ＺＸＱ’　Ｂｒをヨ
ウ化ナトリウムと反応させることによって製造されうる
。あるいはＱ′が−ｃＨｚ−または−Ｃ２Ｈ４−である
化合物の場合には、Ｚ−Ｘ−Ｑ’　−１は対応する七ノ
一または二価アルコールを旧と反応させることによって
製造されうる。 Ｗが窒素を含む複素環部分である場合には、窒素原子が
保護されなければ、上記の方法はＷ部分において複素環
の窒素原子の所で置換さているという結果になる。複素
環が環炭素の所で置換されている化合物を製造するため
には、ｃ−２換が丘なわれた後に除去されそしてＣ−置
換反応の間は除去されない基〔例えばトリチル基（トリ
フェニルメチル基）〕で窒素を保護することが必要であ
る。 従って、例えば、Ｚ−置換イミダゾールの製造において
は、次の反応計画が考えられる：（式中口、Ｑ’　、Ｚ
およびＸは上記定義の通りである）この例の場合、イミ
ダゾ環のメチル基は、製造された化合物でＱの部分にな
る。 工程（Ｂ）において、式ＩＩの化合物を製造するには、
−′部分は初めはトリメチルシリルオキシ基で置換され
た２個の環炭素を持つべきである。 Ｚ−Ｘ−１１１’−１との反応が行われる場合、得られ
る生成物は、次の反応（トリメチルシリルオキシ置換化
合物はピリミジンとして例示されている）で示されてい
るようにジ置換−′部分である。 反応は室温で行われる。 工程（Ｂ）において、過剰の化合物Ｚ−Ｘ−Ω＋−Ｌｌ
が用いられると、生成物は主として式ＩＩの化合物にな
るだろう、しかし、少量の化合物Ｚ−χ−Ｑ’　−Ｌ’
しか用いられなければ式■および■の生成物が製造され
るだろう０反応条件は工程（Ａ）の場合と同じである。 少なくとも１個のＺ、ＸまたはＱが他のＺ、χまたはＱ
と全く同一ではない式ＩＩの化合物を製造するには、一
般式２−χ−Ｑ’−Ｌ’を持つ２種の異なる化合物が用
いられる。生成物は化合物の混合物であり、それは標準
的方法によって単離される。 工程（Ｃ）（この方法では、ＺとＷが同一でありＸとＹ
が同一である式Ｉの化合物を製造する）は、工程（Ａ）
と同じ反応条件下で行なわれる。 Ｑが不飽和鎖（すなわち、アルキンジイルまたはアルケ
ンジイル）である化合物の製造は次の反応で例示される
： ２、ＮａＷ ■ （上記式中Ｒ８は炭素数２〜４個の低級アルキルであり
、Ｒ′は炭素数３の低級アルキニルであり、Ｙは単結合
、Ｐ「はヒドロキシ保護基であり、そしてｈａｌ　は臭
素またはヨウ素である。）アルケンジイルは接触水素添
加によってアルキンジイル化合物を部分的に還元するこ
とによって製造される。 Ｑが鎖中にシクロアルカンを持つアルキルである化合物
の製造は、次の反応によって例示される：（上記式中ｈ
ａｌ　は臭素またはヨウ素であり、Ｚ。 Ｘ、ＹおよびＷは弐

【で定義した通りである。）弐■ま
たは■の化合物は、当分野で周知の標準方法によって、
それぞれ式Ｉまたは■の異なる化合物に転化することが
できる。このような転化方法は実施例で示される。 本発明の化合物の一般的製造方法には、本明細書の以下
の部分に示す多数の実施例によって例示されるような相
対的に簡単な方法を包含する。 次の表１は上記の方法によって製造された式Ｉの化合物
を示す。 表　　１ ！！　王　　ＸＱ　　　工　ｗｔｌ ｊご西　互　五　　且　工　　ｗ４ ！５又　工　“ユ　エ　１１ １６．　　　　＃　　　　Ｊ−（Ｇ（２）、−＃　　　
ｔ！　又　　入　　且　工　　！　１ 実施例　　ＺＸＱＹＷ　　　　塩 ９！！！ｉ　又−ＸＱ　　　エ　　エ　皇ｊ１．　　　
　＃　　　　Ｉ　　　　＃　　　結合　丈−ＨＣ，１ａ
（３ と　又　又　３　工　ｙ　１ ３２．　．１　　　＃　−倶、３−　、１）。 ！　五　盈　旦　エ　ヱ　１ ４０、　）Ｉ３０−０−　結合−Ｃ！ＩＣ−（ＣＨ２）
６７１　　　＃　　　　’Ｈ３ ｙ暁　又　人　３　工　ｙ　　１ 一〆＼ ４７、　　　　ｚ　　　Ｉ−（（ＥＦｌｚ）３弔弓イー
−Ｕ　　邪Ｉ３晒　ｌ　工　又　ヱ　ヱ　　エ Ｈ ５３，１÷　　　１ 実施例　　ＺＸＱ　　　　　ｙｗ　　　壇５６．　　　
　’　　　Ｍ合−ＣＧ（２）、−１ＯＨ ５８、＃−Ｑ−＃ ｃＨ ５９、＃　　　　−Ｃ−＃　　　　　　　　　　　　＃
　　　　−実施例　　Ｚ　　　　工　　　Ｒ工　　　ｗ
４庫上 ６２、　　　　　　　　　　−シ Ｈ ６３、ベシ 実施例　　ＺＸＱＹＷ　　　塩 ｃＨ ６８、志　　１　　＃　　＃　　− ６９、結合　−Ｃｋ＋−ｃＨ＜（ｌｌ、）４−　　ＩＩ
Ｋｔｔ実施例　　　ＺＸＱＹＷ　　　塩 印例　　」Ｌ　　　ジ（叉　　　ｙｗ４７９、　　　’
　　　−５Ｏ２−ｚ 次の表■は式■の化合物の成分を示す。 戸 ｘｉ　　＋ −１イ 々 α１　ご 次の２表■は実施例中の出発物質を適当な出発物質に代
え、実施例と同様に操作することによって製造すること
ができる追加の化合物である。 表ｍ Ｚ　　ＸＱ　　ＹＷ塩 ＺＸＱＹＷ塩 ＺＸＱ　　　　工　１１ 本発明の化合物の製造に使用する出発物質は商業的に入
手可能である。当分野において知られている慣用手段に
よって製造されうる。 以下の実施例は本発明を例示するものである。 高速原子衝突（ｆａｓｔ　ａｔｏｍ　ｂｏ＋ｗｂａｒｄ
ｍｅｎｔ；ＦＡＢ）質量スペクトルＣｍａｓｓ　ｓｐｅ
ｃｔｒａＨＭｓ）はフイニガン（Ｆ　ｉｎｎ　ｉｇａｎ
）ＭＡＴ３１２二重焦点質量分析器を加速電圧３にνで
操作して行った。エネルギー６　ＫｅＶで管電流２清＾
で操作し、イオン　チック（Ｊｏｎ　Ｔｅｃｈ）からの
サドルフィールドイオン源（ｓａｄｄｌｅ　ｆｉｅｌｄ
　ｉｏ口５ｏｕｒｃｅ）よって生成されたキセノン原子
との衝突によってＭＳ試料をイオン化した。陽子核磁気
共鳴（Ｈ’−ＮＭＲ）スペクトルはパリアン（Ｖａｒｉ
ａｎ）ＸＬ−２００スペクトロメーターを用い２００Ｍ
Ｈｚで記録した。全ての化学シフトδ値はテトラメチル
シランから低磁場方向へのｐｐ−で表示される。 裏庭Ｍ上 １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシルコイミダゾール ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１．５ｄ中６−　（２
−クロロ−４−メトキシフェノキシ）へキシル−１−プ
ロミド２００■を反応容器中のイミダゾールナトリウム
１８０■に室温で加え、Ｚ時間攪拌し、その後ヨウ化ナ
トリウム２０■を加え、−晩攪拌する。 塩化メチレンを加え、水次いでブラインで洗い、粗シリ
カカラムを用い塩化メチレン次いで５０％酢酸エチルお
よび塩化メチレンの混合物で溶離し、標題化合物を単離
した。 裏庭ＩＬ ２−　（（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ
）へキシルコチオｌ　−４，５−ジヒドロチアゾール−
４−オン （ａ）　アセトン１０−中ヨウ化ナトリウム約５００　
ｍｇを６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）−
へキシル−１−プロミド３５０■で５〜１０分間還流し
、反応混合物中を窒素を泡立てることによってアセトン
を除去し、塩化メチレンを加え、水次いでプラインで洗
浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、６−（２−クロロ−４
−メトキシフェノキシ）へキシル−１−ヨーシトを得た
。 （ｂ）アセトニトリル１０ｍ１中６−（２−クロロ−４
−メトキシフェノキシ）へキシル−１−ヨーシト３ｇを
ローダニン１．２ｇおよび炭酸セシウム２０ｇに加えた
。−晩撹拌し、次いでアセトニトリルを除去し、塩化メ
チレンを加え、水火にブラインで洗い、硫酸ナトリウム
で乾燥した。粗シリカカラムを用い塩化メチレン、次に
５％酢酸エチル／塩化メチレンそして最後に１０％酢酸
エチル／塩化メチレンで溶離し、標題化合物を単離製造
した。 遍１汁１ ５−　（（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ
）ヘキシルコチオ１−１−メチルテトラゾール ６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）へキシル
−１−プロミド３５０■をアセトン１０−とヨウ化ナト
リウム約５００１にで５〜１０分間還流し、反応混合中
窒素を泡立ててアセトンを除去し、塩化メチレンを加え
、水、次いでブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥
し、６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘキ
シル−１−ヨーシトを得た。５−メルカプト−１−メチ
ルテトラゾール１３３■、炭酸セシウム２６８■および
アセトニトリル３ｍをヨーシト生成物に加え、−晩撹拌
し、塩化メチレンを加え、水、炭酸ナトリウム、水、次
いでブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を除去し、標題化合物を結晶として回収した。 １隻拠工 ２−　（（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ
）へキシルコチオ）−３−ビリジノール実施例２または
３で製造したヨーシト３００■、アセトニトリル３ｍ、
Ｚ−メルカプト−３−ビリジノール１１２■炭酸セシウ
ム２０１■を反応容器中で一晩、室温で撹拌した。アセ
トニトリルを除去し、塩化メチレンを加えた。炭酸ナト
リウム溶液、水、次にブラインで洗浄し、そして硫酸ナ
トリウムで乾燥した。溶媒を除去し、次いで塩化メチレ
ンを加え、混合物を加熱し、溶解し、ヘキサンを加えそ
して冷却し、標題化合物を白色結晶として沈澱させた。 １去Ｌ１色 １−および２−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフ
ェノキシ）へキシルコテトラゾール実施例２および３で
製造したヨーシト３００■、アセトニトリル３Ｉ１１．
１−Ｈ−テトラゾール６３■および炭酸セシウム２７４
■を反応容器中で一晩、室温で撹拌した。更に１−Ｈ−
テトラゾール１８９■とよび炭酸セシウム１００■を加
え、室温で１週間攪拌し続ける。水と塩化メチレンとに
反応混合物を分配した。粗シリカカラムを用い、塩化メ
チレン次いで酢酸エチル／塩化メチレンで溶出した。 標題化合物の２つの両分、より極性の弱い両分となり極
性な両分を単離した。画分のうちの１つは１−置換テト
ラゾールであり、他の両分は２−置換テトラゾールであ
る。 裏庭拠工 １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル）　−１，２，４−）リアゾール実施例２また
は３で製造したヨーシト３００■、アセトニトリル３ｄ
、　１，２．４−トリアゾール２２５　ｍｇおよび炭酸
セシウム２７４■を反応器内で一晩、室温で撹拌した。 水と塩化メチレンとに反応混合物を分配し、そしてシリ
カカラムを用い塩化メチレンおよび酢酸エチルで溶出し
、標題化合物を回収した。 皇族■ユ １または２−（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノ
キシ）ヘキシルゴー５−アミノ−テトラゾールおよび ５−　（（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ
）ヘキシル）−アミノ）テトラゾール実施例２または３
で製造したヨーシト３００■、ジメチルホルムアミド（
Ｄ？ｌＦ）　　２ｄ、５−アミノテトラゾール４２１　
ａ＠および炭酸セシウム２７４■を一晩、室温で攪拌し
た。５０％酢酸エチル／ヘキサンを用いた薄層クロマト
グラフィー（ＴＬＣ）で生成物を試験した。試験は、他
方より一方の方が極性である２つの別々の化合物が製造
されていることを示した。極性のより小さい標題化合物
と極性のより大きい標題化合物を、塩化メチレン次に５
％酢酸エチル／塩化メチレン、その次に１０％酢酸エチ
ル／塩化メチレンで溶出して粗シリカカラムで分離した
。より極性の大きい化合物は非常に結晶質であった。よ
り極性の小さい化合物は１または２置換テトラゾールで
あり、より極性の大きい化合物は環外窒素置換テトラゾ
ールである標題化合物であった。 １新１ＪＬＬ １．３−ジー（６７（２−クロロ−４−メトキシフェノ
キシ）ヘキシル）　−１，２，３，４−テトラヒドロピ
リミジン−２，４−ジオ、ン 実施例２または３で製造したヨーシト３００■、２．４
−ジ−トリメチルシリルオキシピリミジン１．８３ｇ、
無水ＤＭＦおよびフッ化セシウム１．２４　ｇを反応容
器中で一晩、室温で撹拌した。水と塩化メチレンとに分
配し、粗シリカゲルカラムで塩化メチレン次いで１０％
酢酸エチル／塩化メチレンその次に２０％酢酸エチル／
塩化メチレンで溶出し、標題化を単離した。 裏庭開工 １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル）−Ｌ２，３．４−テトラヒドロピリミジン−
２，４−ジオン 実施例２または３で製造したヨーシト３００　ｍｇ、ア
セトニトリルｌｌ１１、炭酸セシウム２７４■、ＺＮベ
ンゾイルウラシル２７０　ｆｆ１ｇ、　ＤＭＦ　１〆（
溶解性上昇用）および更に炭酸セシウム１００■を反応
容器中で一晩、室温で攪拌した。塩化メチレンと水とで
分配し、そしてメタノール性炭酸カリウムを加えた後、
再び１晩室温で攪拌した。塩化メチレンと水とで分配し
た。粗シリカカラムを用い塩化メチレン続いて１０％、
Ｚ０％、３０％および４０％酢酸エチル／塩化メチレン
で溶出し、放置すると結晶化する油状物として標題化合
物を得た。 実崖±且 １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル〕−４−および５−ヒドロキシメチルイミダゾ
ール 実施例２または３で製造したヨーシト２００１ｇをＤＭ
Ｆ　２０ｄに加え、次にＮａＯＨ５００ｍｇそして最後
に４−ヒドロキシメチルイミダゾール２００　ｍｇを反
応容器に加え、室温で約２４時間攪拌した。 塩化メチレンを加え水、次いでブラインで洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥した。粗シリカカラムを用い塩化メチ
レン、次に５％メタノール／塩化メチレン、その次に１
０％メタノール／塩化メチレンで溶出し、標題化合物の
混合物を単離した。異性体を酢酸エチルを用いるＴＬＣ
、そして最終的には５０％酢酸エチル／ＴＨＦを用いる
粗シリカカラムで分離し、両分５〜８に極性の小さい異
性体および画分１１〜１８に極性の大きい異性体として
標題化合物を製造した。０．ＩＮ塩酸との反応によって
塩酸塩を製造した。 １隻斑Ｕ １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル〕−２−メチルイミダゾール実施例２または３
で製造したヨーシト２００■、２−メチルイミダゾール
１３４１１１ｇ、　ＤＭＦ　３ｄおよび水酸化ナトリウ
ム６９■を反応容器中で室温で約５時間撹拌した。塩化
メチレンで処理し、水次いでブラインで洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥して、放置すると結晶化する油状物とし
て標題化合物を回収した。　０．ＩＮ塩酸と反応させ塩
酸塩を製造した。 実施斑■ １〜（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
キシルツー４−ニトロイミダゾール実施例２または３で
製造したヨーシト２００　ｍｇ、ＤＭＦ３ｄ、４−ニト
ロイミダゾール１８４　ｔａｇおよび水酸化ナトリウム
６９■を反応容器中で一晩室温で撹拌した。塩化メチレ
ンと水とで分配した。粗シリカカラムを用い塩化メチレ
ン次いで酢酸エチレンで溶出し、標題化合物を得た。 実胤炎貝 ２−　（７−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
へブチルコピリジン 窒素ガス雰囲気下、Ｚ−ピコリン１５２■およびテトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）１．５ｍを加え、−２８°Ｃに
冷却した。ｎ−ブチルリチウム１０４■を加え、−７８
°Ｃで約３０分間攪拌した。実施例２および３で製造し
たヨーシト２０■をＴＨＦｌｄ中に加えた。 −７８°Ｃで１時間撹拌し、室温まで暖め、約１５時間
攪拌した。水と塩化メチレンとで分配し、その復水およ
びブラインで洗浄し、次に硫酸ナトリウムで乾燥した。 粗シリカカラムを用い塩化メチレン次いで５０％酢酸エ
チル／塩化メチレンで溶出し、標題化合物を得た。標題
化合物と０．ＩＮ　ＨＣＩとの反応によって塩酸塩を製
造した。 実施ｆｉＬ４ ！−（６−（４，５−ジヒドロ−２−オキサシリル）フ
ェノキシ〕ヘキシル）イミダゾール （ａ）反応容器中に、４−　（４，５−ジヒドロ−２−
オキサシリル）フェノールｌｏｇ、　１．６−ジプロモ
ヘキサン２４．４　ｇ　、ヨウ化ナトリウムｌｏｇ、炭
酸カリウム３５ｇおよびアセトニトリル２５０　ｄを加
えることによって、６−　（４−（４，５−ジヒドロ−
２−オキサシリル）−フェノキシ〕−へキシル−１−ヨ
ーシトを製造した。窒素でパージし、Ｚ４時間還流し、
冷却し、製造された固体をろ取した。アセトニトリルを
除去し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチルを除去し油
状物／固体を製造した。シリカを用い塩化メチレンで精
製し、生成物を回収した。 （ｂ）　（ａ）で得た製造物２００■、イミダゾールナ
トリウム３００■およびジメチルホルムアミド（ＤＭＦ
）１０ｍをフラスコに加え、４８時間攪拌した。反応混
合物を水／塩化メチレンに分配した。シリカカラムを用
い１００％酢酸エチルその後で１０％メタノール／塩化
メチレンで溶出し、標題化合物を製造した。 ０、ＩＮ塩酸６１ｄを加えて塩酸塩を製造した。 ＭＳ＝ｍ／ｚ　３１４　（Ｍ”　） 裏施班■ １−　（７−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
へブチル］イミダゾール （ａ）反応容器中に２−クロロ−４−メトキシフェノー
ル３　ｇ、　１．７−ジブロモへブタン９．８ｇおよび
炭酸カリウム５．２ｇをアセトン７５ｍに加え、７−（
２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）へブチル−１〜
ヨーシトを製造した。窒素でパージし、４８時間還流し
、冷却した。塩化メチレンを加え水、次にブラインで洗
浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。ＩＡシリカカラムを
用いヘキサン、１０％、１５％および２０％塩化メチレ
ン／ヘキサンで溶出した。 生成物を単離し、アセトン５０Ｉ１１、ヨウ化ナトリウ
ム８．５ｇを加えそして、加熱して１０−１５分間還流
した。アセトンを除去し、塩化メチレンを加え、水次い
でブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒
を除去し、生成物を回収した。 （ｂ）　（ａ）工程の製造物２ｇ、イミダゾール１．４
ｇおよびＤＭＦを反応容器中に加え、Ｚ４時間攪拌した
。 塩化メチレンと水とで分配し、高真空下で溶媒を除去し
、標題化合物を回収した。　０．ＩＮ塩酸と反応させる
ことによって標題化合物を塩酸塩に転化した。 実施斑■ １−　（５−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ペンチルコイミダゾール （ａ）反応容器中で２−クロロ−４−メトキシフェノー
ル３ｇ、１．５−ジブロモペンタン８゜７ｇおよび炭酸
カリウム５．２ｇをアセトン７５ｄに混合することによ
って５−〔２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）−ペ
ンチル−１−ヨーシトを製造した。 窒素をパージし、４８時間還流した。塩化メチレンを加
え、水、次いでブラインで洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥
した。粗シリカカラムを用い、ヘキサン、１０％、１５
％および２０％塩化メチレン／ヘキサンで溶出した。生
成物を単離し、アセトン５０ｄ、ヨウ化ナトリウム８．
５ｇを加え、加熱して１０〜１５分間還流した。アセト
ンを除去し、塩化メチレンを加え、水、次いでブライン
で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を除去し、
生成物を回収した。 （ｂ）反応容器中、（ａ）工程の生成物３５０■をＤＭ
Ｆ（ジメチルホルムアミド）２ｍおよびイミダゾールナ
トリウム３００■に加えた。約２４時間攪拌した。 塩化メチレン、水およびブラインで洗浄して標題化合物
を回収した。硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を除去し、
化合物結晶を得た。 標題化合物２７５■を０．ＩＮ塩酸１０．２ａｆと反応
させて塩酸塩を製造した。 ｌ施ｆｆｉ １−（１０−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
デシルコイミダゾール （ａ）反応容器中で２−クロロ−４−メトキシフェノー
ル３　ｇ、　１．１０−ジブロモデカン１１．３ｇ、ア
セトン７５−および炭酸カリウム５．２ｇを加えて、１
Ｏ−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）デシル−
１−ヨーシトを製造した。４８時間還流し、冷却しアセ
トンを除去した。塩化メチレンを加え、水、次いでブラ
インで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。粗シリカカ
ラムを用いヘキサン次いで１５％および２０％塩化メチ
レン／ヘキサンで溶出し、生成物を得た。１Ｏ−（２−
クロロ−４−メトキシフェノキシ）デシル−１−プロミ
ド３．６ｇ、アセトン５０ｄおよびＮａ（７，１ｇを取
り、加熱して２０分間還流した。アセトンを除去し、塩
化メチレンを加え水、次いでプラインで洗浄し、硫酸ナ
トリウムで乾燥した。塩化メチレンを除去し、１Ｏ−（
２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）デシル−１−ヨ
ーシトを回収した。 （ｂ）反応容器中、（ａ）工程で製造した化合物０．５
ｇ、ＤＭＦ　ＬＭおよびイミダゾールナトリウム１６０
　ｍｇを約２４時間室温で撹拌した。塩化メチレンで処
理し、水、次いでブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで
乾燥し、そして溶媒を除去することによって得られた標
題化合物を回収した。回収された標題化合物は結晶であ
った。 標題化合物３４０■を０．ＩＮ塩酸３３■と反応させる
ことによって標題化合物を製造した。 １隻貞■ ５−　（７−（１−イミダゾリル）−へブチルツー３−
メチルイソキサゾール （ａ）窒素雰囲気下、３，５−ジメチルイソキサゾール
２０１ｄをＴ）ＩＦ　　（テトラヒドロフラン＞　２０
０　ｍに加えることによって、７−（３−メチルイソキ
サゾール−５−イル）へブチル−１−プロミドを製造し
た。Ｎ−ブチルリチウム８０ｄを２．５Ｍ／ヘキサンに
ゆっくりと（１０分以上かけて）加え、３０分間攪拌し
た。得られる溶液をＴＨＦ　１００　ｄ中１．６−ジプ
ロモヘキサン２４４ｇ溶液に一７８°Ｃで加えた。窒素
をパージし、ドライアイス／アセトン浴中で攪拌し、次
に３時間以上かけて室温まで暖めた。溶媒から生成物と
未反応出発物質とを減圧下（１／２１１１ＨＪＩ）蒸留
によって回収した。沸点１３４〜１３６°Ｃ０（ｂ）　
（ａ）工程で製造した化合物２６０　＠ｇとイミダゾー
ルナトリウム４５０■とをＤＭＦ２ｇ中で室温で１週間
攪拌した。水／塩化メチレンで分配し、シリカカラムを
用いて１００χ塩化メチレン続いて１００χ酢酸エチレ
ンで溶出し、標題化合物を得た。　０．ＩＮ塩酸との反
応によって標題化合物の塩酸塩を製造した。ＦＡＢ−Ｍ
Ｓ：　ＩＩ／Ｚ　２４８　（Ｍ”）−塩基、塩酸塩、Ｈ
’−ＮＭＲ−２００ａＨｚ；　δｆｌ（ＣＯＣｈ）　　
１．３７（６Ｂ、ｓ）、１．５５−１．８０（２１＋、
　ｓ）　、　１．８０−２．００（２Ｈ，＋ａ）　、　
２．２５（３Ｈ，ｓ）　、　２．７０　（２８，ｔ＋Ｊ
　８１１ｚ）、４．３５（２１１，ｔ、Ｊ　８Ｈｚ）、
５．８５（１８，ｓ）、７．１８（ＩＨ。 ｓ）、７．４０（ＩＨ，ｓ）、９．６５（ＩＨ，ｓ）。 支筒ｋ１ １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル〕ベンゾイミダゾール 実施例２または３で製造したヨーシト３００■、ＤＭＦ
３ｍ、ヘンシイミダゾール１４５　ｇおよび水酸化ナト
リウム４９■を室温で一晩攪拌した。塩化メチレンで処
理し、水、次いでプラインで洗浄し、溶媒を除去するこ
とにより標題化合物を回収した。 約１．１等量の０．ＩＮ塩酸と標題化合物を反応させる
ことにより塩酸塩を製造した。 裏廉拠別 １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル〕−２−ヒドロキシベンゾイミダゾールおよび Ｎ、Ｎ　’−ビスー（６−（２−クロロ−４−メトキシ
フェノキシ）ヘキシルクー２−ベンゾイミダゾロン 反応゛容器中、Ｚ−ヒドロキシベンゾイミダゾールＩｇ
、実施例２または３で製造したヨーシト２ｇ、水酸化ナ
トリウム０．３５　ｇおよびＤＭＦ　１０ｍを室温で一
晩攪拌した。水／塩化メチレンで分配した。 シリカカラムを用い、１００χ塩化メチレン、次いで５
０１５０塩化メチレン／酢酸エチルで溶出した。２つの
主画分を得、頂部スポット画分は、Ｎ、Ｎ　’　−ビス
−（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘキ
シルクー２−ベンゾイミダゾロンであることがＮＭＲか
られかった。 ＦＡＲ−ＭＳ：ｓ／ｚ　６１５（Ｍ”）ｉｌｌ基塩基Ｈ
’−ＮＭＲ−２００ＪｚＨδＩｔ（ＣＤＣＩ３）、１．
３５−１．６５　（８ｔｌ、ａ＋）、１．７０−１．９
０（８Ｈ，ｍ）。 ３．７５（６Ｂ、ｓ）、３．８０−４．０５（８Ｈ，ａ
）、６．７−７．２（ＩＯＨ，ＩＩ）。 そして、底部スポット画分は１−（６−（２−クロロ−
４−メトキシフェノキシ）ヘキシルクー２−ヒドロキシ
ベンゾイミダゾールであることがＮＭＩ？かられかった
。 ＦＡＲ−ＭＳ：ｍ／ｚ　３７５（Ｍ’）遊離塩基、Ｈ’
　−ＮＭＲ−２００１１Ｈ２：　δＨ（ＣＤＣＩり、１
．４−１．７０（４Ｈｖ）　、　１．７−１．９（４Ｈ
。 ｍ）、３．７５　（３Ｈ，ｓ）、３．８５−４．０５（
４Ｈ，ｍ）、６．７−７．２（７８４）。 災隻桝■ １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル〕−４−および−５−ヒドロキシメチルイミダ
ゾール 実施例２または３で製造したヨーシト３ｇ。 ＤＭＦ　１５ｄ、水酸化ナトリウム１．０１　ｇおよび
４−ヒドロキシメチルイミダゾール塩酸塩１．６４ｇを
室温で一晩攪拌した。塩化メチレンを加え、水で数回洗
浄した。粗シリカカラムを用い塩化メチレン、次いで２
％メタノール／塩化メチレンおよび最後に５％メタノー
ル／塩化メチレンで溶出し、標題化合物の混合物を得た
。 標題化合物を約１．１等量のＯ，ＩＮ塩酸と反応させる
ことによって標題化合物の塩酸塩を製造した。 引ｕｔｍ １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキジン
ヘキシル〕ピロリジン 実施例２または３で製造したヨーシト５００　ｍｇ、ア
セトニトリル５ｄ、ピロリジン９６７■、炭酸セシウム
３ｇを反応容器中で一晩、室温で撹拌した。 塩化メチレンを加え、水で洗浄し、溶媒と過剰の反応体
を除去し、標題化合物を回収した。 標題化合物と１．１等量の０．ＩＮ塩酸との反応によっ
てＩｌ１題化合物の塩酸塩を製造した。 裏胤桝Ｕ １−　（６−（１−イミダゾリル）ヘキシル］イミダゾ
ール （ａ）　１．６−ジプロモヘキサン５ｇ、アセトン１５
ｍ。 ヨウ化ナトリウム１５．２ｇを２０分間、加熱還流した
。 塩化メチレンを加え、水で処理し、溶媒を除去し、１．
６−ショートヘキサンを回収した。 （ｂ）　（ａ）工程で製造したショート化合０１　ｇ。 ＤＭＦ　１０ｄおよびイミダゾールナトリウム２．６７
ｇを室温で一晩攪拌した。塩化メチレンで処理し、水で
洗浄し、溶媒を除去し標題化合物を結晶性物質として回
収した。 標題化合物を約１等量の０．ＩＮ塩酸と反応させること
によって標題化合物の塩酸塩を製造した。 剋缶梱 １−　［６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル）　−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−７−メ
チル−１，８−ナフチリジン−３−カルボン酸ナトリウ
ム 実施例２または３で製造したヨーシト１ｇ、ＤＭＦ　１
０ｄ、４−ヒドロキシ−７−メチル−１，８−ナフチリ
ジン−３−カルボン酸８３４　ｍｇおよび水酸化ナトリ
ウム３２６■を反応容器中、室温で一晩攪拌した。塩化
メチレンを加え、水で洗浄した。粗シリカカラムを用い
、塩化メチレン次いで３％メタノール／塩化メチレンで
溶出し、標題化合物をカルボン酸として単離した。 ０、１＃＊酸化ナトリウムとの反応によって標題化合物
のナトリウム塩を製造した。 ｚ嵐貞■ １−　（６−（２−メチル−１−イミダゾリル）ヘキシ
ル］−２−メチルイミダゾール ＤＭＦ　１０ａｄ、水酸化ナトリウム１．１８ｇ、Ｚ−
メチルイミダゾール２．４３ｇおよび１．６−ショート
ヘキサン】ｇを反応容器中、室温で一晩攪拌した。塩化
メチレンで処理し、水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾
燥し、溶媒を除去し標題化合物を製造した。 約１等量の０．ＩＮ塩酸と反応させることによって標題
化合物の塩酸塩を製造した。 臭施炭匹 １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル〕−３−および−５−ピラゾールの混合物 実施例２および３で製造したヨーシト１ｇ、０阿Ｆ　１
０ｄ、３−メチルピラゾール０．６５６　ｄ　（３等ｉ
ｔ）および水酸化ナトリウム３４８■を反応容器中、−
晩室温で攪拌した。塩化メチレンを加え、水で数回洗浄
し、乾燥し、溶媒を除去し、標題化合物の混合物を得た
。 標題化合物は水溶性塩を形成しない。 裏庭貫釘 ９−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
へキシル］プリンおよび ７−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル〕プリン 実施例２および３で製造したヨーシト３００■、ＤＭＦ
３１ｄ、プリン１４７１ｍｇおよび水酸化ナトリウム４
９■を反応容器中、室温で一晩攪拌した。塩化メチレン
を加え、水で洗浄した。粗シリカカラムを用い塩化メチ
レン、次いで２％メタノール／塩化メチレン、次に４％
および５％メタノール／塩化メチレンで溶出し、９位で
置換された標題化合物（主成分）と７位で置換された標
題化合物（副成分）を得た。 ａｒｍ化合物は水溶性塩を形成しなかった。 １去１町は １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル〕−４−メチルー５−ヒドロキシメチルイミダ
ゾールおよび １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシルゴー５−メチル−４−ヒドロキシメチルイミダ
ゾール ＤＭＦ　２５Ｉｄ、水酸化ナトリウム５ｇ、４−ヒドロ
キシメチルイミダゾール３．５ｇおよび実施例２および
３で製造したヨーシト３．０ｇを反応容器中、室温で９
時間攪拌した。水／塩化メチレンで分配した。 シリカカラムを用い、１００χ塩化メチレン次いで塩化
メチレン中８％メタノールで溶出し、標題化合物の混合
物を得た。ＮＭＲ（核磁気共鳴）は２種の異性体の存在
を示した。 シリカカラムを用い５０１５０　ＴＨＦ／酢酸エチルで
異性体を分離した。１種類の異性体を頂部スポットとし
て、そして他の異性体を底部スポットとして回収した。 約１等量の０．ＩＮ塩酸との反応によって各標題化合物
の塩酸塩を製造した。 ＭＳ：ｍ／ｚ　３５３　（Ｍ”）　２種の異性体、遊離
塩基、Ｈ’−ＮＭＲ−２００１１８Ｚ雪　δＨ（ＣＤＣ
ｌ２）、１．３−１．７　（４８，ｓ）。 １．７−２．０　（４Ｌｍ）、Ｚ．２２　（３１１，ブ
ロードｓ）、３．７８（３Ｈ。 ｓ）、３．８５（２８，ｔ、Ｊ　７Ｈｚ）、４’、００
（２Ｈ，ｔ、Ｊ　７Ｈｚ）、　４．６（２Ｂ、ｓ、５ま
たは４−ＣＨｇ０Ｈ）、４．６５．ｓ、４または５−Ｃ
Ｉ＋２０１１）、６．７−７．０　（３Ｌ禦）、７．４
（ＩＨ，ｓ）。 １旌炭ｎ ！−（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
キシルツー２−エチルイミダゾール実施例２または３で
製造したヨーシト２ｇ、Ｚ−エチルイミダゾール２　ｇ
　、　ＤＭＦ　２．５　ｍｌおよび塩酸ナトリウム０．
４ｇを反応容器中、４日間室温で攪拌した。溶媒を除去
し、水／塩化メチレンで分配した。シリカカラムを用い
、１００χ塩化メチレンそして次に１０％メタノールで
溶出し、標題化合物を製造した。 ＭＳ劃側ｚ　３３７（Ｍ”）Ｉｔ’−ＮＭＲ−２００ｍ
Ｈｚ；　　δＨ（ＣＤＣｈ）、１．３４（３Ｌｔ、Ｊ　
７．５Ｈｚ）、１．３−１．６５　（４Ｈ，ｍ）、１．
７０−１．９０（４Ｈ，ｍ）、Ｚ．６６（２Ｈ，ｑ、Ｊ
　　７．５Ｈｚ）、３．７５（３８，ｓ）、３．８３（
２）１゜ｔ、Ｊ　７Ｈｚ）、３．９５（２Ｈ，ｔ、Ｊ　
６Ｈ２）、６．７−７．０（５Ｈ，Ｉｌ）。 約１．１等量の０．　ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩
を製造した。 １隻貫別 ２−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
−１−ヘキシルチオ〕−ベンゾイミダゾール ２−メルカプト−ベンゾイミダゾール２．５ｇ、実施例
２または３で製造したヨーシト２ｇ、ＤＭＦ　２５−お
よび水酸化ナトリウム０．７１ｇを反応容器中、室温で
４日間攪拌した。溶媒を除去し、水／塩化メチレンで分
配した。シリカカラムを用い、１０ｏｚ塩化メチレン次
いで５０１５０酢酸エチル／塩化メチレンで溶出し、標
題化合物を得た。 ＭＳ：ｍ／ｚ　　３９１（Ｍ’）Ｈ’−ＮＭＲ−２００
ｍＨｚ；　　δＨ（ＣＤＣｌ２）、１．５−１．６（４
＋１．　ｓ）　、　１．７−１．９（４Ｈ，ｓ＋）　、
　３．３５（２ｔｌ、　ｔ＋　Ｊ　７１１ｚ）　。 ３．７５（３８，ｓ）、３．９５（２１１，ｔ、Ｊ　６
Ｈｚ）、６．７−７．０（３Ｈ，ｎ＋）。 ７．２−７．４　（４Ｈ，ｍ）　、　７．６５−７．７
５（ＩＬ　ｍ）　。 災指炭… １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキソル］−４−メチルー２−エチルイミダゾールおよ
び １−　［６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル］−５−メチルー２−エチルイミダゾール ２−エチル−４−（５）−メチルイミダゾール２ｇ、実
施例２または３で製造したヨーシト３ｇ、水酸化ナトリ
ウム０．７５ｇおよびＤＭＦ　２５ｄを反応容器中、室
温で４日間撹拌した。溶媒を除去し、水／塩化メチレン
で分配した。シリカカラムを用い、１００χ塩化メチレ
ン次いで５％メタノールを用いて？８出し、標題化合物
の塩酸塩のＮＭＩ？で確かめられた通り、Ｚ種の標題化
合物を７０７３０重量比で得た。 １等量の０．　ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造
した。 ＭＳ：ｍ／ｚ　３５１　（Ｍ”）塩酸塩、Ｈ’−ＮＭＲ
−２００ｍＨｚ−δＨ（ＣＤＣｈ）、　１．２−２−１
−７（７Ｈ１，１−７−２，０（４Ｈ＋ｍ）＋２−３２
（３ｏ＋ｓ＋異性の４−ＣＤ５）、Ｚ．４０（３Ｈ，Ｓ
、異性の５−ＣＤ５）　。 ３．０５（２８，ｑ、Ｊ　８Ｈｚ）、３．７５（３Ｈ，
ｓ）、３．９０−４．０５（４Ｈ，ｍ）。 ６．７−７、Ｈ４Ｈｚ）。 実ｉｆ肌鋼 １−　（３−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
プロピルプロミダゾール （ａ）アセトン６０ｄ中、Ｚ−クロロ−４−メトキシフ
ェノール、１．３−ジブロモプロパン５１ｇ、炭酸カリ
ウム３５ｇを４８時間還流下で反応させることによって
、ｌ−（３−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
プロピルプロミドを製造した。蒸留によりアセトンを除
去した。残留物を塩化メチレンで抽出し、ろ過した。溶
媒を除去し、真空下で残留物を蒸留し、生成物を回収し
た（０．５醜Ｈｇで沸点１５０〜１６０°Ｃ）。 （ｂ）　（ａ）工程で製造したプロミド１ｇ、イミダゾ
ール２ｇ、水酸化ナトリウム１．２ｇおよびＤＭＦ　１
０ｇｍｌを反応容器中、室温で１８時間攪拌した。溶媒
を除去し、水／塩化メチレンで分配し、標題化合物を得
た。 約１等量の０．ＩＮ塩酸と標題化合物との反応によって
塩酸塩を製造した。塩化メチレン／水中で塩酸塩を精製
した。 ＦＡＲ−ＭＳ：ｍ／ｚ　２６７（Ｍ”へ塩酸塩、Ｈ’−
ＮＭＲ−２００ｒｅ　Ｈｚ　＋δＨ（ＣＤＣ１３）、Ｚ
．４８（２Ｈ，ｍ）、３．７６（３Ｈ，ｓ）、４．００
（２Ｈ，ｔ、Ｊ　５．５）＋２）、４．６３　　（２Ｈ
，ｔ、Ｊ　６．８）１ｚ）、６．７２−７．００（３ｔ
ｌ、＋＋１）、７．２４（ＩＨ，ｓ）、７．３６（ＩＨ
，ｓ）、９．６８（ＬＨ，ｓ）。 実新Ｉ津這 ２−　（７−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘプチル）−１−メチルイミダゾール１．２−ジメチル
イミダゾール１９６■および新たに蒸留したＴ）ＩＦ　
５−を乾燥した反応容器に入れ、−７８℃に冷却し、次
いでヘキサン中２．５モル（ｍｏｌａｒ）　　ｎ−ブチ
ルリチウム０．８１ｍを加え、−７８°Ｃで１５分間攪
拌し、次いで実施例２および３で製造したヨーシト０．
５ｇおよびＴ）ＩＦ５ｄを加え、ゆっ（つと室温まで暖
めながら２時間攪拌した。 反応混合物を室温で一晩攪拌した。水５ｄを加え、溶媒
を除去し、その後塩化メチレンを加え、水で洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥し、次に粗シリカカラムを用い、塩
化メチレン次に３％エタノール／塩化メチレンを用いて
溶出し、標題化合物を得た。 約１．１等量の０．ＩＮ塩酸との反応によって標題化合
物の塩酸塩を製造した。 １隻班釘 ２−　（７−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
へブチル］イミダゾール （ａ）２−メチルイミダゾール１．７５ｇ　、　ＴＨＦ
　Ｉｏｚ！１および塩化トリフェニルメチルを一晩還流
して、Ｚ−メチル−１−トリフェニルメチルイミダゾー
ルを製造した。生成物を次のようにして回収した：塩化
メチレンを加え、水で洗浄し、次にネ■シリカカラムを
用い塩化メチレン続いて５％メタノール／塩化メチレン
で溶出した。 （ｂ）標題化合物を次のようにして製造した＝（ａ）工
程で製造した化合物５００ｍ１ｇを乾燥ＴＩ（Ｆ　ｌｏ
ｄに加え、−７８“Ｃに冷却し、ｎ−ブチルリチウム０
．１６ｄを３〜５分間以上かけて加え、次いでＴＨＰ３
１１ｆｆｉ中、実施例２および３で製造したヨーシト３
７６１ｇを５分かけて加えた。ゆっくりと室温になるま
で暖めながら一晩攪拌した。溶媒の約８０〜９０％を除
去し、塩化メチレンを加え、水次いでブラインで洗浄し
、６Ａ　Ｍナトリウムで乾燥した。粗シリカカラムを用
い、塩化メチレン次に１０％酢酸エチル／塩化メチレン
、そして最後に２０％酢酸エチル／塩化メチレンで溶出
した。得られた生成物をギ酸で処理し、１００°Ｃに１
．５時間加熱し、室温に放冷すると白色沈澱物を形成し
た。ギ酸を除去し、１０％水酸化ナトリウム溶液で中和
し、標題化合物を回収した。 約１等量のＯ，ＩＮ塩酸と標題化合物との反応によって
塩酸塩を製造した。 実施炎刹 ２−　Ｃ７−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘプチル］−１−ブチルイミダゾール実施例３４で製造
した化合物７９■、０ＭＦ２１ｅ、水酸化ナトリウム２
９．４ｄおよびｎ−ヨードブチル４４．８ｍｇを反応容
器中、室温で一晩攪拌した。塩化メチレンを加え、水で
洗浄した。粗シリカカラムを用い２％メタノール／塩化
メチレン次いで３％メタノール／塩化メチレン、最後に
５％メタノール／塩化メチレンで溶出し、標題化合物を
単離した。 約１等量の０．ＩＮ塩酸と標題化合物との反応によって
塩酸塩を製造した。 尖施撚皿 １−　（６−（４−フェノキシフェノキシ）ヘキシルコ
イミダゾール （ａ−１）反応容器中に室温で、ＤＭＳＯ（ジメチルス
ルホキサイド）２５ｄＳｐ−フェノキシフェノール５ｇ
、０．１０７４モル水酸化カリウム６ｇおよび１，６−
ジプロモヘキサン１３．１ｇを加えて６−（４−フェノ
キシフェノキシ）へキシル−１−プロミドを製造した０
反応は発熱反応であり、固体が得られた。 ＤＩ（Ｓｏを更に２５Ｉ１１加え、４５分間攪拌し、所
望のプロミドを生産した。 （ａ−２）反応容器にＤＮＳＯＩＯｄ、粉末水酸化カリ
ウム１．２ｇ、　１．６−ジプロモヘキサン４．９ｄお
よび固体ｐ−フェノキシフェノール１ｇを加えた。塩化
メチレンを加え、水で洗浄した。粗シリカカラムを用い
、１０％塩化メチレン／ヘキサン、次に２０％塩化メチ
レン／ヘキサン、３０％塩化メチレン／ヘキサン、最初
に４０％塩化メチレン／ヘキサンで溶出し、初期のプロ
ミド化合物を単離した。 （ｂ）反応容器中（ａ−１）または（ａ−２）工程で製
造した化合物１．４ｇ、ヨウ化ナトリウム３ｇおよびア
セトン２０ｄを１０分間加熱還流した。アセトンを除去
し、塩化メチレンを加え、水次いでブラインで洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒をし除去し、所期の化
合物、６−（４−フェノキシフェノキシ）へキシル−１
−ヨーシトを結晶化した。 （ｃ）工程（ｂ）で製造したヨーシト３００■ＤＭＦ５
Ｉｒ１およびイミダゾールナトリウム２４０■を反応容
器中、室温で４８時間攪拌した。塩化メチレンを加え、
水次いでブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した
。塩化メチレン中に溶解し、標題化合物をろ取した。 約１．１等量の０．ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を
製造した。 裏庭炭Ｆ １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル）　−４，５−イミダゾールジカルボン酸ジメ
チル ４．５−イミダゾールジカルボン酸ジメチル３．７ｇ、
実施例２または３で製造したヨーシト３．７ｇ、　０Ｍ
Ｆ２５ＩＲ１および炭酸カリウム２．８ｇを室温で２４
時間攪拌した。溶媒を除去し、塩化メチレンで抽出し、
ろ過し、塩化メチレン画分を水で洗浄し、シリカカラム
を用い１００χ塩化メチレン次いで１０％メタノール／
塩化メチレンで溶出し標題化合物を回収した。 遊離塩基、Ｈ’−ＮＭＲ−２００ｍＨｚ；　δＨ（ＣＤ
ＣＩｚ）、１．３−１．７（４）１．　ｓ）　、　１．
７−１．９（４Ｈ，−）　、　３．７５（３Ｈ，ｓ）　
、　３．９２（６Ｈ。 ｓ）　、　３．９５（２０，ｔ、　Ｊ　８Ｈｚ）　、　
６．７−７．０（３Ｈ，ｍ）　、　７．５５（ＩＨ，ｓ
）１血■刹 １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル）−４，５−ジ（ヒドロキシメチル）イミダゾ
ール 実施例３７で得た化合物１ｇをＴＨＦ　２０ｄ　（乾燥
窒素）に加え、０°Ｃに冷却し、ゆっくりとＬｉ（Ｃオ
ＩＩ　ｓ　）　Ｂ　１１を加え、約３０分間攪拌した。 室温に暖め、約９０分間攪拌した。ａ塩酸２ｍを加え、
約３０分間攪拌し、次いでその酸を中和し、Ｇ１１（を
１０〜１１にするのに十分な量の５０％水酸化ナトリウ
ムを加えた。ろ過して固形分を除去した。　ＴＨＦ　７
５ｄ、５０％水酸化ナトリウム２ｄ、３０％過酸化水素
３ｄを加え、約１時間攪拌下。飽和塩化ナトリウム溶液
３０＋＋ｄおよび塩化メチレン５０−を加えた。得られ
た有機層を硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸発乾固し標題化
合物を得た。 ＦＡＲ−ＭＳ：＋ｍ／ｚ　３６９（Ｍ”）、塩酸塩、Ｈ
’−ＮＭＲ−２００ｍｌｌｚ、　　δＨ（ＣＤＣ１３）
、１．３−１．６（４１１，ａ＋）　、　１．６−２．
０（４Ｈ。 ｍ）、３．７２（３Ｈ，ｓ）、３．９３（２１１，ｔ、
Ｊ　６Ｈｚ）、４．２５　（２Ｈ，ｔ、Ｊ８Ｈｚ）、４
．６４（２Ｈ，ｓ）、４．６８（２８，ｓ）、６．７−
６．９（３Ｈ，＋＊）。 ８．９５（ＩＨ，ｓ）。 実施■別 ｔｒａｎｓ−１−（（２−クロロ−４−メトキシフェノ
キシ）メチル）４−（（１−イミダゾリル）メチル］シ
クロヘキサン （ａ）トランス　１．４−ビスヒドロキシメチルシクロ
ヘキサン１４．５　ｇを塩化メチル２５０ｄに加え、そ
して塩化メタンスルホニル２０ｄを加え、０°Ｃに冷却
し、そしてトリエチルアミン３６ｄを１時間かけてゆっ
くりと加えた。溶媒を除去し、水で抽出し、ろ過し、メ
タノールで洗浄し、トランス−１，４−ビスメタンスル
ホン酸メチルシクロヘキサンを得た。 （ｂ）　（ａ）工程の生成物３０ｇをメチルエチルケト
ン（ｏＫ）３０（１ｍに加え、次いでヨウ化ナトリウム
９０ｇを加え、約３０分間還流した。溶媒を除去し、塩
化メチレンで抽出し、トランス１．４−ビスヨウ化メチ
ルシクロヘキサンを得た。 （ｃ）２−クロロ−４−メトキシフェノール３ｇ。 （ｂ）工程で製造した化合物１５ｇ、水１００−１塩化
メチレン１００　ｄを反応容器中に入れ、（ｎ−ブチル
）硫酸アンモニウム０．５ｇおよび５０％水酸化ナトリ
ウム水溶液２５ｍを加えた。シリカカラムで溶出した。 　ＮＭＪＩで確認されたようにモノおよびビスエーテル
の混合物が得られた。 得られた混合物にＤＭＦ　２０１ｄ中イミダゾ一ルナト
リウム３ｇを加えた。室温で４８時間攪拌した。溶媒を
除去し、シリカカラムを用い、１００χ塩化メチレン次
いで５％メタノールで溶出し、標題化合物を得た。 ０、ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 ＦＡＢ−ＭＳ：ｖａ／ｚ　３３５（Ｍ”）、塩酸塩、Ｉ
＋’−ＮＭＩ？−２００ｍＨｚ、　　δＨ（ＣＤＣｌ２
）、　０．９−１．３０（４Ｈ，ｍ）、１．６−２．１
（６Ｈ，ａ＋）。 ３．７５（３Ｈ，ｓ）、３．７７（２Ｈ，ｄ、Ｊ　６Ｈ
ｚ）、４．２（２Ｈ，ｄ、Ｊ　６Ｈｚ）。 ６．７−７、０（３Ｈ，ｍ）　、　７．１４　（ＩＨ，
ｓ）　、　７．４３（ＩＨ，ｓ）　、　９．５５　（Ｉ
Ｈ。 ｓ）。 ス去Ｉ小唄 １−　（９，９−ジメチル−デカ−７−イニル）−イミ
ダゾール （ａ）新たに蒸留したＴＨＦ５ｍおよび３．３−ジメチ
ル−１−ブチンを乾燥した反応容器に入れ、−７８°Ｃ
に冷却し、次いでｎ−ブチルリチウム（ヘキサン中２．
５Ｍ）を加え、約３０分間−７８°Ｃで攪拌し、０°Ｃ
でＴＨＦ３ｄおよび１．６−ジプロモヘキサン４．９ｇ
に移し、６時間攪拌し、乾燥ＤＭＳＯ２−に加え、沈澱
を形成した。塩化メチレンで処理し、水で洗浄した。 短いシリカベッドを通しヘキサンで溶出し、１，６−ジ
ブロモヘキサンと１−ブロモ−９，９−ジメチル−デカ
−７−インの混合物を与える物質を分離した。 （ｂ）　（ａ）工程で製造した混合物４．７３ｇ、　Ｄ
ＭＦ　５ｒｘｌおよびイミダゾールナトリウム２．１ｇ
を、反応容器中で、−晩室温で撹拌した。塩化メチレン
を加え、水次いでブラインで洗い、硫酸ナトリウムで攪
拌した。粗シリカカラムを用い、塩化メチレン次いで２
％メタノール／塩化メチレンで溶出した。生成物を含む
両分を合わせ、粗シリカカラムを用い２５％酢酸エチル
／塩化メチレンによるクロマトグラフを行い、標題化合
物を単離した。 約１．１等量の０．　ＩＮ塩酸との反応により塩酸塩を
製造した。 実ｍ １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル］−３−メチルイミダゾリウムヨーシト 実施例１で製造した化合物３００■、塩化メチレン５＋
ｄおよびヨウ化メチル０．０６６１を室温で約２．５時
間攪拌した。粗シリカカラムを用い塩化メチレン次いで
５％メタノール／塩化メチレンそして最後に１０％メタ
ノール／塩化メチレンで溶出し、標題化合物を得た。 災施五栓 １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル〕−４−および５−アミノメチルイミダゾール 水酸化ナトリウム０．５ｇ、　ＤＭＦ　２０ｒａＬ　４
　（５）　）リフェニルメチルアミノメチルイミダゾー
ルおよび実施例２および３で製造したヨーシトを、反応
容器中、室温で一晩攪拌した。溶媒を除去し、塩化メチ
レン／水、次いでブラインで分配した。シリカカラムを
用い１００χ塩化メチレン、次いで４０％酢酸メチルで
溶出した。トリフェニルメチルで保護された標題化合物
を含む２つの両分（頂部スポットと底部スポット）を分
離した。 それぞれの標題化合物を次のようにして分離した： 所望の両分を反応容器中のギ酸２０ｄ／塩化メチレン２
ｍに加え、−晩室温で攪拌した。全ての揮発物を除去し
、１％塩酸水溶液／ヘキサンで分配し、ｐＨ１ｏを超え
るまで５０％水酸化ナトリウムを加えた。水／塩化メチ
レンで分配した。塩化メチレン残留物をシリカカラムを
用い塩化メチレン、次いで塩化メチレン中２０％メタノ
ールで溶出し、所望の標題化合物を得た。頂部画分化合
物：底部画分化合物は約４：１であった。 約１等量の０．ＩＮ塩酸との反応によって各標題化合物
の塩酸塩を製造した。 （４または６Ｎｌｌ□−Ｃ１，−）　、　　遊離塩基、
ＦＡＢ−ＭＳ：ｍ／ｚ　３３８（Ｍつ；Ｈ’−ＮＭＲ−
２００ｍ１ｌｚ、　　δＨ（ＣＤＣｌ２）、１．３−１
．５５（６Ｈ，ｍ）、　１．６０−１．９（４）１．ｍ
）、３．７５（３Ｈ，ｓ）。 ３．８５（２Ｈ，ｓ）　、　３．９−４．２（４Ｈ，ｍ
）　、　６．７−７．０（４）１．　ａ＋）　、　７．
４５（ＩＨ，ｓ）　。 （４または５　Ｎ１１ｚ−ＣＨｚ−）　１塩酸塩　ＰＡ
Ｂ−ＭＳ：　ｍ／ｚ３３８（Ｍ”）　Ｈ’−ＮＭＲ−２
００ｍＨｚ、　　δＨ（ＣＤＣＩｚ）、１．３−１．７
（４Ｈ，ｍ）　、　１．７−１．９（４Ｈ，ｍ）　、　
３．７５　（３Ｈ，ｓ）　、　３．９−４．０　（４Ｌ
ｍ）　、　４．０８（２１１，ｓ）　、　６．７−７．
０　（３１１，ｍ）　、　７．２８　（ＩＨ，ｓ）　、
　７．５２（ＩＨ，ｓ）。 実施拠り １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル）−４，５−ジメチルイミダゾール（ａ）　　
１−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシル）　−４（５）−メチル−５（４）−ヒドロキ
シメチルイミダゾールを次のようにして製造した：実施
例１で製造した６−（２−クロロ−４−メトキシフェノ
キシ）へキシル−１−ヨーシト３ｇ、４−ヒドロキシメ
チル−５−メチルイミダゾール２．５ｇ、水酸化ナトリ
ウムＩｇを［１ＭＦ　　（ジメチルホルムアミド）２５
ｄに加え、４８時間攪拌した。 高真空によってＤＭＦを除去し、水／塩化メチレンで分
配し、塩化メチレン残留物をシリカカラムを用い１００
χ塩化メチレン次いで１０％メタノール／塩化メチレン
で精製し、生成物を得た。 （ｂ）　（ａ）工程で製造した化合物および塩化チオニ
ル３０ｄを室温で一晩攪拌した。５分間加熱還流し、塩
化チオニルを除去し、トルエンで追い出した。 （ｃ）　ＴＨＦ　５０ｍを（ｂ）工程で製造した生成物
に加え、Ｏ′Ｃに冷却し、トリエチルリチウムホウ化水
素１２−（１等量）を加え１０分間攪拌し、室温に暖め
、１時間攪拌した。　１０％水酸化ナトリウム２０ｄ次
いで３０％過酸化水素６Ｉｌｌｉ！を加え、１時間攪拌
し、飽和塩化ナトリウム溶液を加え、飽和塩化ナトリウ
ム溶液で２回洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥し、ＴＨ
Ｆを除去し、シリカカラムを用い塩化メチレンついで２
％メタノールで溶出し、標題化合物を得た。 約１等量の０．　ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製
造した。 ＦＡＲ−ＭＳ：　ｍ／ｚ　（３３７Ｍ”）塩酸塩、１１
’　−ＮＭＲ−２００１１Ｈ２；δＨ（ＣＤＣｌ２）、
１．３５−１．７（４Ｈ，ｍ）　、　１．７−２．０（
４Ｈ，ｍ）　。 ２．２２（３１１，！＋）、Ｚ．３８（３Ｈ，ｓ）、３
．７８（３）１．ｓ）、３．９８　（２Ｈ，ｔ。 Ｊ　５Ｈｚ）、４．１５　（２Ｈ，ｔ、Ｊ　ＪＨｚ）、
６．７−７．０（３１１，ｍ＋）、８．９５（ＩＨ，ｓ
）　。 Ｘ胤■■ １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
ヘキシルツー２−ヒドロキシメチルイミダゾール ３７％ホルムアルデヒド５０ｙｄを実施例１で製造した
化合物３ｇにパールボンベ（Ｐａａｒ　ｂｏｍｂ）中で
加え、窒素をパージした。油浴中で１３０℃で１６時間
加熱した。　１０％水酸化ナトリウム／塩化メチレン次
いで水／塩化メチレンで分配した。シリカカラムを用い
塩化メチレン次いで８％メタノールで溶出し、標題化合
物を得た。 約１等量の０．　ＩＮ塩酸との反応により塩酸塩を製造
した。 ＦＡＲ−ＭＳ：　ｅＩ／ｚ　３３９（Ｍ”）塩酸塩、Ｈ
’−ＮＭＲ−２００＋１８２；δＨ（ＣＤＣｈ）、１．
３−１．７（４Ｈ，ｓ）　、　１．７−２．０（４Ｈ，
＋ｗ）　、３．７５（３１１，ｓ）、３．９６（２Ｈ，
ｔ、Ｊ　６Ｈｚ）、４．２４（２’Ｈ，ｔ、Ｊ　８）１
ｚ）、５．０２（２１＋、　ｓ）　、　６．７−７．０
（３Ｈ，ｍ）　、　７．１２（ＩＨ，ｄ、　Ｊ　２Ｈｚ
）　、　７．３４（ＩＩＩ、ｄ、Ｊ　２１１２）。 災胤旌す １−アリルオキシカルボニルメチル−２−［７−（２−
クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘプチル］イミダゾ
ール 実施例３４で製造した化合物４ｇ、乾燥ＤＭＦ　２０ｒ
ｄ、粉末水酸化ナトリウム５４５■、ゆっくりと加えら
れたヨード酢酸アリル２．８ｇを室温で一晩攪拌した。 塩化メチレンを加え、水次いでブラインで洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥した。粗シリカカラムを用い塩化メチ
レン、次いで２０％メタノール／塩化メチレンそして最
終的に５％メタノール／塩化メチレンで溶出し、標題化
合物を単離した。 約１等量の０．　ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製
造した。 １隻拠並 １−カルボキシメチル−２−（７−（２−クロロ−４−
メトキシフェノキシ）ヘプチルコイミダゾール 実施例４５で製造した化合物１００■、Ｔ旺Ｆ２ｄおよ
び１０％水酸化ナトリウム溶液０．２１１の混合物を室
温で３時間攪拌した。ｐＨを約７にした。 塩化メチレンを加えた。全ての水および溶媒を除去し、
白色固体を得た。塩化メチレンを加え、撹拌し、固体を
ろ取した。標題化合物を回収した。 実施Ｕ １−　（６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
−ヘキサ−２−イニル］イミダゾール（ａ）　ＴＨＦ　
３０１ｄおよび［１Ｍ５Ｏ１０ｄを反応容器に入れ一７
８’Ｃに冷却した。ｎ−ブチルリチウム（２，５Ｍ／ヘ
キサン）７．４ｄを加え、５分間撹拌し、テトラヒドロ
ピランで保護されたプロパルギルアルコール２．６ｇを
加え、室温に暖めた。５分間攪拌し、わずかな発熱反応
で得られる１−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ
）プロピル−３−プロミド３ｇを加えた。約１．５時間
攪拌した。真空にしてＴ）ＩＦを除去し、水／塩化メチ
レンで分配した。塩化メチレン残留物をシリカカラムを
用い２５％塩化メチレン／ヘキサン、次いで５０１５０
塩化メチレン／ヘキサンで溶出した。得られた生成物を
５０／２５／２５　ＴＨＦ／水／メタノールに加え、そ
してｐ−トルエンスルホン酸１ｇを加えた。−晩攪拌し
、ＴＨＰ／メタノールを除去し、５％炭酸水素ナトリウ
ム／塩化メチレン次いで水／塩化メチレンで分配した。 塩化メチレンを除去し、所望の化合物、１−ヒドロキシ
−６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘキサ
ル２−インを得た。 （ｂ）塩化チオニル２５ｒｔｒｌを（ａ）工程で得た化
合物１．１７ｇに加え、１時間還流した。塩化チオニル
を除去した。　ＤＭＦ　２５ｄおよびイミダゾールナト
リウム３ｇを加え、−晩攪拌した。ＤＭＦを除去し、水
／塩化メチレンで分配した。 シリカカラムを用い１００χ塩化メチレン次いで１００
χ酢酸エチルで溶出し、標題化合物を得た。 約１等量の０．ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造
した。 ＰＡＢ−ＭＳ：ｍＨｚ　３０５塩酸塩、Ｉｔ’−ＮＭＲ
−２００ｍＨｚ。 δＨ（ＣＤＣｌ２）、Ｚ．０５（２Ｈ，閘）、Ｚ．５５
（２Ｈ，ｍ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）。 ４．０８（２Ｈ，ｔ、Ｊ　５Ｈｚ）、５．２０（２Ｈ４
）、６．７−７．０（３Ｈ１ｌｌ）。 ７．３０（１１１，ｓ）、７．３８（ＩＨ，ｓ）、９．
６（ＩＨ，ｓ）。 １蓋■移 １−アセタミド−２−（７−（２−クロロ−４−メトキ
シフェノキシ）ヘプチル］イミダゾール実施例４５で製
造した化合物１１００ＩＩＩおよび塩化メチレン５−を
反応容器に入れた。室温でアンモニアガスで飽和させた
。約３０分間放置した。５％メタノール／塩化メチレン
によるＴＬＣはより橿性の大きい生成物が混合物の５０
％であることを示した。 約２時間攪拌し、エタノール中ナトリウムエトキシド次
いでアンモニアを加え約１．５時間攪拌した。 標題化合物をＴＬＣで回収した。 約１等量の０．ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造
した。 ス省１引田 １−（２−ヒドロキシエチル）−２−（７−（２−クロ
ロ−４−メトキシフェノキシ）へブチルコイミダゾール 実施例４５で製造した化合物１００１ｇ、丁ＨＰ５ｄお
よび過剰の水素化リチウムアルミニウムを反応容器に入
れ、約２０分間撹拌した。酢酸エチル、水および塩化ア
ンモニウムを加え、室温で一晩放置した。 酢酸エチルで抽出し、粗シリカカラムを用い塩化メチレ
ン次いで５％メタノール／塩化メチレンそして最終的に
ｌθ％メタノール／塩化メチレンで溶出した。標題化合
物を回収した。約１等量の０、ＩＮ塩酸との反応により
塩酸塩を製造した。 夫星孤堕 １−（８−フェニル−オクタ−７−イニル）イミダゾー
ル （ａ）フェニルアセチレン１．０７ｄをＴ）ＩＦ　１０
ｉｄに反応容器中で加えることにより６−フェニルエチ
ニルへキシル−１−プロミドを製造し、−７８°Ｃに冷
却し、その後ｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ：ヘキ
サン中２．５Ｍ）３．’Ｊｄを加え、５分間攪拌し、ｏ
　’ｃに暖め、１．６−ジブロモヘキサン４５ｄおよび
乾燥ＤＭＳ０５モルを加えた。室温で１．５時間攪拌し
、溶媒を除去し、塩化メチレン次いで水で処理し、生成
物を回収した。 （ｂ）　ＤＭＦ　Ｓｄ中（ａ）工程の生成物１．６５ｇ
およびイミダゾールナトリウム１．６８ｇを反応容器中
室温で４８時間攪拌した。塩化メチレンで処理し、水で
洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥することにより得られる
標題化合物を取り出した。粗シリカカラムを用い１００
χ塩化メチレン続いて２％メタノール／塩化メチレンで
溶出し、標題化合物を得た。 Ｏ，Ｕ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 ＭＳ：　＠／Ｚ　２５３　（Ｍ”）　　塩酸塩、災隻桝
針 １−〔６−ヒトロキシー６−（２−クロロ−メチルフェ
ニル）−ヘキシルコイミダゾール（ａ）反応容器に塩化
メチレン２００　ｍｌ、ｍ−クロロトルエン５．８７ｄ
および６−プロモヘキサノイルクロリド１１．７　ｇを
加え、次いで塩化アルミニウム７．９５ｇを加えること
によって６−（２−クロロ−４−メトキシフェニル）−
６−オキソ−へキシル−１−プロミドを製造した。３時
間撹拌した。水、炭酸水素ナトリウム、水およびブライ
ンで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、粗シリカカラム
を用い１００χヘキサン、１０％塩化メチレン／ヘキサ
ン、１５％塩化メチレン／ヘキサンおよび２０％塩化メ
チレン／ヘキサンで溶出し、生成物を得た。 （ｂ）　（ａ）工程の生成物１ｇ、エタノールｌＯｄお
よびホウ水素化ナトリウム１２４■を加えることによっ
て、１−（６−ヒトロキジー６−（２−クロロ−４−メ
チルフェニル）へキシルプロミドを製造した。室温で１
時間攪拌した。溶媒を除去し、塩化メチレンを加え、水
、ブラインで洗浄し、乾燥して生成物を回収した。 （ｃ）　（ｂ）工程の生成物９７５　［、ＤＭＦ　１０
ｄおよびイミダゾールナトリウムを反応容器中で９６時
間攪拌した。塩化メチレンで処理し、水次いでブライン
で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、その後粗シリカカ
ラムを用い塩化メチレン次いで３％メタノール／塩化メ
チレンで溶出し、標題化合物を得た。 ０、　ＩＮ塩酸との反応によって標題化合物の塩酸塩を
製造した。 ＦＡＢ　ＭＳ：　ｍｌｚ　２９３　（Ｍ”）　　塩酸塩
。 裏庭■昇 １−〔７−オキシ−７−（４−メトキシフェニル）ヘプ
チルコイミダゾール （ａ）アニソール２．１６　ｇ、塩化メチレン１００　
ｄ、　７＝ブロモヘプタノイルクロリドおよび塩化アル
ミニウムを、室温で１時間攪拌することによって、７−
（４−メトキシフェニル−７−オキソ）へブチル−１−
プロミドを製造した。水、炭酸水素ナトリウム、水次い
でブラインで洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥した。粗
シリカカラムを用いヘキサン次いで塩化メチレン／ヘキ
サンで溶出し、生成物を回収した。 （ｂ）　（ａ）工程の生成物０．５ｇ、　ＭＥＫ　１０
ｍ　（メチルエチルケトン）１０ｍおよびヨウ化ナトリ
ウム１．２５ｇを４５分間加熱還流した。大部分のＭＥ
Ｋを除去し、塩化メチレンを加え、その後で水、続いて
ブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、（ａ）工
程で製造した化合物のヨウ化物を得た。塩化メチレンを
加え、水で洗浄、その後ブラインで洗浄し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、標題化合物を得た。 ０、ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 ＦＡＢ−ＭＳ：　ｗａ／ｚ　２８７　（Ｍ’）塩酸塩。 実施七公 １−〔７−ヒトロキシー７−（４−メトキシフェニル）
へブチル〕イミタソール 実施例５２の（ｂ）で製造した化合物１ｇ、エタノール
１０Ｉｉおよびホウ水素化ナトリウム０．５ｇを２．５
時間室温で攪拌した。大部分のエタノールを除去し、塩
化メチレンを加え、水で洗浄し、粗シリカカラムを用い
塩化メチレン次いで３％メタノール／塩化メチレンで溶
出し、標題化合物を得た。 ＭＳ：　ｍＨｚ　２８８　（Ｍ”）−塩基。 実蓋炎８ ｌ−（７−（４−メトキシフェニル）−ヘプト−６−エ
ニル〕−イミダゾール塩酸塩 実施例５３で製造した化合物を１．１等量の０．ＩＮ塩
酸で処理し標題化合物を得た。 ＦＡＢ／Ｇ１．ｙ−Ｔｈｉｏ−ＭＳ：　ｍＨｚ　２７１
　（Ｍ”）塩酸塩１隻開ｙ １−（７−ヒトロキシイミノー７−（４−メトキシフェ
ニル）ヘプチル）イミダゾール実施例５２の（ｂ）で製
造した化合物０．５ｇ、エタノール１０ｄ、水１１ｄお
よび大過剰のヒドロキシルアミン塩酸塩を室温で一晩攪
拌し、次に４時間攪拌した０反応混合物中を窒素を泡立
てて大部分のエタノールを除去した。１０％水酸化ナト
リウム水溶液でｐｉを約１０に合わせ、塩化メチレンを
加え、水、次いでブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで
乾燥した。その後、粗シリカカラムを用い塩化メチレン
次いで１％、Ｚ％、３％および４％メタノール／塩化メ
チレンで溶出し、標題化合物を得た。 １．１等量の０．ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製
造したー ＭＳ：　ｍＨｚ　３０２　（Ｍ”）　　塩酸塩。 実施班几 １−（７−（４−メトキシフェニル）ヘプチルクイミダ
ゾール 実施例５４で製造した化合物の遊離塩基８７１１ｇ無水
エタノール２０戚およびＰｔＯを水素圧３０ｐｓ　ｉ下
で一晩Ｉ３動した。ろ過し、エタノールを除去し、粗シ
リカカラムで塩化メチレン次いで２％メタノール／塩化
メチレンで溶出し、標題化合物を得た。 １．１等量の０．ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製
造した。 ＭＳ：　＠ｌ／Ｚ　２７２　（Ｍ’）　　塩酸塩。 実施班Ｈ ！−〔７−オキソ−７−（４−メチルチオフェニル）へ
ブチル〕イミタソ−／１ｚ （ａ）塩化メチレン１００　ｄ中、チオアニソール２．
３４ｍ１．７−ブロモヘプタノイルクロライドおよび塩
化アンモニウム３．１９　ｇを室温で攪拌して７−（４
−メチｌレチオフエニル−７−オキソンーヘブチル−１
−プロミドを製造した。ゆっくりと水を加え、次に水、
炭酸水素ナトリウム、水およびブラインで洗浄した。Ｎ
シリカカラムを用い４０％塩化メチレン／ヘキサン次い
で５０％塩化メチレン／ヘキサンで溶出し、白色結晶と
して生成物を得た。 （ｂ）アセトン１００　ｄおよびヨウ化ナトリウム６．
５ｇを（ａ）工程の生成物に加え、１．５時間加熱還流
し・溶媒を除去した。塩化メチレンで処理し、水で洗浄
し、（ａ）工程で得た化合物のヨウ化物を得た。 （ｃ）　ＤＭＦ　３０１１１を（ｂ）　工程テ製造シタ
化合物ニ加工、ヘミダシ−ルナトリウムを加え、−晩攪
拌した。 塩化メチレンで処理し、水で洗浄し、その後粗シリカカ
ラムを用い塩化メチレン次いで３％メタノール／塩化メ
チレンで溶出し、標題化合物を得た。 ０、　ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 ＦＡＲ／Ｇｌｙ−Ｔｈｉｏ−ＭＳ：　ｍＨｚ　３０３　
（Ｍ”）塩酸塩。 尖施■兆 １−〔７−ヒトロキシイミノー７−（４−メチルチオフ
ェニル）ヘプチルコイミダゾール実施例５７の（ｃ）で
製造した化合物３００　Ｍ、エタノールＩＭ、水１ｄお
よびヒドロキシルアミン塩酸塩３４４■を室温で攪拌し
た１反応混合物中を窒素を泡立てて、エタノールを除去
し、塩化メチレンを加え、１０％水酸化ナトリウム、水
、次いでブラインで洗浄し、標題化合物を製造した。 ＦＡＢ／Ｇｌｙ−Ｔｈｉｏ−ＭＳ：　ｔｉ／ｚ　３１８
　（Ｍつ塩酸塩。 １隻炭刑 ｌ−〔７−ヒトロキシー７−（４−メチルチオフェニル
）ヘプチルコイミダゾール 実施例５７で製造した化合物２００■、エタノール５−
およびホウ水素化ナトリウム５０■を攪拌した。 エタノールを窒素で除去し、塩化メチレンを加え、その
後水火いでブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し
、標題化合物を得た。 １．２等量の０．ＩＮ塩酸との反応で塩酸塩を製造した
。 ＦＡＲ／Ｇｌｙ−Ｔｈｉｏ−ＭＳ：　ｍＨｚ　３０５　
（Ｍ”）塩酸塩。 裏庭皿競 ｌ−〔７−オキソ−７−（４−メチルスルホニルフェニ
ル）ヘプチルコイミダゾール 実施例５７で製造した化合物１ｇおよび酢＃２０ｍに１
時間以上かけてゆっくりと３０％過酸化水素６−を加え
、室温で３．５時間放置した。 塩化メチ１７９１０％水酸化ナトリウムを加え、水、次
いでブラインで洗浄し、溶媒を除去し、標題化合物を得
た。 ＦＡＲ／Ｇｌｙ−Ｔｈｉｏ−ＭＳ：　ｍＨｚ　３３５　
（Ｍ”）塩酸塩。 支施拠旦 １−〔７−メドキシイミノー７−（４−メチルスルフォ
ニルフェニル）−へブチルコイミダゾール 実施例６０で製造した化合物１００　ｍｇ、エタノール
５　ｔｒｒｌ、水０．５　ｄおよびメトキシアミン塩酸
塩１２５■を室温で４．５時間攪拌した。大部分のエタ
ノールを窒素で除去し、塩化メチレンおよび１０％水酸
化ナトリウムを加えた。水、次いでブラインで洗浄し、
硫酸ナトリウムで乾燥し、標題化合物を得た。 １．１等量の０．ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製
造した。 ＦＡＢ／Ｇｌｙ−Ｔｈｉｏ−ＭＳ：　ｍＨｚ　３６４　
（Ｍ’）塩酸塩。 裏庭桝婬 １−〔７−ヒトロキシイミノー７−（４−メチルスルホ
ニルフェニル）−ヘプチルコイミダゾール 実施例６０で製造した化合物１３０■、呈りノール５−
１水０．５−およびヒドロキシルアミン塩酸塩１３５■
を室温で５時間撹拌した。エタノールを窒素で除去し、
塩化メチレン、１０％水酸化ナトリウムを加え、水次い
でブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、標題化
合物を得た。 １．１＃置の０．ＩＮ塩酸との反応により塩酸塩を製造
した。 ＦＡＲ／Ｇｌｙ−Ｔｈｉｏ−ＭＳ：　ｍＨｚ　３５０　
（Ｍ”）塩酸塩。 裏施■超 １−〔７−ヒトロキジー７−（４−メチルスルホニルフ
ェニル）−へブチルコイミダゾール実施例６０で製造し
た化合物１５０■、エタノール５ｄおよびホウ水素化ナ
トリウム３４ＴＩｇを室温で３時間攪拌した。溶媒（エ
タノール）を窒素で除去した。水および塩化メチレンを
加え、分配した。 水次いでブラインで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、
ＩＩＢ化合物を回収した。 １．０５等量の０．ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を
製造した。 ＦＡＲ／Ｇｌｙ−Ｔｈｉｏ−ＭＳ：　ｍＨｚ　３３７　
（Ｍ’）塩酸塩。 裏施斑財 Ｎ−（６−（１−イミダゾリル）ヘキサノイル〕−１−
アダマンタンアミン （ａ）　ＴＨＦ　２００　ｄ中アダマンタンアミン９．
５ｇおよび６−ブロモヘキサノイルクロライド１２ｇを
反応容器中０°Ｃで０．５時間攪拌した。　ＴＩＩＦを
除去し、塩化メチレン／水次いで塩化メチレン１５％塩
酸、次に塩化メチレン１５％炭酸ナトリウムおよび最後
に塩化メチレン／水で分配し、６−（１−アダマンクン
アミン）−６−オキソヘキシル−１−プロミドを得た。 （ｂ）実施例６４の（ａ）で製造した化合物１ｇおよび
イミダゾールナトリウム２ｇをＤＭＦ　２！ｌ＋ｄに加
え、室温で一晩攪拌した。真空下で溶媒を除去した。 １００χ塩化メチレン次いで５％メタノール／塩化メチ
レンで分配し、標題化合物を得た。 ０、ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 実新ｌ釦詞 １−　（６−（５−クロロ−２−メトキシ−４−メチル
フェニル）ヘキシル］イミダゾールおよび１−　（６−
（３−クロロ−６−メドキシー２−メチルフェニル）ヘ
キシルコイミダゾール（ａ）２−クロロ−５−メトキシ
トルエン１ｇをＴＨＦ　５０−に加え、−８°Ｃに冷却
し、その後ヘキサン中２．釦のｎ−ブチルリチウム４．
５ｄを加え、約ｌＯ°Ｃに暖め、次にＴＨＦ　５０１ｄ
中１．６−ジブロモヘキサン１０ｇおよびカリウムも一
ブトキシド２．２５　ｇの冷溶液に加えた。０．５時間
攪拌した後、室温に暖めた。−晩攪拌し、冷却し、溶媒
を除去した。水／塩化メチレンで分配し、１−　（６−
（３−クロロ−６−メドキシー２−メチルフェニル）ヘ
キシル〕フ゛ロミドとン昆合した１−（６−（５−クロ
ロ−２−メトキシ−４−メチルフェニルジ）ヘキシル〕
プロミドを得た。沸点１２０〜１４０°Ｃ（０，０５閣
Ｈｇ）（ｂ）　（ａ）工程で製造した混合物１．７８を
ＤＭＦ　２５ａｄｔ中イミダゾ一ルナトリウム３ｇに加
え、−晩攪拌した。溶媒を除去し、水／塩化メチレンで
分配した。 シリカカラムを用い１００χ塩化メチレン次いで１０％
メタノールで溶出し、標題化合物の混合物を得た。 それらはＩＩＰＬＣクロマトグラフィーによって分離さ
れた。 １．１等量の０．ＩＮ塩酸との反応によって標題化合物
の塩酸塩を製造した。 実益貫鈍 ■−（６−オキシ−６−（４−メトキシフェニル）ヘキ
シル］イミダゾール （ａ）アニソール１．１ｇを塩化メチレン１００　ｄ中
１−ブロモヘキサノイル２．２ｇに加えた。塩化アルミ
ニウム１．５ｇを加え、４５分間攪拌した。水、５％炭
酸水素ナトリウムおよび水で分配した。溶媒を除去し、
ｌ−〔６−オキシ−６−（４−メトキシフェノキシフェ
ニル）ヘキシル〕プロミドを回収したゆ（ｂ）　ＤＭＦ
　２Ｓｄ中（ａ）工程で製造した化合物２．６ｇおよび
イミダゾールナトリウム（４等りを室温で４８時間撹拌
した。水／塩化メチレンで分配した。 溶媒を除去した。シリカカラムを用い１００χ塩化メチ
レン次いで５％メタノールで溶出し、標題化合物を得た
。 ０、　ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 災隻班釘 １−〔６−オキシ−６−（２，４−ジメトキシフェニル
）ヘキシル］イミタソール （ａ）　２．４−ジメトキシフェニル１．４ｇおよび１
−ブロモヘキサノイルクロリド２．２ｇを塩化メチレン
１００ｄに加えた塩化スズ１．３を加え０．５時間撹拌
した。 水次いで５％炭酸水素ナトリウムで洗浄し、１−〔６−
オキシ−６−（２，４−ジメトキシフェニル）へキシル
〕プロミドを製造した。 （ｂ）　ＤＭＦ中イジイミダゾールナトリウム２ｇを（
ａ）工程で製造した化合物３ｇに加えた。４８時間攪拌
し、ＤＭＦを除去し、水／塩化メチレンで分配し、シリ
カカラムを用い１００χ塩化メチレン次いで５％メタノ
ール／塩化メチレンを用い溶出し、標題化合物を製造し
た。 ０、ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 １盗開朋 ■−〔６−ヒトロキシー６−（２，４−ジメトキシフェ
ニル）ヘキシル］イミダゾール エタノール５０ｄを実施例６７で製造した化合物１．３
ｇに加え、次いで水酸化ナトリウム０．５ｇを加えた。 ２．５時間攪拌し、溶媒を除去し、塩化メチレンで抽出
し、シリカカラムを用い１００χ塩化メチレン次いで５
％メタノール／塩化メチレンで溶出し、標題化合物を得
た。 災廉■競 １−（６−（２，４−ジメトキシフェニル）ヘキサ−５
−エニル〕−イミダゾール、塩酸塩実路例６８で製造し
た化合物０．２６６ｇを０．　ＩＮ塩酸１１−で処理し
、標題化合物を得た。 ス崖■測 １−〔６−オキシ−６−（２−クロロ−４−メトキシフ
ェニル）ヘキシル］イミダゾール（ａ）　ｍ−クロロア
ニソール２．８５ｇを塩化メチレン２００　ｄ中１−プ
ロモーヘキサジイルクロリド４．５’ｇに加えた。塩化
アルミニウム３．２ｇを加え、Ｚ．５時間攪拌した。水
を加え、−晩攪拌した。水／塩化メチレン、次いで５％
炭酸水素ナトリウム／塩化メチレンで分配した。シリカ
カラムを用いヘキサン次いで塩化メチレンで溶出し、１
−（６−オキシ−６−（２−クロロ−４−メトキシフェ
ニル）ヘキシル〕プロミドを製造した。 （ｂ）　（ａ）工程で製造した化合物１．５ｇを［１Ｍ
Ｆ　２５ａｄ中イミダゾール２．８ｇと水酸化ナトリウ
ム０．８ｇから製造したイミダゾールナトリウムに加え
、−晩攪拌した。溶媒を除去し、次いで塩化メチレン／
水で分配した。シリカカラムを用い１００％塩化メチレ
ン次いで５％メタノール／塩化メチレンで溶出し、標題
化合物と副産物としてペンチル、ｐ−、ＩＩ−、クロロ
アニソールケトンを得た。 ０、　ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 夫施拠■ １−〔６−ヒトロキシー６−（４−メトキシフェニル）
ヘキシル〕イミタソール エタノール５０ｄ中実施例６６で製造した標題化合物１
ｇにホウ水素化ナトリウム０．５ｇを加え、Ｚ．５時間
攪拌し、その後溶媒を除去した。塩化メチレンで抽出し
た。シリカカラムを用い１００％塩化メチレン次いで５
％メタノール／塩化メチレンで溶出し、標題化合物を得
た。 災旌拠及 １−　［６−（４−メトキシフェニル）ヘキサ−５−エ
ニル〕−イミダゾール　塩酸塩 実施例７１で製造した化合物０．５２９ｇをＯ，ＩＮ塩
酸２２ｄに加え、４！題化合物を製造した。 実差−■互 １−〔６−ヒトロキシー６−（２−クロロ−４−メトキ
シフェニル）ヘキシルコイミダゾールエタノール２５−
を実施例７０で製造した標題化合物３００■に加え、次
にホウ水素化ナトリウム４００■を加え、Ｚ時間攪拌し
た。溶媒を除去した。水／塩化メチレンで分配した。塩
化メチレン残留物をシリカカラムを用い１００％塩化メ
チレン次いで５％メタノール／塩化メチレンで溶出し、
標題化合物を製造した。 １巌ｆｊＪｌｉ １−　（６−（４−メトキシフェニル）ヘキシルコイミ
ダゾール 水１ｌＩｆを実施例７２で製造した化合物４００■に加
え、次に炭酸水素ナトリウム１００Ｎ続いてエタノール
２５ｄを加えた。　ＰｔＯ１００■を加え、３０ｐｓ　
ｉ下で水素を２０時間加えた。水／塩化メチレンで分配
した。シリカカラムを用い１００％塩化メチレン次いで
５％メタノール／塩化メチレンで溶出し、標題化合物を
製造した。 ０．１Ｎ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 １隻±邦 １−（６−（ナフタレン−２−オキシ）ヘキシルコイミ
ダゾール （ａ）　β−ナフトール５ｇを塩化メチレン１００ｍ１
に加え、次に１．６−ジブロモヘキサン２７１ｄを加え
、続いて硫酸アンモニウム　テトラｎ−ブチル０．５８
次に水７５１ｄおよび５０％水酸化ナトリウム２５ｄを
加えた。４８時間攪拌し、水／塩化メチレンで分配し、
塩化メチレンを除去し、０．１　ｍＨｇで残留物を蒸留
し、生成物！−（６−（ナフタレン−２−オキシ）ヘキ
シル〕プロミドを得た。 （ｂ）　（ａ）工程で製造した化合物２ｇをＤＭＦ　２
０ｄ中イミダゾ一ル２ｇおよび水酸化ナトリウム０．５
ｇの溶液に加え、−晩攪拌した。溶媒を除去し、塩化メ
チレン／水で分配した。シリカカラムを用い１００％塩
化メチレン次いで５％メタノールで溶出し、標題化合物
を製造した。 ０、　ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 １隻斑亘 １−　（６−（４−メチルチオフェノキシ）ヘキシルコ
イミダゾール （ａ）４−メチルチオ、フェノール１０ｇおよび１．６
−ジブロモヘキサンを塩化メチレン２００　ｄおよび水
１５０　ｄに加え、次いで硫酸アンモニウム　テトラｎ
−ブチルおよび５０％水酸化ナトリウム溶液５０ｍ１に
加えた。−晩攪拌し、水次いでブラインで洗浄し、塩化
メチレンを除去し、７０℃および９０°Ｃ浴中０、ｌｍ
Ｈｇで過剰のジブロモヘキサンを留去した。 （ｂ）　ｔ１ＭＦ中に水酸化ナトリウム１．５ｇおよび
イミダゾール５ｇを溶解した。（ａ）工程で製造した化
合物５ｇを加え、４８時間攪拌した。７８媒を除去し、
水／塩化メチレンで分配した。シリカカラムを用いｌＯ
Ｏ％塩化メチレン次いで５％メタノールで溶出し、標題
化合物を得た。 Ｑ、　ＩＮ塩酸との反応によって塩Ｍ塩を製造した。 実上斑Ｕ １−　（６−（４−メチルスルホニルフェノキシ）へキ
シルコイミダゾール 実施例７６で製造した標題化合物１ｇを酢酸５０ｍに加
えた０次いで３０％過酸化水素６ｄを加えた。 ３時間攪拌した。３０％過酸化水素を６ｄ以上加え、−
＠撹拌した。　ｐＨ１０〜１１にするのに十分量の１５
％水酸化ナトリウムを加えた。塩化メチレン／水で分配
した。塩化メチレンを除去し、標題化合物を回収した。 ０、ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 尖施炎邦 １−　（６−（４−メトキシフェニルチオ）ヘキシルク
イミダゾール （ａ）　　Ｐ−メルカプトアニソール１０ｇ５１．６−
ジプロモヘキサン５５−１水１５０　ａｆｆｉ、塩化メ
チレン２００　ｄ。 ５０％水酸化ナトリウ、ム５０ｄそして最後に硫酸アン
モニウムテトラｎ−ブチル２ｇを反応容器に加え、−晩
攪拌した。過剰のジブロモヘキサンを除去した。得られ
た残留物をヘキサンに加え、結晶性ジスルフィド副生成
物を除去し次にヘキサンを除去し、ｌ−（６−（４−メ
トキシフェニルチオ）ヘキサン〕プロミドを得た。 （ｂ）　ＤＭＦ中にイミダゾール５ｇおよび水酸化ナト
リウム１．５ｇを溶解した。（ａ）工程で製造した化合
物５ｇを加え、−晩攪拌した。溶媒を除去し、水／塩化
メチレンで分配した。塩化メチレンを溶出した。シリカ
カラムを用い１００％塩化メチレン次いで５％メタノー
ル／塩化メチレンで塩化メチレン画分を溶出し、標題化
合物を製造した。 ０、ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 裏旌班刊 １−　［６−（４−メトキシフェニルスルホニル）ヘキ
シルクイミダゾール 実施例７８で得た標題化合物３．５ｇを酢酸１２５　Ｉ
ｄに加え、次いで３０％過酸化水素２４Ｈ１を２４時間
間隔で２回に分けて加え、４８時間攪拌した。２５％水
酸化ナトリウムでｐＨをｌＯより大きくした。水／塩化
メチレンで分配した。１００％塩化メチレン次いで５％
メタノールを用いてシリカカラムで溶出した。 ０、　ＩＮ塩酸との反応によって塩酸塩を製造した。 代　理　人　弁理士　、よ　、Ｅ′、″）−一し く外４名）

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. （１）式 I または式II： Ｚ−Ｘ−Ｑ−Ｙ−Ｗ I 、Ｚ−Ｘ−Ｑ−Ｙ−Ｗ’−Ｙ−
   Ｑ−Ｘ−ＺII（式中、各Ｚはそれぞれ独立にｔｅｒｔ−
   ブチル、フェニル、ナフチルまたはアダマンチル、置換
   フェニル、（ここで置換基は、１個以上のハロゲン、低
   級アルコキシ、フェノキシ、ニトリル、ニトロ、フェニ
   ルスルホニル、低級アルキルスルホニル、オキサゾール
   −２−イル、低級アルカノイル、ベンゾイル、低級アル
   コキシカルボニル、低級アルキル、低級アルキルチオ、
   フェニル、フェニルアミノチオカルボニル、または低級
   アルキルアミノチオカルボニルである）、または環内に
   少なくとも１個の窒素を含み、残りの環原子は少なくと
   も１個の炭素、および任意にイオウまたは酸素である４
   〜６員の非置換または置換複素環（ここで置換基は１個
   以上のカルボキシ、ヒドロキシメチル、低級アルキル、
   低級アルキルカルボニル、またはアリール低級アルキル
   である）であり； ＸおよびＹはそれぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−Ｓ−
   、−ＳＯ＿２、▲数式、化学式、表等があります▼、▲
   数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表
   等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼、
   または▲数式、化学式、表等があります▼であり； 各Ｑはそれぞれ独立に２価の置換または非置換、直鎖ま
   たは枝分れ鎖低級アルカンジイル、低級アルカンジイル
   −シクロアルカンジイル−低級アルカンジイル、低級ア
   ルケンジイル、低級アルキンジイル、フェニレン、ジヒ
   ドロフランジイル、テトラヒドロフランジイル、テトラ
   ヒドロピランジイルまたは低級アルカンジイル−テトラ
   ヒドロフランジイル−低級アルカンジイル〔ここで置換
   基は１個以上のヒドロキシ、エポキシ、フッ素、塩素、
   アジド、またはアミノである〕であり；Ｗは一価の置換
   または非置換アリール基〔置換基は１個以上のヒドロキ
   シ、オキソ、アミノ、カルバモイル、カルボキシ、ニト
   リル、ニトロ、低級アルコキシカルボニル、ハロゲン、
   スルファミル、低級アルキル、低級アルキルチオ、低級
   アルコキシ、ヒドロキシ低級アルキル、低級アルコキシ
   カルボニル低級アルキル、アミノ低級アルキル、カルボ
   キシ低級アルキル、グアニジノ、チオウレイド、低級ア
   ルキルスルフォニルアミノ、アミノカルボニル低級アル
   キル、アリルオキシカルボニルメチルまたはカルバモイ
   ルオキシ低級アルキルである）、または４〜１０個の環
   原子を含む複素環式単環または縮合環（少なくとも１個
   の複素原子は窒素原子を含み、そして残りの環原子は少
   なくとも１個は炭素であり、そして任意にイオウまたは
   酸素である）であり、ただし、Ｗは置換または非置換イ
   ソオキサゾリルであることはなく；そして Ｗ′は二価のＷである〕で表わされる化合物またはその
   薬学的に受容される酸付加塩、もしくは塩基付加塩もし
   くは第四アミン塩またはその薬学的に受容される溶媒和
   物。
2. （２）式III： Ｚ＾１−Ｘ＾１−Ｑ＾１−Ｗ＾１III 〔式中、Ｑ＾１は炭素数５、６または７の低級アルカン
   ジイル、炭素数６、７または８の低級アルキンジイルま
   たは、メチルシクロヘキシルメチルであり； Ｗ＾１は非置換または置換イミダゾール−１−イル、プ
   リン−９−イル、イミダゾール−２−イル〔ここで置換
   基は１個以上の低級アルキル、ヒドロキシ低級アルキル
   、ニトロ、低級アルコキシカルボニル、カルボキシメチ
   ルまたはアミノカルボニルメチル）であり； Ｘ＾１は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
   化学式、表等があります▼、または▲数式、化学式、表
   等があります▼であり；そしてＺ＾１は ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、 または▲数式、化学式、表等があります▼ である〕で表わされる特許請求の範囲第１項記載の化合
   物またはその薬学的に受容される酸付加塩。
3. （３）式IV； ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （式中Ｒ＿１、Ｒ＿２およびＲ＿３はそれぞれ独立に水
   素、ヒドロキシ低級アルキルまたは低級アルキルであり
   、ただし、Ｒ＿２およびＲ＿３のうちの１個が低級アル
   キルである場合は、他方は水素である）で表わされる特
   許請求の範囲第１項記載の化合物またはその薬学的に受
   容される酸付加塩。
4. （４）式Ｖ； Ｚ＾２−Ｘ＾２−Ｑ＾２−Ｙ＾２−Ｗ＾２Ｖ〔式中、Ｚ
   ＾２はフェニル、置換フェニル（ここで置換基は独立に
   １個以上のハロゲン、低級アルキルチオ、低級アルキル
   スルホニル、低級アルコキシ、オキサゾール−２−イル
   、フェノキシである）、イミダゾール−１−イル、低級
   アルキル置換されたイミダゾール−１−イルまたはｔｅ
   ｒｔ−ブチルであり； Ｘ＾２は単結合−Ｏ−、▲数式、化学式、表等がありま
   す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、−Ｓ−、▲
   数式、化学式、表等があります▼または−ＳＯ＿２であ
   り； Ｑ＾２は炭素原子５、６または７個の低級アルカンジイ
   ル（任意に−ＯＨで置換される）、炭素原子６〜８個の
   低級アルキンジイル、またはメチルシクロヘキシルメチ
   ルであり； Ｙ＾２は単結合、−Ｓ−または−ＳＯ＿２−であり；そ
   してＷ＾２はイミダゾール−１−イル、置換イミダゾー
   ル−１−イル（ここで置換基は独立に１個以上の低級ア
   ルキル、ヒドロキシ低級アルキル、アミノ低級アルキル
   または低級アルコキシカルボニルである）、イミダゾー
   ル−２−イル、イミダゾール−４−イル、イミダゾール
   −５−イル、置換イミダゾール−２−イル、−４−イル
   または−５−イル（ここで置換基は独立に１個以上の低
   級アルキルまたはアリルオキシカルボニルメチルである
   ）、ピロリジン−１−イル、ベンゾイミダゾール−１−
   イル、１，４−ジヒドロ−４−オキソ−７−メチル−１
   ，８−３−カルボキシ−ナフチリジン−１−イル、プリ
   ン−９−イル、ピリジン−２−イル、ピラゾール−１−
   イル、またはベンゾイミダゾール−２−イルである） で表わされる特許請求の範囲第１項記載の化合物または
   その薬学的に受容される酸付加塩もしくは第四アミン塩
   。
5. （５）式VI； ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼であり； Ｒ＾４は水素、低級アルキルまたはヒドロキシ低級アル
   キルであり； Ｒ＾５は低級アルキルであり； Ｒ＾６およびＲ＾７は独立に１個以上の水素、低級アル
   キル、アミノ低級アルキルまたはニトロであり；Ｚ＾３
   は ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
   式、表等があります▼ であり； Ｘ＾３は▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、
   化学式、表等があります▼、−Ｓ−、−Ｏ−または▲数
   式、化学式、表等があります▼であり；Ｑ＾３は炭素原
   子５、６または７個の低級アルカンジイルであり、任意
   に−ＯＨで置換される） で表わされる特許請求の範囲第１項記載の化合物または
   その薬学的に受容される酸付加塩もしくは第四アミン塩
   。
6. （６）１−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェニル
   ）ヘキシル〕イミダゾール； ２−｛〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
   ヘキシル〕チオ｝−４，５−ジヒドロチアゾール−４−
   オン； ５−｛〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
   ヘキシル〕チオ｝−１−メチルテトラゾール； ２−｛〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
   ヘキシル〕チオ｝−３−ピリジノール；１−〔６−（２
   −クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘキシル〕テトラ
   ゾール； ２−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕テトラゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−１，２，４−トリアゾール；１−〔６−（２
   −クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘキシル〕−５−
   アミノ−テトラゾール；２−〔６−（２−クロロ−４−
   メトキシフェノキシ）ヘキシル〕−５−アミノ−テトラ
   ゾール；５−｛〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェ
   ノキシ）ヘキシル〕−アミノ｝−テトラゾール；１，３
   −ジ−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
   ヘキシル〕−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン
   −２，４−ジオン； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−１，２，３，４−テトラヒドロピリミジン−
   ２，４−ジオン； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−４−ヒドロキシメチルイミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−５−ヒドロキシメチルイミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−２−メチルイミダゾール；１−〔６−（２−
   クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘキシル〕−４−ニ
   トロイミダゾール；２−〔７−（２−クロロ−４−メト
   キシフェノキシ）ヘプチル〕−ピリジン； １−｛６−〔４−（４，５−ジヒドロ−２−オキサゾリ
   ル）フェノキシ〕ヘキシル｝イミダゾール；１−〔７−
   （２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘプチル〕−
   イミダゾ−ル； １−〔５−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ペ
   ンチル］−イミダゾール； １−〔１０−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）
   デシル〕−イミダゾール； ５−〔７−（１−イミダゾリル）ヘプチル〕−３−メチ
   ルイソキサゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕ベンゾイミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−２−ヒドロキシベンゾイミダゾール； Ｎ，Ｎ′−ビス−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフ
   ェノキシ）ヘキシル〕−２−ベンゾイミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−４−ヒドロキシメチルイミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−５−ヒドロキシメチルイミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−ピロリジン； １−〔６−（１−イミダゾリル）ヘキシル〕イミダゾー
   ル； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−１，４−ジヒドロ−４−オキソ−７−メチル
   −１，８−ナフチリジン−３−カルボン酸ナトリウム； １−〔６−（２−メチル−１−イミダゾリル）ヘキシル
   〕−２−メチルイミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−３−ピラゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−５−ピラゾール； ９−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕プリン； ７−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕プリン； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾ
   ール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−５−メチル−４−ヒドロキシメチルイミダゾ
   ール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−２−エチルイミダゾール；２−〔６−（２−
   クロロ−４−メトキシフェノキシ）−１−ヘキシルチオ
   〕ベンゾイミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−４−メチル−２−エチルイミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−５−メチル−２−エチルイミダゾール； １−〔３−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）プ
   ロピル〕−イミダゾール； ２−〔７−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   プチル〕−１−メチルイミダゾール；２−〔７−（２−
   クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘプチル〕−イミダ
   ゾール； ２−〔７−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   プチル〕−１−ブチルイミダゾール；１−〔６−（４−
   フェノキシフェノキシ）ヘキシル〕イミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−４，５−イミダゾールジカルボン酸ジメチル
   ； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−４，５−ジ（ヒドロキシメチル）イミダゾー
   ル； ｔｒａｎｓ−１−〔（２−クロロ−４−メトキシフェノ
   キシ）メチル〕−４−〔（１−イミダゾリル）メチル〕
   シクロヘキサン； １−（９，９−ジメチル−デカ−７−イニル）イミダゾ
   ール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−３−メチルイミダゾリウムヨージド； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−４−アミノメチルイミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−５−アミノメチルイミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キシル〕−４，５−ジメチルイミダゾール；１−〔６−
   （２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘキシル〕−
   ２−ヒドロキシメチルイミダゾール； １−アリルオキシカルボニルメチル−２− 〔７−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘプチ
   ル〕イミダゾール； １−カルボキシメチル−２−〔７−（２−クロロ−４−
   メトキシフェノキシ）ヘプチル〕イミダゾール； １−〔６−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘ
   キサ−２−イニル〕イミダゾール；１−アセタミド−２
   −〔７−（２−クロロ−４−メトキシフェノキシ）ヘプ
   チル〕イミダゾール； １−（２−ヒドロキシエチル）−２−〔７−（２−クロ
   ロ−４−メトキシフェノキシ）ヘプチル〕イミダゾール
   ； １−（８−フェニル−オクタ−７−イニル）イミダゾー
   ル： １−〔６−ヒドロキシ−６−（２−クロロ−４−メチル
   フェニル）ヘキシル〕イミダゾール；１−〔７−オキシ
   −７−（４−メトキシフェニル）ヘプチル〕イミダゾー
   ル； １−〔７−ヒドロキシ−７−（４−メトキシフェニル）
   ヘプチル〕イミダゾール； １−〔７−（４−メトキシフェニル）−ヘプタ−６−エ
   ニル〕イミダゾール塩酸塩； １−〔７−ヒドロキシイミノ−７−（４−メトキシフェ
   ニル）ヘプチル〕イミダゾール；１−〔７−（４−メト
   キシフェニル）ヘプチルイミダゾール； １−〔７−オキソ−７−（４−メチルチオフェニル）ヘ
   プチル〕イミダゾール； １−〔７−ヒドロキシイミノ−７−（４−メチルチオフ
   ェニル）ヘプチル〕イミダゾール；１−〔７−ヒドロキ
   シ−７−（４−メチルチオフェニル）ヘプチル〕イミダ
   ゾール； １−〔７−オキソ−７−（４−メチルスルホニルフェニ
   ル）ヘプチル〕イミダゾール； １−〔７−メトキシイミノ−７−（４−メチルスルホニ
   ルフェニル）ヘプチル〕イミダゾール；１−〔７−ヒド
   ロキシイミノ−７−（４−メチルスルホニルフェニル）
   ヘプチル〕イミダゾール； １−〔７−ヒドロキシ−７−（４−メチルスルホニルフ
   ェニル）ヘプチル〕イミダゾール；Ｎ−〔６−（１−イ
   ミダゾリル）ヘキサノイル〕−１−アダマンタンアミン
   ； １−〔６−（５−クロロ−２−メトキシー４−メチルフ
   ェニル）ヘキシル〕イミダゾール；１−〔６−（３−ク
   ロロ−６−メトキシ−２−メチルフェニル）ヘキシル〕
   イミダゾール；１−〔６−オキシ−６−（４−メトキシ
   フェニル）ヘキシル〕イミダゾール： １−〔６−オキシ−６−（２，４−ジメトキシフェニル
   ）ヘキシル〕イミダゾール； １−〔６−ヒドロキシ−６−（２，４−ジメトキシフェ
   ニル）ヘキシル〕イミダゾール； １−〔６−（２，４−ジメトキシフェニル）ヘキサ−５
   −エニル〕イミダゾール塩酸塩； １−〔６−オキシ−６−（２−クロロ−４−メトキシフ
   ェニル）ヘキシル〕イミダゾール；１−〔６−ヒドロキ
   シ−６−（４−メトキシフェニル）ヘキシル〕イミダゾ
   ール； １−〔６−（４−メトキシフェニル）ヘキサ−５−エニ
   ル〕イミダゾール塩酸塩； １−〔６−ヒドロキシ−６−（２−クロロ−４−メトキ
   シフェニル）ヘキシル〕イミダゾール；１−〔６−（４
   −メトキシフェニル）ヘキシル〕イミダゾール； １−〔６−（ナフタレン−２−オキシ）ヘキシル〕イミ
   ダゾール； １−〔６−（４−メチルチオフェノキシ）ヘキシル〕イ
   ミダゾール； １−〔６−（４−メチルスルホニルフェノキシ）ヘキシ
   ル〕イミダゾール； １−〔６−（４−メトキシフェニルチオ）ヘキシル〕イ
   ミダゾール；および １−〔６−（４−メトキシフェニルスルホニル）ヘキシ
   ル〕イミダゾール からなる群より選ばれた特許請求の範囲第１項記載の化
   合物。
7. （７）ウィルス感染もしくは炎症の治療または血小板活
   性化因子の阻害に有用な薬学的組成物を製造するための
   特許請求の範囲第１項〜第６項のいずれか１項に記載の
   式 I またはIIの化合物の使用。
8. （８）有効量の特許請求の範囲第１項〜第６項のいずれ
   か１項に記載の式 I またはIIの化合物を投与すること
   からなるウィルス感染もしくは炎症を治療し、または血
   小板活性化因子を阻害する方法。
9. （９）特許請求の範囲第１項〜第６項のいずれか１項記
   載の式 I またはIIを持つことを特徴とする、治療を目
   的とする化合物。
10. （１０）（Ａ）式 I の化合物を製造するために、次式
    の化合物： Ｚ−Ｘ−Ｑ′−Ｌ＾１ 〔式中、ＺおよびＸは特許請求の範囲第１項に定義した
    通りであり； Ｑ′は特許請求の範囲第１項に定義した Ｑと同じであるか、または式 I で規定されたＱが少な
    くとも１個の▲数式、化学式、表等があります▼基 （ここで各Ｒは独立に水素または低級アルキルである）
    を含む場合にはＱ′は少なくとも１個の▲数式、化学式
    、表等があります▼基を含まない特許請求の範囲第１項
    で定義されたＱと同じであってよく；そして Ｌ＾１は離脱基である〕を、次式で表わされる化合物： Ｌ＾２−Ｙ′−Ｗ″ 〔式中、Ｌ＾２は離脱基であり； Ｗ″は特許請求の範囲第１項でＷとして 定義された通りであるか、またはその互変異異性体であ
    り；そして Ｙ′は特許請求の範囲第１項で定義され たＹと同じであるか、または、式 I で規定されたＱが
    少なくとも１個の▲数式、化学式、表等があります▼基 （ここで各Ｒは独立に水素または低級アルキルである）
    を含む場合には、Ｙ′はまた少なくとも１個の▲数式、
    化学式、表等があります▼を含む特許請求の範囲第１項
    で定義されたＹと同じであってよい〕と反応させ、また
    は（Ｂ）式IIの化合物および可能である場合には式 I
    の化合物を製造するために、少なくとも１種の次式の化
    合物； Ｚ−Ｘ−Ｑ′−Ｌ＾１ （式中、Ｚ、Ｘ、Ｑ′およびＬ＾１は先に定義した通り
    である）を次式の化合物； Ｌ＾３−Ｙ′−Ｗ″′−Ｙ′−Ｌ＾４ （式中、Ｌ＾３およびＬ＾４は離脱基であり；各Ｙ′は
    独立に先に定義した通りであり； そして Ｗ″′は先に定義した二価Ｗ′である）と反応させ、ま
    たは、 （Ｃ）式 I の化合物（式中、ＺとＷは同じ、そしてＸ
    とＹは同じである）を製造するために、次式の化合物； Ｌ＾２−Ｙ′−Ｗ″ （式中、Ｙ′およびＷ″は先に定義した通りであり；そ
    して Ｌ＾２は離脱基である）を、次式の化合物；Ｌ＾５−Ｑ
    ″−Ｌ＾６ （式中、Ｌ＾５およびＬ＾６は離脱基であり；そしてＱ
    ″は先に定義した通り二価のＱ′であ る）と反応させる、ことから成り； 上記の方法において、反応基を所望によりまたは必要に
    より保護し、 上記方法は、必要によりまたは所望により （ｉ）保護基を除去し、 （ｉｉ）製造された化合物を式 I または式IIの他の化
    合物へ変換し、 （ｉｉｉ）式 I またはIIの化合物が１種以上製造さた
    場合には、製造された化合物を分離し、または（ｉｖ）
    製造された化合物のいずれかの酸付加塩、塩基付加塩、
    もしくは第四アミン塩またはその薬学的に受容される溶
    媒和物へ転換する、 ことから成る特許請求の範囲第１項記載の式 I または
    IIの化合物を製造する方法。