JPS63188645A - アリールエーテルケトン - Google Patents
アリールエーテルケトンInfo
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- C07C45/68—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
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- C07C45/71—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by reaction with functional groups containing oxygen only in singly bound form being hydroxy groups
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- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/76—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring
- C07C49/84—Ketones containing a keto group bound to a six-membered aromatic ring containing ether groups, groups, groups, or groups
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は次式で表わされる新規なアリールエーテルケト
ンに関する。
ンに関する。
■
この式中nは0〜5の数、Xは+1
(き(X又は+0 +を意味し、Yは
三級ブチル基、アセチル基、ベンジル基、ベンゾイル基
又は三級ブトキシカルボニル基で、nがOの場合はHで
あってもよい。さらにこの化合物はCI〜C8−アルキ
ル基、C8〜C6−アルコキシ基、アリール基、塩素原
子又は弗素原子により核置換されていてもよい。
又は三級ブトキシカルボニル基で、nがOの場合はHで
あってもよい。さらにこの化合物はCI〜C8−アルキ
ル基、C8〜C6−アルコキシ基、アリール基、塩素原
子又は弗素原子により核置換されていてもよい。
本発明はさらに式Iの化合物を単量体として、(Δ)5
0〜100モル%の一般式 又はその核置換された01〜C8−アルキル、C1〜C
5−アルコキシ、アリール、塩素化又は弗素化誘導体で
表わされる繰返し単位及び(B)0〜50モル%の一般
式 又はその核置換された01〜C8−アルキル、呻C1〜
C8−アルコキシ、アリール、 塩素化又は弗素化誘導体(Q、Q’、Y、 Y’、T。
0〜100モル%の一般式 又はその核置換された01〜C8−アルキル、C1〜C
5−アルコキシ、アリール、塩素化又は弗素化誘導体で
表わされる繰返し単位及び(B)0〜50モル%の一般
式 又はその核置換された01〜C8−アルキル、呻C1〜
C8−アルコキシ、アリール、 塩素化又は弗素化誘導体(Q、Q’、Y、 Y’、T。
1、Z及びZ′は一〇−1−Co−又は化学結合であっ
て、それらの少なくとも1個は一〇〇−基であり、そし
てs、を及びUはそれぞれ0又は1を意味する)で表わ
される繰返し単位から構成される高温安定なポリアリー
ルエーテルケトンの製造に使用することに関する。
て、それらの少なくとも1個は一〇〇−基であり、そし
てs、を及びUはそれぞれ0又は1を意味する)で表わ
される繰返し単位から構成される高温安定なポリアリー
ルエーテルケトンの製造に使用することに関する。
EP−A1879によれば、次式
で表わされる繰返し単位(その50モル%まで他のポリ
アリールエーテルケトン単位を含有しうる)を有するボ
リアリールエーテルケトンが知られている。この化合物
は多くの使用目的において、満足しうる熱安定性を有し
ない。そのほかここで単量体として用いられる4、4′
−ジフルオルペンゾフエノンはきわめて高価である。
アリールエーテルケトン単位を含有しうる)を有するボ
リアリールエーテルケトンが知られている。この化合物
は多くの使用目的において、満足しうる熱安定性を有し
ない。そのほかここで単量体として用いられる4、4′
−ジフルオルペンゾフエノンはきわめて高価である。
本発明の課題は、良好な熱安定性を有するボリアリール
エーテルケトンを製造するための簡単かつ安価に入手し
うる単量体を開発することであった。
エーテルケトンを製造するための簡単かつ安価に入手し
うる単量体を開発することであった。
本発明は前記式Iのアリールエーテルケトンによりこの
課題を解決したものである。この場合原則として芳香族
単位は01〜C8−アルキル基、C1〜C8−アルコキ
シ基、アリール基、塩素原子又は弗素原子により置換さ
れていてもよい。この種の置換基の例は、メチル基、エ
チル基、イソプロピル基、n−11−及びt−ブチル基
、対応するアルコキシ基及びフェノキシ基である。
課題を解決したものである。この場合原則として芳香族
単位は01〜C8−アルキル基、C1〜C8−アルコキ
シ基、アリール基、塩素原子又は弗素原子により置換さ
れていてもよい。この種の置換基の例は、メチル基、エ
チル基、イソプロピル基、n−11−及びt−ブチル基
、対応するアルコキシ基及びフェノキシ基である。
普通は非置換のものが好ましい。
アリールエーテルケトン(1)の製造は、好ましくは次
のようにして行われる。すなわち次式0式% (2は求核性に脱離する基、例えば弗素原子、臭素原子
、塩素原子、トシル(p−1ルオールスルホニル)基又
はメシル(メタンスルホニル)基である)の芳香族ケト
ンを、次式 (Yは前記式■におけるアルコール保護基である)のヒ
ドロキノン誘導体と、塩基例えばアルカリ又はアルカリ
土類金属の炭酸塩、水酸化物又はアルコラード、例えば
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、ナ
トリウムメチラート、水酸化カリウム又はカリウムメチ
ラート、あるいはアルカリ金属のアミド又は水素化物、
例えばナトリウムアミド、水素化ナトリウム、カリウム
アミド又は水素化カリウムの存在下に、希釈剤中で反応
させる。ヒドロキシル化合物(y=H)を製造するため
には、アルコール保護基を常法により、例えば酸例えば
塩酸のような鉱酸な用いて脱離させることができる。
のようにして行われる。すなわち次式0式% (2は求核性に脱離する基、例えば弗素原子、臭素原子
、塩素原子、トシル(p−1ルオールスルホニル)基又
はメシル(メタンスルホニル)基である)の芳香族ケト
ンを、次式 (Yは前記式■におけるアルコール保護基である)のヒ
ドロキノン誘導体と、塩基例えばアルカリ又はアルカリ
土類金属の炭酸塩、水酸化物又はアルコラード、例えば
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、ナ
トリウムメチラート、水酸化カリウム又はカリウムメチ
ラート、あるいはアルカリ金属のアミド又は水素化物、
例えばナトリウムアミド、水素化ナトリウム、カリウム
アミド又は水素化カリウムの存在下に、希釈剤中で反応
させる。ヒドロキシル化合物(y=H)を製造するため
には、アルコール保護基を常法により、例えば酸例えば
塩酸のような鉱酸な用いて脱離させることができる。
合成工程は原則的に、p−三級プトキシフエ/−ル及ヒ
1.4−シー(4−クロルベンソイル)−ヘンゾールか
ら出発する1、4−ビス−(p−ヒドロキシフェノキシ
ベンゾイル)−ペンゾールの製造を例として、次式によ
り示される。
1.4−シー(4−クロルベンソイル)−ヘンゾールか
ら出発する1、4−ビス−(p−ヒドロキシフェノキシ
ベンゾイル)−ペンゾールの製造を例として、次式によ
り示される。
Z、−1−o(XoH+ al(yco(〉co(Xc
x゛子ト◎−0QCOQCOQO−tQト十出発物質■
及び■は一般に既知であるか、あるいは既知方法により
容易に入手できる。
x゛子ト◎−0QCOQCOQO−tQト十出発物質■
及び■は一般に既知であるか、あるいは既知方法により
容易に入手できる。
この反応は自体既知の方法により行われるので、その原
則的事項だけを以下に説明する。芳香族ケトン(It)
の1モルに対し、好ましくはヒドロキノン誘導体■の2
モル及び塩基0.2〜2.5モルを使用する。反応は不
活性の有機溶剤又は希釈剤の存在下に行われる。そのた
めには特に中性溶剤、例えばN−メチルピロリドン、ス
ルホラン、ジメチルプロピレン尿素、ジメチルエチレン
尿素、テトラブチル尿素又はヘキサメチル燐酸トリアミ
ドが好ましい。反応温度は特に制限はないが、一般に8
0〜220℃好ましくは140〜190℃である。
則的事項だけを以下に説明する。芳香族ケトン(It)
の1モルに対し、好ましくはヒドロキノン誘導体■の2
モル及び塩基0.2〜2.5モルを使用する。反応は不
活性の有機溶剤又は希釈剤の存在下に行われる。そのた
めには特に中性溶剤、例えばN−メチルピロリドン、ス
ルホラン、ジメチルプロピレン尿素、ジメチルエチレン
尿素、テトラブチル尿素又はヘキサメチル燐酸トリアミ
ドが好ましい。反応温度は特に制限はないが、一般に8
0〜220℃好ましくは140〜190℃である。
得られた生成物は、既知の方法によりアルコール機能を
遊離化できる。それは例えばストライトウイーザー・ヒ
ートコック及びマクミラン著イントロダクション・オプ
ーオーガニツク・ケミストリー226頁に記載されてい
るので、詳細な説明は省略する。
遊離化できる。それは例えばストライトウイーザー・ヒ
ートコック及びマクミラン著イントロダクション・オプ
ーオーガニツク・ケミストリー226頁に記載されてい
るので、詳細な説明は省略する。
前記の反応及びそれに続く精製例えば結晶化ののち、ヒ
ドロキシル化アリールエーテルケトン(Y=H)が、良
好な収率及び高純度で単離される。この物質は重合又は
重縮合のための単量体として好適であって、特に好まし
くは前記のポリアリールエーテルケトンを製造するため
に用いられる。
ドロキシル化アリールエーテルケトン(Y=H)が、良
好な収率及び高純度で単離される。この物質は重合又は
重縮合のための単量体として好適であって、特に好まし
くは前記のポリアリールエーテルケトンを製造するため
に用いられる。
この種のポリアリールエーテルケトンの製造は、既知の
求核性又は求電子性方法により行われる。
求核性又は求電子性方法により行われる。
製法の第一法としては、ジヒドロキシ化合物とジハロゲ
ン化合物の重縮合があげられ、これは一般に公知である
。この場合は単量体として、例エバ4.4’−ジー(4
−ヒドロキシフェノキシ)、<ンゾフエノント1.4−
ジー(4−フルオルベンソイル)−ペンゾール、アルい
ハ4.4’−シー(4−(4−ヒドロキシフェノキシ)
−ペンソイルツーペンゾールと4.4’−ジクロルベン
ゾフェノンを使用する。
ン化合物の重縮合があげられ、これは一般に公知である
。この場合は単量体として、例エバ4.4’−ジー(4
−ヒドロキシフェノキシ)、<ンゾフエノント1.4−
ジー(4−フルオルベンソイル)−ペンゾール、アルい
ハ4.4’−シー(4−(4−ヒドロキシフェノキシ)
−ペンソイルツーペンゾールと4.4’−ジクロルベン
ゾフェノンを使用する。
ポリアリールエーテルケトンを製造するための操作条件
、例えば温度、圧力、適当な溶剤及び場合により添加物
(触媒)は、EP−A1879号明細書に記載のものと
同じであるから、詳細な説明は省略する。
、例えば温度、圧力、適当な溶剤及び場合により添加物
(触媒)は、EP−A1879号明細書に記載のものと
同じであるから、詳細な説明は省略する。
中性極性溶剤中で塩基としての無水炭酸アルカリの存在
における反応が好ましい。溶剤としてのジフェニルスル
ホンと塩基としてのに2C03の組合わせは特に好まし
い。ジフェニルスルホンの量は、一般に単量体1モルに
対し5〜100モル、好ましくは5〜20モルである。
における反応が好ましい。溶剤としてのジフェニルスル
ホンと塩基としてのに2C03の組合わせは特に好まし
い。ジフェニルスルホンの量は、一般に単量体1モルに
対し5〜100モル、好ましくは5〜20モルである。
この場合は反応溶液中の固形物含量は、好ましくは5〜
50重量%特に10〜40重量%である。
50重量%特に10〜40重量%である。
重縮合において生成した水は、共沸形成体により、減圧
の適用により又は好ましくは窒素気流を導入して留去す
ることにより、除去することができる。共沸形成体とし
ては、常圧で反応温度の範囲内で沸騰し、そして化学反
応することなく反応混合物と均一に混合しつるすべての
化合物が適する。
の適用により又は好ましくは窒素気流を導入して留去す
ることにより、除去することができる。共沸形成体とし
ては、常圧で反応温度の範囲内で沸騰し、そして化学反
応することなく反応混合物と均一に混合しつるすべての
化合物が適する。
反応温度は一般に150〜400℃好ましくは250〜
400°C特に250〜350℃である。反応時間は希
望の縮合度に依存するが、普通は0.1〜15時間であ
る。
400°C特に250〜350℃である。反応時間は希
望の縮合度に依存するが、普通は0.1〜15時間であ
る。
重縮合に続いて安定化するため、遊離フェノラート末端
基をアリール化剤又はアルキル化剤例えば塩化メチレン
と反応させる。これは好ましくは650℃以下の温度で
行われ、その際温度の下限は重合体の使用溶剤への溶解
性に依存する。
基をアリール化剤又はアルキル化剤例えば塩化メチレン
と反応させる。これは好ましくは650℃以下の温度で
行われ、その際温度の下限は重合体の使用溶剤への溶解
性に依存する。
生成物の仕上げ処理は、自体既知の方法により行われる
。溶融物から微粒状物を生成することが好ましく、これ
は適当な溶剤例えばアセトンで抽出することにより溶剤
(例えばジフェニルスルホン)から除去される。次いで
炭酸アルカリ及び弗化アルカリの残部を、水で抽出する
ことにより除去できる。
。溶融物から微粒状物を生成することが好ましく、これ
は適当な溶剤例えばアセトンで抽出することにより溶剤
(例えばジフェニルスルホン)から除去される。次いで
炭酸アルカリ及び弗化アルカリの残部を、水で抽出する
ことにより除去できる。
既知のフリーデル−クラフッアシル化法による他の求電
子的方法でポリアリールエーテルケトンを製造するため
の条件は、例えばEP−A 124276.13899
0及び米国特許3956240各明細書に記載されてい
る。
子的方法でポリアリールエーテルケトンを製造するため
の条件は、例えばEP−A 124276.13899
0及び米国特許3956240各明細書に記載されてい
る。
式■のポリアリールエーテルケトンにおいて式■及び/
又は■の単位(これは前記の式■の繰返し単位を有する
ポリアリールエーテルケトンの製造のため記載されたも
のと基本的に同じ操作条件で製造される)は、統計的に
分布し又はブロック状で存在しうる。このポリアリール
エーテルケトンについての詳細は、西独特許出願公開3
700810号明細書に記載されている。
又は■の単位(これは前記の式■の繰返し単位を有する
ポリアリールエーテルケトンの製造のため記載されたも
のと基本的に同じ操作条件で製造される)は、統計的に
分布し又はブロック状で存在しうる。このポリアリール
エーテルケトンについての詳細は、西独特許出願公開3
700810号明細書に記載されている。
単量体アリールエーテルケトンの製造例:実施例1
4.4′−ジー三級ブトキシフェノキシ−ベンゾフェノ
ン p−三級ブトキシフェノール176.9 (1,06モ
ル)ヲ、4.4′−ジクロルベンゾフェノン143.9
(0,5モル)及び炭酸カリウム76.9と、N−メチ
ルピロリドン250mA’の中で18o〜190°Cで
1時間反応させる。冷却後、反応混合物に激しく攪拌し
ながら水100m1を添加し、沈殿を吸引濾過し、メタ
ノールから再結晶する。
ン p−三級ブトキシフェノール176.9 (1,06モ
ル)ヲ、4.4′−ジクロルベンゾフェノン143.9
(0,5モル)及び炭酸カリウム76.9と、N−メチ
ルピロリドン250mA’の中で18o〜190°Cで
1時間反応させる。冷却後、反応混合物に激しく攪拌し
ながら水100m1を添加し、沈殿を吸引濾過し、メタ
ノールから再結晶する。
融点182℃の無色結晶が169.9(理論値の約85
%)得られる。
%)得られる。
実施例2
1.4−ジー(p−三級ブトキシフェノキシベンゾイル
)−ペンゾール 実施例1と同様にして、p−三級ブトキシフェノール1
66、!i+(1モル)をジー(4−クロルベンゾイル
)−ペンゾール195g(0,5モル)と、N、N’−
ジメチルエチレン尿素250 ml及び炭酸カリウム7
6.9の中で反応させ、仕上げ処理する。融点221°
Cの無色結晶が295g(理論値の約96%)得られる
。
)−ペンゾール 実施例1と同様にして、p−三級ブトキシフェノール1
66、!i+(1モル)をジー(4−クロルベンゾイル
)−ペンゾール195g(0,5モル)と、N、N’−
ジメチルエチレン尿素250 ml及び炭酸カリウム7
6.9の中で反応させ、仕上げ処理する。融点221°
Cの無色結晶が295g(理論値の約96%)得られる
。
実施例3
1.4−シー(p−ヒドロキシフェノキジペンゾイル)
−ペンゾール 水20 D ml中の1.4−ジー(p−三級ブトキシ
フェノキシベンゾイル)−ペンゾール156゜59(0
,25モル)の懸濁液に、室温で濃塩酸100m1を徐
々に滴加する。次いで60°Cで2時間攪拌し、冷却後
固形物質を吸引濾過し、メタノールから再結晶して乾燥
する。融点266“Cの無色結晶が119g(理論値の
約95%)引4 た ↓リ 1 実施例4 4.4′−ジー(p−三級ブトキシフェノキシベンゾイ
ル)−ジフェニル o O 実施例1と同様にして、p−三級ブトキシフェノール1
66g(1モル)を4,4′−ジー(4−フルオルベン
ゾイル)−ジフェニル199g(0,5モル)と、N−
メチルピロリドン250m1及び炭酸カリウム76gの
中で反応させ、仕上げ処理する。融点225℃の無色結
晶が617y(理論値の約92%)得られる。
−ペンゾール 水20 D ml中の1.4−ジー(p−三級ブトキシ
フェノキシベンゾイル)−ペンゾール156゜59(0
,25モル)の懸濁液に、室温で濃塩酸100m1を徐
々に滴加する。次いで60°Cで2時間攪拌し、冷却後
固形物質を吸引濾過し、メタノールから再結晶して乾燥
する。融点266“Cの無色結晶が119g(理論値の
約95%)引4 た ↓リ 1 実施例4 4.4′−ジー(p−三級ブトキシフェノキシベンゾイ
ル)−ジフェニル o O 実施例1と同様にして、p−三級ブトキシフェノール1
66g(1モル)を4,4′−ジー(4−フルオルベン
ゾイル)−ジフェニル199g(0,5モル)と、N−
メチルピロリドン250m1及び炭酸カリウム76gの
中で反応させ、仕上げ処理する。融点225℃の無色結
晶が617y(理論値の約92%)得られる。
実施例5
4.4′−ジー(p−ヒドロキシフェノキシベンゾイル
)−ジフェニル o O 実施例3と同様にして、4,4′−ジー(p−三級ブト
キシフェノキシベンゾイル)−ジフェニル172.59
(0,25−T−ル)を、水200 ml中で濃塩酸
100m/!と反応させ、仕上げ処理する。
)−ジフェニル o O 実施例3と同様にして、4,4′−ジー(p−三級ブト
キシフェノキシベンゾイル)−ジフェニル172.59
(0,25−T−ル)を、水200 ml中で濃塩酸
100m/!と反応させ、仕上げ処理する。
融点241℃の無色結晶が136g(理論値の約94%
)得られる。
)得られる。
ポリアリールエーテルケトンの製造例:実施例6
4.4′−ジー(4−ヒドロキシフェノキシ)−ベンゾ
フェノン79.68 F (0,2モル)、ビス−(4
−フルオルベンゾイル)−ペンゾール64、46 jj
(0,2モル)、炭酸カリウム30.41g(0,2
2モル)及ヒシフェニルスルホン800、!9を、攪拌
器、窒素導入器、内部温度計及び空気冷却器を備えた4
つロガラスフラスコ中で200℃に加熱する。この温度
で2時間保持したのち、240℃に昇温して1時間保持
し、280℃に昇温して1時間保持し、さらに620°
Cに昇温して1時間保持する。
フェノン79.68 F (0,2モル)、ビス−(4
−フルオルベンゾイル)−ペンゾール64、46 jj
(0,2モル)、炭酸カリウム30.41g(0,2
2モル)及ヒシフェニルスルホン800、!9を、攪拌
器、窒素導入器、内部温度計及び空気冷却器を備えた4
つロガラスフラスコ中で200℃に加熱する。この温度
で2時間保持したのち、240℃に昇温して1時間保持
し、280℃に昇温して1時間保持し、さらに620°
Cに昇温して1時間保持する。
冷却後、反応混合物を粉砕し、得られた微粉末をジフェ
ニルスルホン及び無機物質を除去するため、熱アセトン
で10分間ずつ4回、沸騰水で10分間ずつ3回、そし
て再度アセトンで5分間洗浄する。得られた重合体を1
50℃で10時間真空乾燥する。この重合体はDSC測
定により、151℃のガラス転移温度及び652℃の溶
融温度を有する。還元粘度は1.41である(濃硫酸中
で測定)。
ニルスルホン及び無機物質を除去するため、熱アセトン
で10分間ずつ4回、沸騰水で10分間ずつ3回、そし
て再度アセトンで5分間洗浄する。得られた重合体を1
50℃で10時間真空乾燥する。この重合体はDSC測
定により、151℃のガラス転移温度及び652℃の溶
融温度を有する。還元粘度は1.41である(濃硫酸中
で測定)。
同じ方法で製造された大量の重合体は、問題なしにかつ
分子量の変化なしに400℃で押出しできる。
分子量の変化なしに400℃で押出しできる。
実施例7
4.4′−ビス−(4−(4−ヒドロキシフェノキシ)
−ベンゾイル〕−ペンゾール100.50fl (0,
2モル)、4,4′−ジフルオルベンゾフエノン45.
64 g(0,2モル)及び炭酸カリウム30、41
g(0,22モル)を、実施例6と同様′にしてジフェ
ニルスルホン800g中で反応すせる。得られた重合体
は1.38の還元粘度を有する(濃硫酸中で測定)。そ
の物理的性質は実施例6の生成物と同じである。
−ベンゾイル〕−ペンゾール100.50fl (0,
2モル)、4,4′−ジフルオルベンゾフエノン45.
64 g(0,2モル)及び炭酸カリウム30、41
g(0,22モル)を、実施例6と同様′にしてジフェ
ニルスルホン800g中で反応すせる。得られた重合体
は1.38の還元粘度を有する(濃硫酸中で測定)。そ
の物理的性質は実施例6の生成物と同じである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I (nは0〜5の数、Xは▲数式、化学式、表等がありま
す▼、▲数式、化学式、表等があります▼ 又は▲数式、化学式、表等があります▼を意味し、Yは
三級ブチル基、 アセチル基、ベンジル基、ベンゾイル基又は三級ブトキ
シカルボニル基で、nが0の場合はHであつてもよい)
で表わされるアリールエーテルケトン又はその核置換さ
れたC_1〜C_8−アルキル、C_1〜C_8−アル
コキシ、アリール、塩素化又は弗素化誘導体。 2、(A)50〜100モル%の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼IV 又はその核置換されたC_1〜C_8−アルキル、C_
1〜C_8−アルコキシ、アリール、塩素化又は弗素化
誘導体で表わされる繰返し単位及び(B)0〜50モル
%の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼V 及び/又は ▲数式、化学式、表等があります▼VI 又はその核置換されたC_1〜C_8−アルキル、C_
1〜C_8−アルコキシ、アリール、塩素化又は弗素化
誘導体(Q、Q′、Y、Y′、T、T′、Z及びZ′は
−O−、−CO−又は化学結合であつて、それらの少な
くとも1個は−CO−基であり、そしてs、t及びuは
それぞれ0又は1を意味する)で表わされる繰返し単位
から構成される高温安定なポリアリールエーテルケトン
の製造に、請求項第1項のアリールエーテルケトンを使
用する方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3700809.9 | 1987-01-14 | ||
DE19873700809 DE3700809A1 (de) | 1987-01-14 | 1987-01-14 | Aryletherketone |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63188645A true JPS63188645A (ja) | 1988-08-04 |
Family
ID=6318771
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63003930A Pending JPS63188645A (ja) | 1987-01-14 | 1988-01-13 | アリールエーテルケトン |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4835242A (ja) |
EP (1) | EP0275037A3 (ja) |
JP (1) | JPS63188645A (ja) |
DE (1) | DE3700809A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE68908016T2 (de) * | 1988-05-31 | 1994-03-03 | Mitsubishi Chem Ind | Verfahren zur Herstellung eines Phenolats und dessen Verwendung in einem Verfahren zur Herstellung eines aromatischen Polyether-Ketons. |
CN110437427A (zh) * | 2019-08-05 | 2019-11-12 | 江西师范大学 | 一种叔丁基聚芳醚酮树脂及其制备方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1052389A (ja) * | 1964-03-24 | |||
GB1052390A (ja) * | 1964-03-24 | |||
FR1601792A (ja) * | 1968-12-17 | 1970-09-14 | ||
US3738962A (en) * | 1971-03-08 | 1973-06-12 | Minnesota Mining & Mfg | Cyanurates of cyanatophenyl-terminated polyarylene ethers |
EP0001879B2 (en) * | 1977-09-07 | 1989-11-23 | Imperial Chemical Industries Plc | Thermoplastic aromatic polyetherketones, a method for their preparation and their application as electrical insulants |
ES8306085A1 (es) * | 1981-07-08 | 1983-05-01 | Raychem Corp | "un procedimiento para la preparacion de cetonas aromaticas". |
US4616056A (en) * | 1985-05-16 | 1986-10-07 | Raychem Corporation | Poly(aryl ether ketones) containing sulfur |
US4731429A (en) * | 1985-06-17 | 1988-03-15 | Amoco Corporation | Novel poly(aryl ether ketones) |
US4613645A (en) * | 1985-08-12 | 1986-09-23 | Union Carbide Corporation | Silicon carbide reinforcement of poly(aryl ether ketones) |
-
1987
- 1987-01-14 DE DE19873700809 patent/DE3700809A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-01-08 EP EP88100149A patent/EP0275037A3/de not_active Withdrawn
- 1988-01-11 US US07/142,798 patent/US4835242A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-01-13 JP JP63003930A patent/JPS63188645A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0275037A2 (de) | 1988-07-20 |
DE3700809A1 (de) | 1988-07-28 |
EP0275037A3 (de) | 1990-05-16 |
US4835242A (en) | 1989-05-30 |
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